「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)

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  • This painted metallic plate A for the substrate for adhering the decorative member to its surface has arithmetic average roughness of 1.0 μm or more as surface roughness.
    化粧材を表面に付着させる下地用塗装金属板Aにおいて、表面粗度として算術平均粗さが1.0μm以上を有する。 - 特許庁
  • Then, the roughness of the regular measurement range is measured under the condition for measuring the roughness (fine sampling pitch.slow measuring speed) (S25).
    次にこの本測定範囲を粗さ測定用の測定条件(細かいサンプリングピッチ・遅い測定速度)で粗さ測定を行う(S25)。 - 特許庁
  • In this case, the major surfaces 52 and 53 have uneven faces 58 each of which exhibit a surface roughness Ra of 0.249 μm and a surface roughness Rz of 0.793 μm.
    なお、主面52,53は凹凸部58を有しており、表面粗さRaは0.249μm、表面粗さRzは0.793μmとなる。 - 特許庁
  • Roughness parts are prepared to the connecting parts of each of the wrapping case 7 and 8 and are fixed along the roughness parts.
    外装ケース7、外装ケース8の接合部分に凹凸部を設け、この凹凸部に沿ってはめ合わせる。 - 特許庁
  • To recover roughness necessary to reuse a laser textured roll to desired roughness by again executing laser texturing without grinding.
    レーザダル加工ロールを再使用するために、必要な粗度を、研削せずに、再度レーザダル加工により所望の粗度を回復させるものである。 - 特許庁
  • To provide an apparatus for measuring surface roughness of a cylindrical object capable of efficiently measuring the surface roughness of a plurality of cylindrical objects.
    複数の筒状体に対して効率的に表面粗さの測定を行うことが可能な筒状体の表面粗さ測定装置を提供する。 - 特許庁
  • Roughness of the uppermost surface is preferably 0.1 to 3 μm expressed by the arithmetic mean roughness Ra specified by JIS B0601.
    最表面の粗さは、JIS B0601に規定される算術平均粗さRaで表して0.1〜3μmであることが好適である。 - 特許庁
  • Regarding the surface roughness of the developing sleeve 68, the surface roughness Ra of the part except the parts where the grooves 74 are formed is ≤0.3 μm.
    現像スリーブ68は、溝74が形成されている以外の表面粗さがRa0.3μm以下である。 - 特許庁
  • The surface roughness Ra of the first coating layer is specified to be lower than the surface roughness Ra of the substrate and the thickness of the second coating layer is specified to be ≤150 nm.
    第1の塗布層の表面粗さRaを支持体の表面粗さRaより小とし、第2の塗布層の厚さを150nm以下とする。 - 特許庁
  • A difference is given to grinding work for the cage 12 to keep the surface roughness of an outer diameter guide face 12d better than the surface roughness of the end face of an annular portion 12a.
    保持器12の研削加工に差を付けて、外径案内面12dの面粗度を環状部12a端面の面粗度よりも良好としている。 - 特許庁
  • This judging method judges that the interference color will not appear as long as the galvanized steel sheet has a surface roughness of 0.4 μm or more by arithmetic mean roughness Ra.
    表面粗さが、算術平均粗さRaで0.4μm以上であることをもって干渉色が抑制されていると判定する。 - 特許庁
  • Further, the arithmetic average roughness Ra of the plating surface is controlled to 0.7 to 1.5 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: PPI (peaks per inch) is controlled to ≥150.
    さらに、めっき表面の算術平均粗さRa:0.7〜1.5 μm、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数:PPI が150 以上とする。 - 特許庁
  • To provide a positive resist composition which prevents falling of a pattern and ensures improved edge roughness, density dependence and surface roughness in etching.
    パターン倒れが防止され、エッジラフネス、疎密依存性、及びエッチング時の表面荒れが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a precise and simple method of inspecting a surface roughness reduced in a measuring time for a magnetic recording medium having 1.5 nm or less of average roughness.
    平均粗さが1.5nm以下の磁気記録媒体に対して、精度が高く、簡便で、測定時間が短い表面粗さの検査方法。 - 特許庁
  • Surface roughness of the side surface 7 of the second raceway plate 2 is made rougher than surfaces roughness of the side surface 6 of the first raceway plate 1.
    上記第二軌道板2の側面7の表面粗さを、上記第一軌道板1の側面6の表面粗さよりも粗くする。 - 特許庁
  • The surface roughness of the DLC film 20 is set at 0. 05 μm or less in centerline average roughness Ra and set at 0.5 μm or less at maximum height Rmax.
    また、DLC膜20の表面粗さを、中心線平均粗さRaで0.05μm以下とし、最大高さRmaxで0.5μm以下にする。 - 特許庁
  • Each assessment can assess surface's Mid-Spatial Frequency Roughness(MSFR), High-Spatial Frequency Roughness (HSFR) or both.
    各評価では、表面の中空間周波数ラフネス(MSFR)、高空間周波数ラフネス(HSFR)、またはその両方を評価することができる。 - 特許庁
  • Surface roughness information about the surface roughness of the same transfer material (the value of a current flowing in a pair of registration rollers, which are metal rollers) is detected.
    同じ転写材に対して表面凹凸に関する表面凹凸情報(金属ローラであるレジストローラ対に流れる電流値)を検知する。 - 特許庁
  • The face roughness of the inside face 31b is made 1.6 μm at most in the average roughness of the central line and the maximum height is made 6.3 μm at most.
    また、内側面31bの面粗さを中心線平均粗さで1.6μm以下、最大高さで6.3μm以下とした。 - 特許庁
  • Surface roughness (Ry) of the substrate having been ground is preliminarily measured, and the thickness which is 10 times as large as the measured surface roughness is determined as a thickness Th1 by which the substrate is to be removed.
    研削後の基板の表面粗さ(Ry)を予め測定しておき、その10倍をエッチングにより除去すべき厚さTh1とする。 - 特許庁
  • The ratio of the maximum roughness Rt to the average roughness Ra, and Rt/Ra is ≤10.
    平均粗さRaと最大粗さRtの比Rt/Raが10以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁
  • The surface roughness value Rz obtained by ten-point average roughness is preferably within a predetermined range.
    また、十点平均粗さにより求めた表面粗さ値Rzが所定の範囲内であることが好適である。 - 特許庁
  • The indium target has an arithmetical mean roughness (Ra) of 1.6 μm or less on a target surface and a ten-point mean roughness (Rz) of 15 μm or less.
    インジウムターゲットは、ターゲット表面の算術平均粗さ(Ra)が1.6μm以下である。 - 特許庁
  • METHOD FOR EVALUATING SURFACE ROUGHNESS OF BASE BODY FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR AND METHOD FOR EVALUATING SURFACE ROUGHNESS OF UNDERLAYER FACE ADJACENT TO PHOTOSENSITIVE LAYER
    電子写真感光体用基体の表面粗さ評価方法および感光層隣接下層面の表面粗さ評価方法 - 特許庁
  • The coating layer has a surface roughness, expressed as an arithmetic average roughness height (Ra), of 1/20-1/65 against the thickness of the fired product.
    コート層を、算術平均粗さ(Ra)で、被焼成体の厚さに対し、1/20〜1/65の表面粗さとする。 - 特許庁
  • The surface roughness is adjusted, for example, by containing a roughness adjusting agent in the film, and the content in such a case is about 2-20 pts.wt.
    表面粗さ調整は例えば粗さ調整剤をフィルムに含有することで行え、その場合の含有量は2重量部〜20重量部程度。 - 特許庁
  • A difference between the surface roughness Ra of the fixed face 4 and the surface roughness Ra of the resin molding face 3 is smaller than ±30%.
    固定面4の表面粗さRaと樹脂成形面3の表面粗さRaとの差が、±30%未満となっている。 - 特許庁
  • The substrate has a surface roughness less than 0.45 μm expressed as an arithmetic-mean center line roughness Ra.
    支持体は、算術平均中心線粗さRaとして表される0.45μm未満の表面粗さを特徴とする。 - 特許庁
  • The wiring body has the plated composition layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness thereof is in the range of 0.1-0.5 μm.
    本発明の配線体は、メッキ組成層を有し、表面粗さの算術平均粗さRaが0.1〜0.5μmの範囲内にある。 - 特許庁
  • (2) In the above (1) preventive method, the roughness on the outer tube surface is desirably ≤10 μm average roughness Ra.
    (2)上記(1)の転炉吹錬用ランスの地金付着防止方法では、吹錬用ランスの外管表面粗さを平均粗さRaで10μm以下にするのが望ましい。 - 特許庁
  • the roughness of her voice was a signal to keep quiet
    彼女が声を荒げたのは、静かにするための合図であった - 日本語WordNet
  • a mild form of ichthyosis characterized by abnormal dryness and roughness of the skin
    皮膚の異常な乾燥と粗さによって特徴づけられる軽症の魚鱗癬 - 日本語WordNet
  • Hojicha has almost no bitterness or roughness in its taste and is quite smooth.
    苦みや渋みはほとんどなく、口当たりはあっさりしている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • ALKALI ETCHANT FOR CONTROLLING SURFACE ROUGHNESS OF SEMICONDUCTOR WAFER
    半導体ウェーハの表面粗さ制御用アルカリエッチャント - 特許庁
  • PRECAST CONCRETE PRODUCT IMPROVED IN ROUGHNESS COEFFICIENT AND ITS MANUFACTURING METHOD
    粗度係数を改善したプレキャストコンクリート製品とその製法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF PRECAST CONCRETE PRODUCT IMPROVED IN ROUGHNESS COEFFICIENT
    粗度係数を改善したプレキャストコンクリート製品の製法 - 特許庁
  • POLYIMIDE COATED METAL FOIL OF LOW RELATIVE ROUGHNESS AND METHOD FOR SURFACE PROCESSING METAL FOIL
    ポリイミド付き低粗度金属箔および金属箔表面の処理方法 - 特許庁
  • The surface roughness of the surface 10 is larger than the prescribed wavelength.
    表面10は、所定の波長よりも大きな表面粗さである。 - 特許庁
  • A surface roughness Ra of the substrate 2 is 0.1 to 0.8 μm.
    基板2の表面粗さRaは0.1μm〜0.8μmである。 - 特許庁
  • HIGH STRENGTH HOT-ROLLED STEEL SHEET WITH HIGH WORKABILITY DUE TO LITTLE DIRECTIONAL SURFACE ROUGHNESS
    表面粗さの方向性の少ない高加工性高強度熱延鋼板 - 特許庁
  • To perform machining with fine surface roughness at high machining speed and with high efficiency.
    加工スピードが速く高能率で、表面粗度の細かい加工を行う。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor heterostructure having small surface roughness.
    より小さな表面凹凸をもつ半導体ヘテロ構造を提供すること。 - 特許庁
  • Moreover, the surface roughness (Ra) of the black resin film is 0.5 to 5.0μm.
    また、黒色樹脂皮膜の表面粗さ(Ra)を0.5〜5.0μmにする。 - 特許庁
  • To provide TiO_2-SiO_2 glass suitable as a substrate having small surface roughness.
    面粗さの小さい基板として適当なTiO_2−SiO_2ガラスの提供。 - 特許庁
  • To inspect a substrate such as a semiconductor substrate for surface roughness at high precision.
    半導体基板などの基板の表面あれを高精度に検査する。 - 特許庁
  • As a result, the surface roughness of the wafer can be improved.
    その結果、ウェーハ表面粗さを改善することができる。 - 特許庁
  • A surface roughness Rz of the sintered magnet 1 is 3.5 μm or less.
    焼結磁石1の表面粗さRzは、3.5μm以下である。 - 特許庁
  • The above distance variance corresponds to the roughness of the circumferential surface of the roller main body well.
    距離の分散は、ローラ本体の外周面の粗さに良く対応する。 - 特許庁
  • Arithmetic average roughness in the upper surface of the layer 12B_n is 2nm or less.
    この層12B_nの上面の算術平均粗さは2nm以下である。 - 特許庁
  • The pulp having a fiber roughness of <0.18 mg/m is used.
    パルプとしてその繊維粗度が0.18mg/m未満であるものを用いた。 - 特許庁
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