「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 128 129 次へ＞- The multilayer film for protecting the backside of the solar cell includes a flat surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.1-0.5 μm, and a roughness surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.6-3.0 μm.
十点平均粗さＲｚが０．１〜０．５μｍの表面を備える平坦面層と、十点平均粗さＲｚが０．６〜３．０μｍの表面を備える粗面層とからなることを特徴とする、太陽電池裏面保護膜用積層フィルム。 - 特許庁 - To provide a method of evaluating surface roughness and its evaluation device capable of performing in-process evaluation of surface roughness having surface roughness of the order of a few μm to a few hundreds of μm by using ultrasonic scattering.
数μm〜数百μm程度の表面粗さを有する表面の粗さを、超音波散乱を利用してインプロセスで評価可能な表面粗さ評価方法および評価装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The sprayed deposit 3 has the following surface roughness: the average spacing S between local peaks is 50-150 μm; and the maximum valley depth of roughness Rv and the maximum peak height of roughness Rp are 20-70 μm, respectively.
溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁 - As for the hard film formed on the surface having smaller surface roughness, also the surface roughness of the hard film itself becomes small according to surface roughness of a surface to be formed and also mating attackability that the hard film itself has becomes small.
表面粗さの小さい面に形成された硬質皮膜は、この硬質皮膜自身の表面粗さも形成される面の表面粗さに応じて小さくなり、該硬質皮膜自身のもつ相手攻撃性も小さくなる。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus in which satisfactory transfer is realized by utilizing the texture of the surface roughness of a recording material P, even if its surface roughness is large, thus making uneven hue less likely to occur along the surface roughness.
記録材の表面粗さの風合いを生かして、表面粗さが大きくても良好な転写を実現でき、表面粗さに沿った色相ムラが形成されにくい画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Around the circular portion 46a, a ring portion 46b processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra), a ring portion 46c processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra) and a ring portion 46d processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra) are formed in order.
円形部分４６aの周りには、順に、面粗度０．４μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｂ、面粗度０．２μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｃ、面粗度０．４μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｄが形成されている。 - 特許庁 - Thus, the roughness-adjusting layer 20 acquires such surface roughness as to satisfy an arithmetic mean roughness Ra of 3 to 8 μm and a peak count Pc of 40 to 120/cm.
これにより、粗度調整層２０の表面粗さとして、中心線平均粗さＲａ＝３〜８μｍ、且つピークカウントＰｃ＝４０〜１２０／ｃｍが満足される。 - 特許庁 - The polyimide film has a tensile modulus of 2 GPa or more, an Ra (average surface roughness) of 5-150 nm, and an Ra/σ [(average surface roughness)/(standard deviation of average surface roughness)] of 2-5,000 and is particularly from a polyimide in which the residue of an aromatic diamine has a diamine residue having a benzoxazole skeleton.
引張弾性率が２ＧＰａ以上、Ｒａ（平均表面粗さ）が５〜１５０ｎｍ、Ｒａ／σ（（平均表面粗さ）／（平均表面粗さの標準偏差））が２〜５０００であるポリイミドフィルムでる。 - 特許庁 - To analyze behavior of a particle coming into contact with a member while taking a geometric shape of set surface roughness into consideration by setting the surface roughness when a surface of the member has the surface roughness.
部材の表面に表面粗さがある場合について、表面粗さの設定を行い、設定した表面粗さの幾何形状を考慮した部材と接触する粒子の挙動を解析する。 - 特許庁 - Then, processing for improving surface roughness Ra (reducing surface roughness Ra) is applied only to a surface-roughness improving processing region which is part of the conical orbit face 153.
そして、円すい状軌道面１５３の一部分である面粗度向上加工領域のみに対して面粗度Ｒａを向上する（面粗度Ｒａを小さくする）加工を施している。 - 特許庁 - To improve a machined surface roughness by preventing the machined surface roughness from becoming rougher than an ideal surface roughness due to an error at a connecting point position of an arced cutting edge ridge and a straight cutting edge ridge.
円弧状切れ刃稜と直線状切れ刃稜の接続点位置の誤差により、仕上面粗度が理想面粗さより粗くなるのを防ぎ、同面粗度を向上させる。 - 特許庁 - At this time, the roughness (interface roughness) of the base film is about 0.5 nm (RMS) or less so that the scattering loss may be not derived from reflecting the roughness on the surface of the multilayer reflection film 3.
このとき下地膜部分の粗さ（界面粗さ）はおよそ0.5nm（ＲＭＳ）以下であり多層反射膜３の表面に粗さが反映されて散乱損失の原因となることはない。 - 特許庁 - The surface roughness of the surface of the reduction part 5 is <1.40 μm in ten point average roughness Rz and <0.19 μm in a center line average roughness Ra.
上記リダクション部５の表面粗さは、十点平均粗さＲｚでは、１．４０μｍ未満であり、中心線平均粗さＲａであれば、０．１９μｍ未満である。 - 特許庁 - Average surface roughness on the substrate surface, in which the texture streak is formed, is in a range of ≥1 Å but ≤6 Å, and ratio for the maximum surface roughness to the average surface roughness on this surface is in the range of less than 10.
テクスチャ条痕を形成した基板表面における平均表面粗さが１Å以上、６Å以下の範囲にあり、この表面における平均表面粗さに対する最大表面粗さの比が１０未満の範囲にある。 - 特許庁 - A margin part 17a is provided on the outer peripheral part of the diamond compact, and the surface roughness of the margin part 17a is set to Rz1.0μm or more, which is a roughness corresponding to a required surface roughness for the inner surface of the machined hole.
ダイヤモンドコンパクトの外周部にはマージン部１７ａが設けられ、その面粗さをＲｚ１．０μｍ以上で、加工する穴の内面に要求される面粗さに対応した粗さとしてある。 - 特許庁 - The surface roughness of the bearing part 6 is 1.40-1.90 μm in a ten point average roughness Rz and 0.19-0.28 μm in a center line average roughness Ra.
上記ベアリング部６の表面粗さは、十点平均粗さＲｚであれば、１．４０μｍ以上１．９０μｍ以下であり、中心線平均粗さＲａであれば、０．１９μｍ以上０．２８μｍ以下である。 - 特許庁 - (2) In the material (1), the outermost surface on the image recording layer side and/or its opposite side has 0.05-0.5 μm center line average roughness Ra, 1-7 μm ten-point average roughness Rz and 2-10 μm maximum roughness Rt.
上記 において、画像記録層側及び／又はその反対側の最表面の、中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．５μｍ、十点平均粗さＲｚが１〜７μｍ、最大粗さＲｔが２〜１０μｍである。 - 特許庁 - A light-diffusing layer 2 having a rough surface having ≥2.0 μm arithmetic average roughness and/or ≥10.0 μm ten point average roughness obtained by the three-dimensional surface roughness measurement is laminated on a transparent supporting body 3.
３次元表面粗さ測定における算術平均粗さが２．０μｍ以上又は／及び十点平均粗さが１０．０μｍ以上であることを特徴とする凹凸表面を有する光拡散層２を透明支持体３上に積層する。 - 特許庁 - Expressing the roughness of the negative collector by a center average roughness Ra, the difference of the roughness between both sides thereof is preferably not more than 0.1 μm.
上記負極集電体の表面粗さを中心線平均粗さＲａで表したときに、その両面の表面粗さの差が０．１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - Additionally, the pulley sheave surfaces 1C, 1D, 2C, 2D are formed by continuously changing surface roughness from the inner-diameter end having small surface roughness to the outer-diameter end having large surface roughness.
また、プーリシーブ面１Ｃ、１Ｄ、２Ｃ、２Ｄは、表面粗さが小さい内径端から表面粗さが大きい外径端に向かって連続的に表面粗さを変化させて形成した。 - 特許庁 - The semiconductor packaging substrate includes an electrode having at least two regions having different surface roughness such as a peripheral part 2a with larger surface roughness and a central part 2b with smaller surface roughness, which allows fine bumps to be formed with high accuracy on the central part 2b with smaller surface roughness and obtains strong adhesiveness between the periphery part 2a with large surface roughness and a seal material.
表面粗さが大きい周縁部２ａと、表面粗さが小さい中央部２ｂの、少なくとも二つの表面粗さの異なる領域を持つ電極を有した半導体実装基板を用いることにより、表面粗さが小さい中央部２ｂ上には微細なバンプを高精度で形成できると共に、表面粗さが大きい周縁部２ａと封止材料の強固な接着を得ることが可能となる。 - 特許庁 - The semiconductor device is includes an interface roughness mitigating film 20, contacted with an insulating film as well as a wiring contacted through the surface of opposite side while an interface roughness between the wiring and the interface roughness mitigating film is smaller than an interface roughness between the insulating film and the interface roughness mitigating film.
絶縁膜と接触した界面ラフネス緩和膜であって、その反対側の面で配線とも接触し、当該絶縁膜と当該界面ラフネス緩和膜との間の界面ラフネスより、当該配線と当該界面ラフネス緩和膜との間の界面ラフネスの方が小さい界面ラフネス緩和膜２０を設ける。 - 特許庁 - To provide a fiber material which is used for preventing skin roughness, contains a skin roughness-preventing additive exhibiting a protecting action effective to skin troubles, such as the skin roughness caused by surfactants, is effective for inhibiting transepidermal water loss causing the skin roughness thereby for holding the moisture content of the skin, and gives moisture to the skin to prevent the skin roughness.
界面活性剤による肌荒れなどの皮膚障害に対して有効な保護作用を示す肌荒れ防止用添加物を含んでおり、肌荒れの一因である経表皮性水分喪失を抑制して皮膚の水分含有量保持に有効で、肌に潤いを与えて肌荒れを防ぐ肌荒れ防止用繊維材料を提供すること。 - 特許庁 - A laminated film 100 includes a first resin film 10 with both sides different in surface roughness and a second resin film 20 with both sides different in surface roughness, and the sides of larger surface roughness of first and second resin films are bonded.
積層フィルム１００は、両面の表面粗さが異なる第１の樹脂フィルム１０と、両面の表面粗さが異なる第２の樹脂フィルム２０と、を含み、第１の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面と第２の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面とが貼り合わされている。 - 特許庁 - The surface roughness parameter Ryni shows a mean value of a maximum height for every reference length, in other words, the distance between the top line and the bottom line of the roughness curve measured in the direction of the depth magnification for the reference length in the direction of the average line of the roughness curve.
表面粗さパラメータＲｙｎｉとは、基準長毎最大高さの平均値、すなわち、粗さ曲線から、その平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定した値である。 - 特許庁 - In this surface treated steel sheet obtained by forming an inorganic film on the surface of a galvanized steel sheet, the surface roughness of the surface treated steel sheet is 0.2 to 1.0 μm by the arithmetic average roughness, and also, the average film thickness of the in organic film is 0.75 to 1.25 times the above arithmetic average roughness.
溶融亜鉛めっき鋼板の表面に無機系皮膜を形成した表面処理鋼板において、該表面処理鋼板の表面粗さが算術平均粗さ0.2 μｍ以上1.0 μｍ以下であり、かつ無機系皮膜の平均膜厚が上記算術平均粗さの0.75倍以上1.25倍以下とする。 - 特許庁 - The developing roller has the resin layer containing the roughness imparting particles to impart roughness on a conductive shaft, and has relation of ε(sp)-3<ε(sb)<ε(sp)+3 when the dielectric constant of the roughness imparting particles is defined as ε(sp) and the dielectric constant of resin composing the resin layer is defined as ε(sb).
粗さを付与する粗さ付与粒子を含有する樹脂層を導電性シャフト上に有し、粗さ付与粒子の誘電率をε（ｓｐ）、樹脂層を構成する樹脂の誘電率をε（ｓｂ）としたとき、ε（ｓｐ）−３＜ε（ｓｂ）＜ε（ｓｐ）＋３の関係を有する現像ローラ。 - 特許庁 - Herein, the effective projections are parts projected from a plane higher than a center roughness plane of a three- dimensional roughness curved surface by 10 μm, and a ratio H/D of a diameter D of each projection and a projected height H from a plane higher than the center roughness plane by 1.0 μm is not less than 0.15.
有効突起：３次元的な粗さ曲面の中心粗さ平面から１．０μｍ高い平面よりも突出している突起部で、突起の直径Ｄと中心粗さ平面から１．０μｍ高い平面からの突出高さＨの比率Ｈ／Ｄが０．１５以上である突起。 - 特許庁 - Surface roughness of the magnetic recording medium 1 can be reduced to surface roughness of the non-magnetic glass substrate or less by selecting the oxide material based on the Gibbs free energy value, the magnetic recording medium having a surface roughness of 0.3 nm or less can be obtained as result.
ギブス自由エネルギーの値に基づき酸化物材料を選択することにより、磁気記録媒体１の表面粗さを非磁性ガラス基板の表面粗さ以下に低減でき、表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下の磁気記録媒体を得ることができる。 - 特許庁 - To improve an yield due to variations in film thicknesses and film qualities among wafers by enabling measurement of surface roughness of the wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, in a method for obtaining roughness of a substrate and a device for obtaining the roughness of the substrate.
基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁 - In the process in which a thin film-like object is supported by a substrate and flocculation molded, the surface roughness on the identical substrate is changed, and contraction of the film-like object is controlled by the portion having a larger surface roughness and the porosity formation of the film-like object is developed by the portion having a smaller surface roughness.
薄膜状物を基板で支持して、凝固成形させる工程において、同一基板上の表面粗さを変え、表面粗さが大きい部分で薄膜状物の収縮を制御し、かつ、表面粗さの小さい部分で薄膜状物の多孔化を発現させる。 - 特許庁 - When there is an evaluating area exceeding the threshold (0.5 μm) in the calculated roughness, the roughness is calculated by using the measuring data of only the evaluated area which is not more than the threshold (0.5 μm), and the roughness is calculated by using the measuring data of only an evaluated area which exceeds the threshold (0.5 μm).
そして、算出した粗さに閾値（０．５μｍ）を超える評価領域がある場合には、閾値（０．５μｍ）以下の評価領域のみの測定データを用いて粗さを算出し、閾値（０．５μｍ）を超える評価領域のみの測定データを用いて粗さを算出する。 - 特許庁 - In the surface roughness of the metal foil having an excellent electric constant stability, the ratio of Ra/Sm between arithmetic average roughness height Ra obtained by measuring roughness in the direction where the mean spacing Sm of the ruggedness is the minimum and the mean spacing Sm of the ruggedness Sm, is to be not less than 0.001.
表面粗さにおいて、凸凹の平均間隔Ｓｍが最小となる方向への粗さ測定により得られた、算術平均粗さＲａと凸凹の平均間隔Ｓｍの比率Ｒａ／Ｓｍが０．００１以上となることを特徴とする電気接点安定性に優れた金属箔。 - 特許庁 - The inside surface 3a of the barrel die 3 is roughened to be a surface roughness Ra(1) to a circumferential direction of 0.08 μm and a surface roughness Ra(2) to an optical axis direction of 0.5 μm and its equivalent surface roughness is transferred to the optical element being a formed article.
胴型３の内側表面３ａは、円周方向の表面粗さＲａ（１）＝０．０８μｍ、光軸方向の表面粗さＲａ（２）＝０．５μｍ、に粗面化されており、同等の表面粗さを成形品である光学素子に転写する。 - 特許庁 - When the boundary positions between the non-effective light emission parts 20 and an effective light emission part 21 of the linear light source 4 are specified to be light emission boundary positions, roughness boundary positions to be boundary positions between the both end high roughness parts 15 and the central low roughness part 16 are positioned on the end sides from the positions of the light emission boundary positions.
線状光源４の非有効発光部分２０と有効発光部分２１との境界位置を発光境界位置としたとき、両端高粗度部１５と中央低粗度部１６との境界位置である粗度境界位置は、この発光境界位置よりも端部側に位置する。 - 特許庁 - As a result, when the data region 31 and the non-data region 35 are flattened under the same condition, the surface of the data region 31 has a first surface roughness, and simultaneously the surface of the non-data region 35 has a second surface roughness larger than the first surface roughness.
その結果、データ領域３１および非データ領域３５に同一の条件で平坦化処理が施されると、データ領域３１の表面が第１表面粗さに形成されると同時に、非データ領域３５の表面が第１表面粗さより大きい第２表面粗さに形成される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which makes it possible to obtain an optical element having an optical function surface of good surface quality by press forming the optical function surfaces to the surface roughness approximate to the surface roughness of finished goods, then subjecting the optical function surface to an improvement of the surface roughness without collapsing the shape formed by extrusion forming.
本発明は、光学機能面をおよそ完成品に近い表面粗さに押圧成形した後に、押圧成形で成形した形状を崩さずに、表面粗さの改善を施し、良好な表面品質の光学機能面を有する光学素子を得ることができる製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In the forming device, a grinding wheel 12a for large surface roughness and a grinding wheel 12b for small surface roughness are arranged to the same honing head 20, and an axial length b of the grinding wheel 12b for small surface roughness becomes short by an axial t length corresponding to the head region T.
成形装置は、面粗度大用砥石１２ａと面粗度小用砥石１２ｂとを同一ホーニングヘッド２０に設け、面粗度小用砥石１２ｂの軸方向長さｂが前記頭部領域Ｔに相当する軸方向長さｔ分だけ短くしたことを特徴とする。 - 特許庁 - The surface roughness has an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤0.09 μm, the maximum height (Ry) of ≤0.75 μm, and a ten-point mean roughness (Rz) of ≤0.6 μm, and a good reflectance is obtained when the film for reflection is stuck on a plate-like molded body.
表面粗さが、算術平均粗さ（Ｒａ）：０．０９μｍ以下、最大高さ（Ｒｙ）：０．７５μｍ以下、十点平均粗さ（Ｒｚ）：０．６μｍ以下であり、板状成形体上に反射用フィルムを貼り付けた際に良好な反射率を有することを特徴とする反射体の板状成形体用金属材料。 - 特許庁 - To provide a means for stably manufacturing a metal band having a small surface roughness, capable of suppressing change of a surface roughness of a work roll even though an amount of oil introduced to a roll bite is small while preventing occurrence of seizure specifically when using the work roll having a reduced surface roughness.
特にワークロールに表面粗さが小さいものを使用する場合に、焼付きの発生を防止しながら、ロールバイトへの導入油量が小さくても、ワークロールの表面粗さの変化が抑制され、表面粗さの小さい金属帯を安定して製造するための方途について、提供する。 - 特許庁 - This method of detecting the micro surface roughness and defect detects the micro surface roughness and defect having 0.5-6 μm of roughness in the magnetic metal specimen, and detects the surface defect by detecting a signal caused by a strain in a defective part of the specimen.
磁性金属被検体の凹凸量0.5μm以上6μm以下の微小凹凸表面欠陥を検出する微小凹凸表面欠陥の検出方法であって、前記被検体の欠陥部の歪に起因する信号を検知することによって前記表面欠陥を検出する。 - 特許庁 - Disclosed is the optical element containing a rough surface having a roughness average equal to at least 5 micrometers wherein the rough surface contains at least two roughness populations in which the roughness average of the at least two populations varies by at least 8 micrometers.
少なくとも５マイクロメートルに等しい粗さ平均を有する粗い表面を含み、前記粗い表面が少なくとも２つの粗さ母集団を含み、前記少なくとも２つの母集団の粗さ平均が少なくとも８マイクロメートル異なる光学要素を開示する。 - 特許庁 - There is provided a method in which powder is filled in a container under an application of a filling nozzle having a cylindrical upper segment and a conical lower segment, wherein a surface roughness of at least a portion of the filling nozzle satisfies an equation of Ra (arithmetic mean roughness)≤2.0μmRz(10-point mean roughness)≤10.0μmRy
上部円筒形下部円錐形の形状を有する充填ノズルを用いて粉体を容器に充填する方法において、少なくとも前記充填ノズルの粉体と接触する部分の表面粗さが、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に基づく測定方法により下記測定結果を満たすものにする。 - 特許庁 - A surface roughness Ra of a raceway surface 10a of the outer ring 11 is 0.12-0.25 μm, a surface roughness Ra of a raceway surface 11a of the inner ring 12 is 0.02-0.04 μm, a surface roughness Ra of a raceway surface 13a of the needle roller 13 is 0.02 μm or smaller.
外輪１１の軌道面１０ａの面粗さＲａが０．１２〜０．２５μｍであり、内輪１２の軌道面１１ａの面粗さＲａが０．０２〜０．０４μｍであり、針状ころ１３の転動面１３ａの面粗さが０．０２μｍＲａ以下である。 - 特許庁 - In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a support, an arithmetic average plane surface roughness (SRa) of three-dimensional surface roughness of the support is 0.1-0.6 μm, a plane surface ten-point average roughness (SRz) is 1.5-3.5 μm, and a plane surface maximum height (SRt) is ≤6 μm.
支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該支持体の３次元表面粗さの算術平均平面粗さ（ＳＲａ）が０．１〜０．６μｍであり、平面十点平均粗さ（ＳＲｚ）が１．５〜３．５μｍであり、平面最大高さ（ＳＲｔ）が６μｍ以下である。 - 特許庁 - The surface roughness of an outer ring raceway track 5 is roughened more than the surface roughness of an inner ring raceway track, and the surface roughness of a part for contacting with at least the respective spherical rollers of this outer ring raceway track 5 is set substantially constant in the axial direction and the circumferential direction of an outer ring.
外輪軌道５の表面粗さを内輪軌道の表面粗さよりも粗くすると共に、この外輪軌道５の少なくとも各球面ころと接触する部分での表面粗さを、外輪の軸方向と円周方向とでそれぞれ略一定とする。 - 特許庁 - In press forming for an aluminum alloy in which the average of surface roughness in the rolling direction of the material surface and the direction vertical thereto is ≤0.5 μm, and the difference in the surface roughness between the respective directions is ≥0.02 μm, it is performed using a die whose surface roughness is ≥0.05 μm.
材料表面の圧延方向およびそれと垂直な方向の表面粗度の平均が０．５μｍ以下であり、各々の方向の表面粗度の差が０．０２μｍ以上であるアルミニウム合金プレス成形において、表面の粗度が０．０５μｍ以上である金型を用いてプレス成形する。 - 特許庁 - The substrate for a solar cell consists of: a surface roughness layer composed of a thermoplastic crystalline resin composition containing inert particles, and having surface roughness Ra in the range of 30-500 nm; and a support layer composed of a thermoplastic crystalline resin contacting the surface roughness layer.
不活性粒子を含有する熱可塑性結晶性樹脂の組成物から構成され表面粗さＲａが３０〜５００ｎｍの粗面層、およびこれに接する熱可塑性結晶性樹脂から構成される支持層からなる太陽電池の基材。 - 特許庁 - Alternatively, the data of the edge roughness of the sufficiently long area are divided, fitting by statistic processing and logic calculation is performed, and long-period roughness and short-period roughness corresponding to an arbitrary inspection region are calculated and displayed on the length measurement SEM.
または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing characteristic degradation caused by surface roughness of a wafer by sufficiently preventing the surface roughness of the wafer in a heat treatment process, and to provide a semiconductor device whose characteristic degradation caused by surface roughness is prevented.
熱処理工程においてウェハの表面荒れを十分抑制することにより、当該表面荒れに起因した特性の低下を抑制することが可能な半導体装置の製造方法、および表面荒れに起因した特性の低下が抑制された半導体装置を提供する。 - 特許庁
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