「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)

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  • Otherwise, data of edge roughness in a sufficiently long area are divided, and fitting by statistic processing and logic calculation is performed thereto, and a long period roughness and a short period roughness corresponding to an optional inspection area are calculated and displayed on a length measuring SEM.
    または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁
  • The substrate for an electronic device has a pair of main surfaces opposite to each other, the surface roughness of the main surface is 0.4 nm or less at RMS (root mean square roughness), and both main surfaces are different in surface roughness.
    基板は対向する一対の主表面を有し、前記主表面の表面粗さがRMS(二乗平均平方根粗さ)で0.4nm以下であり、且つ、両主表面の表面粗さが異なるように構成される電子デバイス用基板とした。 - 特許庁
  • By the use of a surface creating thin plate with desired surface roughness formed or a surface creating mold and a laser for melting an object to be worked in various shapes, surfaces of objects of various materials can be smoothed in surface roughness lower than conventional surface roughness.
    所望の表面粗さを形成した表面創成用薄板あるいは表面創成用型と、被加工物を溶融するレーザを用いて、様々な形状で、各種材質の被加工物の表面を従来より小さな表面粗さでの平滑化を実現できる。 - 特許庁
  • Provided is the image forming method using the developing roller having relation; 10R≤Sm≤30R and R/5≤Ra≤R/2 wherein roughness imparting particles are contained in a resin layer and an interval between the roughness imparting particles in the resin layer is Sm, the average center line roughness of the resin layer is Ra, and the volume reference median diameter of the toner is R.
    粗さ付与粒子を樹脂層中に含有し、樹脂層の粗さ付与粒子の間隔をSm、樹脂層の平均中心線粗さをRa、トナーの体積基準メディアン径をRとしたとき、10R≦Sm≦30R、R/5≦Ra≦R/2の関係を有する現像ローラを用いる画像形成方法。 - 特許庁
  • men associate the roughness of nonstandard working-class speech with masculinity
    男性は特殊労働者階級のスピーチの荒さを男らしさに関連づける - 日本語WordNet
  • The surface roughness increasing treatment is performed by sol-gel treatment, ion irradiating treatment, chromium treatment or titanium treatment.
    表面粗さ増加処理は、ゾルゲル処理、イオン照射処理、クロム処理、チタン処理により行う。 - 特許庁
  • To reduce windage loss and noise by smoothing roughness of surfaces of an impeller and a housing.
    インペラ及びハウジングの表面の凹凸を滑らかにすることにより、風損や騒音を減少させる。 - 特許庁
  • To obtain a polyimide composition capable of being subjected to surface roughness by alkali etching.
    アルカリエッチングによる表面粗化が可能なポリイミド組成物を得る。 - 特許庁
  • Therefore, the roughness of the circumferential surface of the roller main body can be determined objectively from the distance variance.
    従って、距離の分散から、ローラ本体の外周面の粗さを客観的に判定することができる。 - 特許庁
  • The abutting face 21 has lower degree of roughness than that of the abutting face 22 and is formed into a smooth condition.
    当接面21は当接面22よりも粗度が低く平滑な状態に形成されている。 - 特許庁
  • To form an oxynitride film which can be controlled satisfactorily in film thickness, nitrogen content, interface roughness, and nitrogen position.
    膜厚の制御、窒素量の制御、界面ラフネス、窒素位置の制御に優れる酸窒化膜を形成する。 - 特許庁
  • ELECTROCHEMICAL MACHINING PROCESS FOR FORMING SURFACE ROUGHNESS ELEMENT ON GAS TURBINE SHROUD
    ガスタービンシュラウド上に表面凹凸要素を形成するための電気化学的研磨方法 - 特許庁
  • The antireflection film has irregularities of 1 to 30 μm arithmetic mean roughness (Ra).
    算術平均粗さ(Ra)が1μm〜30μmの凹凸を有する反射防止膜。 - 特許庁
  • Surface roughness Ra of the spacer layer 5b is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.
    前記スペーサー層5bの表面粗さRaは、該スペーサー層5bの膜厚以下である。 - 特許庁
  • The net 3 is a polyethylene net with a thickness of 0.3 mm, and the roughness of mesh is 20.
    ネット3は、0.3mm厚のポリエチレン製ネットであり、網目の粗さは20メッシュである。 - 特許庁
  • The roughness acts as a nucleus for crystal growth, over which a ferroelectrics thin film is formed.
    この荒れを結晶成長の核として作用させて、その上面に強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁
  • The surface roughness Rz of the silicon nitride substrate 11 is more than 3 μm and less than or equal to 20 μm.
    この場合、窒化珪素基板11の表面粗さRzが3μmより大きく20μm以下である。 - 特許庁
  • The surface roughness of the stainless steel wire for the spring is 1.5-2.3 μm.
    また、ばね用ステンレス鋼線の表面粗さは1.5〜2.3μmとなっている。 - 特許庁
  • INTERFACE ROUGHNESS REDUCING FILM, WIRING LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    界面ラフネス緩和膜、配線層、半導体装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • The magnet body 2 has a surface arithmetic mean roughness (Ra) of 0.08 to 0.8 μm.
    また、磁石素体2は、その表面の算術平均粗さ(Ra)が、0.08〜0.8μmである。 - 特許庁
  • (2) A ten point average roughness Rz is 0.4-1.6 μm by the barrel polishing.
    (イ)前記バレル研磨により10点平均粗さRzが0.4〜1.6μmである。 - 特許庁
  • The thumbing operation part S is provided with roughness M to be channels having <0.5 mm depth.
    サミング操作部Sには、深さ0.5mm未満の溝とされた凹凸Mが形成されている。 - 特許庁
  • Furthermore, the surface roughness of the interior surface of the polyimide belt is Rmax3μm and below.
    また、前記ポリイミドベルトの内面の表面粗さがRmax3μm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
  • MANUFACTURING OF TRANSISTOR GATE AND METHOD FOR DECREASING ROUGHNESS OF HIGH DIELECTRIC CONSTANT GATE DIELECTRIC
    トランジスタゲートの製造及び高誘電率ゲート誘電体の粗さを減少する方法 - 特許庁
  • Planarization treatment for reducing surface roughness of side surfaces of substrates 11 and 13 of the liquid crystal cell is performed.
    液晶セルの基板11、13の側面の表面粗さを減少させる平坦化処理を施す。 - 特許庁
  • In addition, it is also manufactured without a step for removing surface roughness larger than the mean free path.
    また、平均自由行程よりも大きい表面粗さを、取り除く工程を省略して製造する。 - 特許庁
  • In this case, the sphericity and surface roughness of this ball 10 are made excellent.
    このとき、このボール10の真球度及び表面粗度が良好になるようにする。 - 特許庁
  • At that time, it is suitable that the surface roughness on the joining surfaces of metals is made to ≤1μm at Rmax.
    このとき金属の接合面の表面粗さをRmaxで1μm以下とすることが好適である。 - 特許庁
  • To suppress drop in the negative pressure in a vacuum servo unit for braking force through the roughness control.
    ラフネス制御によりブレーキの真空倍力装置の負圧が低下するのを抑制する。 - 特許庁
  • Concretely, the preferable surface roughness Ra of the transparent conductive film 81 is 0.1 to 20 nm.
    具体的には、透明導電膜81の表面粗さRaは、0.1〜20nmであるのが好ましい。 - 特許庁
  • Surface roughness Ra of the disk substrate 1 is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.
    前記ディスク基板1の表面粗さRaは、前記スペーサー層5bの膜厚以下である。 - 特許庁
  • To provide an ion implanting layer where the disturbance of crystal and the roughness of a crystal surface is reduced.
    結晶の乱れ及び結晶表面の荒れを低減させたイオン注入層を提供する。 - 特許庁
  • The surface roughness Ra of the galvanized steel sheet satisfies 0.7 μm≤Ra≤1.7 μm.
    前記亜鉛系めっき鋼板の表面粗度Raは0.7μm≦Ra≦1.7μmである。 - 特許庁
  • The weighted average roughness of the cellulose fiber is 0.20-0.30 mg/m in the dry nonwoven fabric.
    セルロース繊維の加重平均粗度が、0.20〜0.30mg/mである前記の乾式不織布。 - 特許庁
  • In addition, the paper state is surface roughness of paper that affects the largeness of the dots.
    また、用紙の状態とは、ドットの大きさに影響を及ぼす用紙の表面粗さなどである。 - 特許庁
  • Thereby, the surface of the aluminum alloy has a surface roughness of Ra=2.0 to 4.0 μm.
    これにより、アルミニウム合金の表面について、表面粗さRa=2.0〜4.0μmとなる。 - 特許庁
  • Furthermore, the familiarity layer is preferably formed in larger coating thickness than the maximum surface roughness of the wear-resisting layer.
    さらに好ましくは、なじみ層を耐摩耗層の最大表面粗さよりも大きい膜厚で形成する。 - 特許庁
  • The surface roughness of the barrier metal film 133-side surface of the polysilicon film 131 is 3 nm or above.
    ポリシリコン膜131のバリアメタル膜133側の表面の表面粗さは、3nm以上である。 - 特許庁
  • The surface roughness (Ra) of a black resin film is set to 0.5-5.0 μm.
    また、さらに黒色樹脂皮膜の表面粗さ(Ra)を0.5〜5.0μmにする。 - 特許庁
  • The thin film has ruggedness with the arithmetic average roughness Ra of ≤1 μm, on the surface.
    前記薄膜は、算術平均粗さRaが1μm以下の凹凸を表面に有することを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device having an ohmic electrode with small surface roughness and a method for manufacturing the same.
    表面荒れの小さいオーミック電極を有する半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Grains on the surface of the outermost layer have a surface roughness (Ra) within a range of 1.0 to 4.0 μm.
    前記最外層表面のグレインは、表面粗さ(Ra)で、1.0〜4.0μmの範囲内となっている。 - 特許庁
  • To prevent defective shapes such as abrasion and surface roughness that occur on a semiconductor substrate.
    半導体基板に発生する削れ及び面あれ等の形状不良を防止する。 - 特許庁
  • Ununiform roughness 50 of 1-100 μm depth is formed across the entire surface of spacers.
    スペーサの表面全体に渡り、深さ1ないし100μmの不均一な凹凸50が形成されている。 - 特許庁
  • The machining to increase the surface roughness such as knurling is applied to the through hole 31a.
    貫通孔31aにはローレット加工等の表面粗度を増大させる加工を施している。 - 特許庁
  • Surface roughness parameter Ryni of the surface on which the dents are provided is in a range 0.4 μm≤Ryni≤1.0 μm.
    くぼみを設けた面の面粗さパラメータRyniが0.4μm≦Ryni≦1.0μmの範囲内である。 - 特許庁
  • To provide an image processing apparatus for electrophotography for forming an image with image quality wherein the roughness is less.
    ざらつき感の少ない画質の画像を形成する電子写真用の画像処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The average surface roughness of the groove bottom center line of the spiral grooves 18 is 0.8 μm or below.
    螺旋状溝18の溝底部の中心線平均表面粗さは、0.8μm以下になっている。 - 特許庁
  • A surface roughness of the pad adhesion surface 2a is 0.15 μm to 0.3 μm.
    パッド貼付面2aの表面粗さRaは0.15μm〜0.3μmである。 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS, AND METHOD OF DIAGNOSING DEGRADATION OF TURBINE
    表面粗さの計測方法および装置およびタービンの劣化診断方法 - 特許庁
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