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「The second」を含む例文一覧(50000)
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A width of
the
second
electrode 14 is made to be in a range expressed in inequalities (1).
第2電極14の幅Wは数8に示した範囲内とされている。
- 特許庁
The
shaft-like part 10 has a first and
second
engaging projection part 17, 18 formed.
軸状部10には第一、第二の掛合突部17、18が形成してある。
- 特許庁
It is desirable that a plane orientation of a side wall of
the
second
trench 5 is a (11-20) plane.
第2トレンチ5の側壁の面方位を、(11−20)面とするのが良い。
- 特許庁
The
drawer body 30 has a first holding part 41 and a
second
holding part 60.
引出体30には、第一の保持部41と、第二の保持部60とを備える。
- 特許庁
The
first and
second
plate pieces 541, 542 have a gap between them.
第1および第2のプレート片541、542は、相互間に隙間が置かれている。
- 特許庁
The
communication auxiliary means 30 includes a communication display means and a
second
memory.
通信補助手段30には、通信表示手段と第2メモリが含まれる。
- 特許庁
A metal current 19 is formed on
the
second
p-type clad layer 16.
金属電極19は、第2p型クラッド層16上に形成されている。
- 特許庁
A terminal voltage of
the
resonant capacitor is detected as a
second
signal Sb.
共振コンデンサ37の端子電圧を第2の信号Sbとして検出する。
- 特許庁
A backside concave surface 114 is formed inside
the
second-stage protruding ring 113.
第二階突起環113の内側には後部頂凹面114が形成される。
- 特許庁
In addition, a belt 5a is connected with a driven part 25b of
the
second
frame 2b.
この第2のフレーム2bの被駆動部25bにベルト5aが接続されている。
- 特許庁
To improve
the
stability of first and
second
shafts of a rotary cutting device.
回転式切断装置の第一及び第二のシャフトの安定性を改善する。
- 特許庁
Next,
the
cluster list 42 is divided into
second
groups 43, 44 of a predetermined number each.
次に、クラスタリスト42を第二の所定の数のグループ43,44に分割する。
- 特許庁
The
test pattern has a first set of working zones and a
second
set of working zones.
テストパターンはワーキング・ゾーンの第1セットと、ワーキング・ゾーンの第2セットとを有する。
- 特許庁
A lower end of a
second
handrail 14 is fixed to a front end part of
the
scaffold board 12.
第2手摺り14は、下端部が足場板12の前端部に固定される。
- 特許庁
After that,
the
n-type GaN substrate 1 is thinned down from a
second
main surface side.
この後、n型GaN基板1を第2の主面側から薄膜化する。
- 特許庁
A control system 40 is in communication with
the
first and
second
marking stations 22 and 24.
制御システム40は、第一と第二のマーキングステーション22,24と通信する。
- 特許庁
A
second
insulating layer of a silicon oxide base insulating material is formed on
the
inner lens.
インナレンズ上に酸化シリコン系絶縁物の第2の絶縁層を形成する。
- 特許庁
The
first and
second
differential images are input into an analyzer 207.
第1及び第2微分画像情報が解析装置207に入力される。
- 特許庁
A first cam follower and a
second
cam follower are supported by
the
first jaw.
第一のカム従動子および第二のカム従動子は、第一のジョーに支持される。
- 特許庁
The
first and
second
characters and obstacles are arrayed in a virtual space.
仮想空間には第1キャラクターと第2キャラクターと障害物が配置される。
- 特許庁
The
slide projection part is formed with a first lock part 22 and a
second
lock part 23.
摺動突部には、第一係止部22と第二係止部23とを形成する。
- 特許庁
Second
and third via holes (820, 830) expose parts of
the
flattened layer.
第2と第3ビアホール(820,830)は、平坦化層の一部分を露出させる。
- 特許庁
The
touch panel 10 is formed with first auxiliary lines 24 and
second
auxiliary lines 26.
タッチパネル10は、第1補助線24と第2補助線26を設けている。
- 特許庁
The
first and
second
active layers are composed of semiconductor materials which are different from each other.
第1及び第2活性層は互いに異なる半導体材料からなる。
- 特許庁
The
second
control P plate 42 is provided with an output current detecting circuit 43b.
また、第2制御P板42は、出力電流検知回路43bを有する。
- 特許庁
The
collapsed
second
polygon is used to correct for optical proximity.
この縮約された第2ポリゴンを使用して、光学的近接効果を補正する。
- 特許庁
In this case,
the
pictures have a
second
format ratio (e.g. 2:3) respectively.
この場合、ピクチャの各々は第2フォーマット表示比(例えば、2:3)をもっている。
- 特許庁
The
second
block 20 comprises processing time acquisition parts 21 and 22, and an analysis part 23.
第2ブロック20は、処理時間取得部21,22と解析部23とを備える。
- 特許庁
Fuel cells 11A and 11B are installed on
the
second
floor of a collective housing.
燃料電池11A,11Bが集合住宅の2階に設置されている。
- 特許庁
The
seasoning device comprises a first and
second
seasoning power sources 30, 31.
シーズニング装置は、第1及び第2のシーズニング電源30,31を有している。
- 特許庁
A first flange 40 and a
second
flange 42 are provided at
the
side member 30.
側辺部材30に第1フランジ40と第2フランジ42が設けられている。
- 特許庁
The
third lens frame 35 has a first member 41 and a
second
member 42.
第3レンズ枠35は、第1部材41と、第2部材42と、を有している。
- 特許庁
First and
second
coil springs 82, 83 are arranged at both ends of
the
roller frame 56.
ローラフレーム56の両端部に第1及び第2コイルバネ82,83を配置する。
- 特許庁
In
the
calculation module, a first and
second
designated likelihood functions are calculated.
計算モジュールでは、第1および第2の指定尤度関数の計算を行う。
- 特許庁
The
second
wafer 1 has a mask pattern 14 for transfer formed on a top side.
第2のウエハ1は、表側に転写用マスクパターン14が形成されている。
- 特許庁
The
first and
second
filtered signals are compared to generate an error signal.
第1および第2のフィルタされた信号を比較してエラー信号を生成する。
- 特許庁
The
second
metal face 100b includes a plurality of heat sink fins 190 therein.
第2の金属面100bは、中に複数のヒートシンクフィン190を備える。
- 特許庁
The
first and
second
conductors 3, 4 are provided with wide width regions 16, 17, and 25.
第1及び第2の導体3,4の幅広領域16、17、25を設ける。
- 特許庁
The
outer cylinder 29 is composed of a first outer cylinder 30 and a
second
outer cylinder 31.
外筒29は、第一外筒30と第二外筒31とで構成される。
- 特許庁
The
second
device has at least one electrical/mechanical output converter (7).
第二装置は少くとも1つの電気/機械出力トランスデューサ(7)を有する。
- 特許庁
The
paper feed tray 20 is provided with a first tray 91 and a
second
tray 92.
給紙トレイ20は、第1トレイ91と第2トレイ92とを備えている。
- 特許庁
A leg part 70 of
the
pin 40 comprises a first claw 81 and a
second
claw 91.
ピン40の脚部70には、第1爪81と、第2爪91とを備える。
- 特許庁
A silicon film 30 is formed on
the
surface of a
second
interlayer insulating film 18.
第2層間絶縁膜18の表面上にシリコン膜30を成膜する。
- 特許庁
At least one of
the
first and
second
jaws 20, 22 is rotatable.
第1および第2のあご部の少なくとも一方は、回転可能となっている。
- 特許庁
As a result, a
second
resist pattern is formed so as to cover
the
resist pattern 5.
これにより、レジストパターン5を覆うように第2のレジストパターンが形成される。
- 特許庁
The
second
part is a toning composition containing a sulfur-containing toning agent.
第二のパートは、硫黄含有調色剤を含有する調色組成物である。
- 特許庁
The
casing 3 is formed to a box shape and has a
second
opening.
ケーシング3は箱状に形成されかつ第2の開口部11を有している。
- 特許庁
The
mold 2 is provided with: a first core 22; a
second
core 24; and an ejector 25.
金型2は、第一コア22、第二コア24及びエジェクタ装置25を備える。
- 特許庁
A
second
port seal 58 is installed in a groove 57a of
the
adapter 57.
そして、アダプタ57の溝57aには、第2のポートシール58が装着されている。
- 特許庁
A
second
wiring layer 13 is formed on
the
third interlayer dielectric 11.
第3層間絶縁膜11上に第2配線層13が形成されている。
- 特許庁
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The second