「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 128 129 次へ＞- X-Y DRIVE MECHANISM OF SURFACE ROUGHNESS MEASURING DEVICE
表面粗さ測定器のＸ−Ｙ駆動機構 - 特許庁 - METHOD FOR ADJUSTING SURFACE ROUGHNESS OF STEEL STRIP AND STEEL STRIP
鋼帯の表面粗さの調整方法及び鋼帯 - 特許庁 - The rhombus roughness 25 also has four sides 28.
また、菱形となる粗度２５は、四つの辺２８を有している。 - 特許庁 - The maximum height Ry of the surface roughness is ≤0.5 μm.
表面粗さの最大高さＲｙが０．５μｍ以下である。 - 特許庁 - TRIAL ARTICLE WITH MINUTE ROUGHNESS PATTERN AND PREPARING METHOD THEREOF
微細凹凸模様付試作品及びその作製方法 - 特許庁 - A surface roughness of the solder joint is measured, a relationship between surface roughness and time is determined from the measured surface roughness and an initial surface roughness, the time until a precedently measured surface roughness of when the crack occurs is calculated from the relationship between the surface roughness and time, and the service life of the solder joint is estimated.
はんだ接合部の表面粗さを測定し、測定した表面粗さと初期の表面粗さから表面粗さと時間の関係を求め、この表面粗さと時間の関係からあらかじめ測定しておいたき裂が発生する表面粗さに達するまでの時間を算出し、はんだ接合部の寿命を推定する。 - 特許庁 - The surface roughness was measured by using a high precision surface roughness meter ZZ produced by XX manufacturing Co. Ltd. under the conditions of cut-off value 0.25mm and ZX.
表面粗さは(株)××製作所の高精度表面粗さ計△△を用いて測定し、カットオフ0.25mm、及び△×の条件で測定した。 - 特許庁 - The arithmetic average roughness Ra of the surface of the high polymer film is smaller than the arithmetic average roughness Ra of the surface of the toner carrier 12.
高分子フィルム表面の算術平均粗さＲａは、トナー担持体１２表面の算術平均粗さＲａより小さい。 - 特許庁 - The arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 9 on the rear surface side is larger than the arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 5 on the surface side.
裏面側の酸化インジウム層９の算術平均粗さ（Ｒａ）は、表面側の酸化インジウム層５の算術平均粗さ（Ｒａ）より大きい。 - 特許庁 - The recess 3 has preferable and moderate roughness that is formed by laser light and the roughness is suitable for coating YAG series phosphor 4.
凹部３はレーザー光による形成が適度の荒れを生じて好ましく、ＹＡＧ系蛍光体４を塗布しやすい。 - 特許庁 - The surface roughness of the wall surfaces of the drainage grooves 10 is an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤2.0 μm defined by Japan Industrial Standard (JIS).
排水溝１０の壁面の表面粗さは、日本工業規格で規定する算術平均粗さ（Ｒａ）で、２．０μｍ以下である。 - 特許庁 - To obtain a resist material which causes neither surface roughness nor pattern roughness to exposure light of which the wavelength is 300 nm band or less.
波長が３００ｎｍ帯又はそれ以下の露光光に対して、表面荒れ及びパターンラフネスが生じないレジスト材料を得られるようにする。 - 特許庁 - Surface roughness Ys in the Y direction is, formed so that Ys/Xs which is a ratio to the surface roughness Xs becomes at most 0.7.
そして、Ｙ方向の表面粗さＹｓを、表面粗さＸｓに対する比Ｙｓ／Ｘｓが０．７以下になるように形成する。 - 特許庁 - The surface roughness (center line average roughness Ra) is 0.01-0.50 μm on the tape face 1a on the side unevenly distributed with the inorganic filler 2.
無機フィラー２が偏在している側のテープ面１ａの表面粗度（中心線平均粗さＲａ）は0.01〜0.50μｍである。 - 特許庁 - METHOD FOR OBTAINING ROUGHNESS OF PATTERN FORMED SUBSTRATE, AND DEVICE FOR OBTAINING ROUGHNESS OF PATTERN FORMED SUBSTRATE
パターンの形成された基板の粗さを得る方法、パターンの形成された基板の粗さを得るための装置 - 特許庁 - Then, a surface roughness reducing process for reducing the surface roughness of the surface of the side of the ABS of the bar 102 is performed.
その後、バー１０２のＡＢＳ側の面の表面粗さを低減する表面粗さ低減工程を行う。 - 特許庁 - In this sample table for the electron microscope, surface roughness of a surface is set to 0.05 to 1.0 μm in arithmetical mean roughness Ra stipulated in JIS B 0601.
表面の面粗さがＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）で０．０５〜１．０μｍとしてなる電子顕微鏡用試料台。 - 特許庁 - To provide a mask inspection method and an apparatus therefor in which a defect can be detected stably even in a region where surface roughness varies.
表面ラフネス（roughness）が変化している領域においても、安定して欠陥を検出することができるマスク検査方法およびその装置を提供する。 - 特許庁 - The surface roughness measurer 140 operates when the lay-on roll 135 is positioned at the retreated position, and measures the surface roughness of the lay-on roll 135.
表面粗さ測定器１４０は、レイオンロール１３５が退避位置に位置している間に作動し、レイオンロール１３５の表面粗さを測定する。 - 特許庁 - The roughness of image data to be processed in the vicinity of each pixel is found and whether the roughness is a prescribed threshold or more is evaluated.
処理対象となる画像データの各画素近傍でのきめの粗さをそれぞれ求め、このきめの粗さが所定の閾値以上であるか否かを評価する。 - 特許庁 - In the insulating film 2, a surface roughness Ra and another surface roughness Rz satisfy the inequalities: Ra<0.20 μm and Rz<2.0 μm.
絶縁膜２の表面粗さＲａおよびＲｚは、Ｒａ＜０．２０μｍおよびＲｚ＜２．０μｍの関係を満たす。 - 特許庁 - The film 2 is closely adhered to the stand 6 and a roughness corresponding to the roughness of the stand 6 is formed on and in the surface of the film 2.
ＰＥＴフィルム２は保持台６と密着し、ＰＥＴフィルム２の表面には保持台６の凹凸に対応した凹凸が形成される。 - 特許庁 - The surface roughness required for an antenna substrate of microwaves is satisfied because the surface roughness of the sintered compact is small.
また焼結体の表面粗さが小さいので、マイクロ波のアンテナ基板などに要求される表面粗さを満足する。 - 特許庁 - The guide roller has characteristically an average surface roughness of ≤0.2 μm and/or the maximum surface roughness of ≥0.8 μm.
該ガイドローラーは、平均表面粗さが０．２μｍ以下及び／又は最大表面粗さが０．８μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The surface of the tactile sensor has preferably 0.005-2mm of roughness as an arithmetic average roughness Ra specified by JIS B0601.
また、触覚センサ１０の表面の粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として０．００５〜２ｍｍであることが好ましい。 - 特許庁 - To provide an evaluation method of rear surface roughness of a semiconductor wafer for evaluating rear surface roughness easily.
半導体ウェーハの裏面粗さ評価方法に関し、簡便に裏面の粗さを評価することができるようにする。 - 特許庁 - The cartridge is formed, in such a way that the surface roughness of a predetermined region is larger than a predetermined surface roughness.
そのカートリッジは、所定領域の表面粗さが所定の表面粗さより大きくなるように、形成されている。 - 特許庁 - Further, the difference between arithmetic average roughness Ra of the rough part 12 and arithmetic average roughness Ra of the flat part 11 is within a range of 0.5-10.0 μm.
また、粗部１２の算術平均粗さＲａと、平滑部１１の算術平均粗さＲａとの差が、０．５〜１０．０μｍになされている。 - 特許庁 - Surface roughness of an inner surface of the circuit groove 4 is less than surface roughness of an inner surface of the through hole 5.
前記回路溝４の内面の表面粗さが、前記通孔５の内面の表面粗さよりも小さいことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.
優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a substrate excelling in flatness and average roughness and surface roughness measured on a maximum scale of 10 points and having a smooth surface.
基板の平坦度、十点平均粗さおよび表面粗さに優れ、基板表面を平滑にする基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide a novel method for evaluating roughness that is suitable for measurement of roughness of a pattern on a wafer.
ウェハ上のパターンのラフネスを測定するのに適した新たなラフネス評価方法を提供する。 - 特許庁 - Here, Rm and Sm are respectively the arithmetic average roughness and the average interval of roughness measured based on JIS (Japanese Industrial Standards) B0601:1994.
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。） - 特許庁 - Here, surface roughness Sa of the lubricant layer 14 is 0.2 μm or more and 1.4 μm or less in the three-dimensional surface roughness.
ここで、潤滑層１４の表面粗さＳａは、三次元表面粗さで０．２μｍ以上かつ１．４μｍ以下となっている。 - 特許庁 - The permission upper limit value of surface roughness of a rolling surface of the outer ring 51 is 0.3 μm at a central line average roughness (Ra) and 0.2 μm at a lower limit value.
外輪５１の転走面の面粗度の許容上限値は、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．３μｍであり、下限値が０．２μｍである。 - 特許庁 - (2) The cathode has a surface roughness adjusted to 10 to 20 μm in terms of a value expressed by five points standard roughness (Rz).
（２）カソードの表面粗さは、５点標準粗さ（Ｒｚ）で表した値で１０〜２０μｍになるように粗さ調整する。 - 特許庁 - (2) The cathode has a surface roughness adjusted to 10 to 20 μm in terms of a value expressed by five points standard roughness (Rz).
（２）カソードの表面粗さが、５点標準粗さ（Ｒｚ）で表した値で１０〜２０μｍになるように粗さ調整する。 - 特許庁 - The roughness forming particle 22 is preferably harder than components of the surface layer 18 present around the roughness forming particle 22.
粗さ形成用粒子２２の硬さは、粗さ形成用粒子２２の周りに存在する表層１８の構成成分の硬さよりも硬いことが好ましい。 - 特許庁 - The surface of the base material 1a is adjusted so that the arithmetic mean roughness Ra is ≤0.5 μm and a maximum roughness Rz is ≤5 μm.
基材１ａの表面は算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、最大粗さＲｚが５μｍ以下となるように調整されている。 - 特許庁 - The surface roughness of a separating plate 19a opposed to a feed roller 15, out of the separating plates 19, is greater than the surface roughness of other separating plates 19.
分離板１９のうち、給紙ローラ１５と対向する分離板１９ａの表面粗さが、他の分離板１９の表面粗さよりも粗い。 - 特許庁 - To provide a roughness measuring device for measuring the roughness of a tooth flank while moving along the tooth flank of a gear.
歯車の歯面に沿って移動しながら歯面粗さの測定を行うことができる粗さ測定装置を提供する。 - 特許庁 - The roughness measuring device 1a thus constructed can measure the surface roughness of the measured object 2 in a non-contact and non-optical method.
このように構成された粗さ測定装置１ａは、被測定物体２の表面粗さを非接触且つ非光学方式で測定することができる。 - 特許庁 - The surface roughness of each of the rolling surface of the roller 3 and a raceway surface 1a of the inner ring 1 is less than the surface roughness of a raceway surface 2a of an outer ring 2.
また、ころ３の転がり面および内輪１の軌道面１ａの表面粗さを、外輪２の軌道面２ａの表面粗さよりも小さくする。 - 特許庁 - Roughness of at least one of the sides of the film is 0. 02-1 μm in center line average roughness (Ra).
また、前記ポリエステルフィルムは少なくとも片面の粗さが、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．０２〜１μｍである。 - 特許庁 - The metallic material for a wiring connection fixture has an average roughness Ra of ≤0.3 μm and a maximum roughness Rt of ≤2.0 μm.
平均粗さＲａが０．３μm以下で、かつ、最大粗さＲｔが２．０μm以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁 - Surface roughness of the inner wall 33 of the lower mold 31 is transferred to the newly generated face 25 and the positioning reference part 23 having satisfactory surface roughness is formed.
新生面２５は下型３１の内壁部３３の面粗さを転写しており、面粗さの良い位置決め基準部２３が形成される。 - 特許庁 - Here, the surface roughness of the surface of the intermediate roller 405 is ≥3 μm in ten-point mean roughness Rz.
ここで、中間ローラ４０５の表面の表面粗さを、十点平均粗さＲｚで３μｍ以上とする。 - 特許庁 - Further, minute surface roughness which is the roughness of a portion other than a bubble portion of a surface in contact with an object to be polished is set to 1 to 3 μm.
また、被研磨物との接触面のうち、気泡部分以外の部分の表面粗さである微小表面粗さを、１μｍ〜３μｍとする。 - 特許庁 - This stranded wire is subjected to bluing at 420 to 460°C for 3 to 60 sec to control its tensile strength to ≥2300 MPa and its surface roughness to 2 to 15 μm by 10 point average roughness.
このより線を420℃〜460℃、３秒〜60秒でブルーイングして、引張強さを2300MPa以上とし、表面粗さを１０点平均粗さで２μｍ〜15μｍとする。 - 特許庁 - For the surface roughness Ra of the rear surface, a ratio (Rz/Ra) of Rz (ten-point average roughness) to Ra lies, preferably, in a range of 1 to 40.
裏面の表面粗さにおいて、Ｒｚ（十点平均粗さ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が１以上４０以下であるとよい。 - 特許庁
