「etching method」を含む例文一覧(6852)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 137 138 次へ＞- To provide a substrate etching apparatus and a substrate etching method using the same capable of applying uniform etching to a glass substrate.
ガラス基板のエッチングを均一にすることができる基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dry etching method and a dry etching apparatus that can achieve an excellent etching characteristic with reducing the cost of facilities.
設備コストを低減しつつ、良好なエッチング特性を得ることができるドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - The wet-etching method which etches an object using an etching liquid irradiates a laser beam to the object in etching.
エッチング液を使用して対象物をエッチングするウエットエッチング方法において、エッチング中に対象物にレーザ光を照射する。 - 特許庁 - To provide an etching method and an etching device capable of uniform etching with high degree of accuracy over a long period of time.
長期にわたり、高い精度で均一なエッチングができるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an etching device and an etching method, wherein etching efficiency is high, and alkali permanganic acid etchant is used.
エッチング効率の高いアルカリ過マンガン酸エッチング液を用いたエッチング処理装置及びエッチング処理方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an etching processing apparatus and an etching processing method for fine-adjusting the etching process conditions so as to attain a desired finished dimension while suppressing variations in the pattern finish dimensions.
エッチング処理条件を微調整して、パターン完成寸法のばらつきを押さえつつ所望の完成寸法を得る。 - 特許庁 - To provide an etching method which can prevent a change in etching characteristics due to a memory effect while maintaining the merits of all-in-one etching.
オール・イン・ワンエッチングの利点を維持しつつ、メモリーエフェクトによるエッチング特性の変動を回避できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dry etching method which is capable of realizing anisotropic etching in an etching operation where oxygen active species are mainly used.
酸素活性種を主体とするエッチングにおいてエッチング異方性を得ることができるドライエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an etching method which can properly determine the end point in etching a substrate and to provide an etching system.
基材に対するエッチング処理の終点の見極めを適正に行うことができるエッチング方法、及びエッチングシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide an etching apparatus and an etching method capable of obtaining excellent in-plane uniformity while improving an etching rate.
エッチング速度の向上を図りつつ、良好な面内均一性を得ることができるエッチング装置及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - This method for etching is characterized by irradiating UV light on the etching of a resin film before or during the etching.
樹脂膜のエッチングにおいて、エッチング前および／またはエッチング中に紫外線を照射することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁 - To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.
酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an etching method with an improved etching factor, and a method for manufacturing a circuit device by using it.
エッチングファクターを向上させたエッチング方法およびそれを用いた回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - PARALLEL FLAT-PLATE DRY ETCHING DEVICE AND METHOD THEREFOR
平行平板型ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁 - STRUCTURE AND METHOD OF PRESERVING STI DURING ETCHING
エッチング中にＳＴＩを保持する構造および方法 - 特許庁 - METHOD FOR QUANTITATIVELY ANALYZING MIXED ACID LIQUID IN ETCHING PROCESS
エッチングプロセスにおける混酸液の定量分析方法 - 特許庁 - To provide a method of selective etching improved by using an etch stop layer.
エッチング停止層を使用する選択的エッチング法 - 特許庁 - METHOD TO CONTROL CRITICAL DIMENSION IN ETCHING PROCESS
エッチングプロセスにおける臨界寸法を制御する方法 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING ULTRAVIOLET LIGHT-TRANSMITTING POLYMER MATERIAL
紫外光透過性高分子材料のエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING/CLEANING TREATMENT METHOD AND DEVICE THEREOF
エッチング／洗浄処理方法及びエッチング／洗浄処理装置 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WET ETCHING DEVICE
半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置 - 特許庁 - To provide an etching method capable of controlling an etching amount with high accuracy, to provide a manufacturing method of the semiconductor device employing the etching method, and to provide the semiconductor device.
高精度にエッチング量を制御することのできるエッチング方法、かかるエッチング方法を用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SUBMICRON GATE INCLUDING ANISOTROPICAL ETCHING
非等方性エッチングを含むサブミクロンゲートの製造方法 - 特許庁 - ASSEMBLING METHOD FOR ETCHING THIN PLATE FOR FORMING FLUID MODULE
流体モジュール形成用エッチング薄板の組立方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD, SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT, AND ELECTRONIC APPARATUS
エッチング方法、弾性表面波素子および電子機器 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING FERRIC CHLORIDE ETCHING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR
塩化第二鉄エッチング液の管理方法および装置 - 特許庁 - ITO DRY ETCHING DEVICE AND METHOD USING THE SAME
ＩＴＯドライエッチング装置およびこれを用いる方法 - 特許庁 - COMPOSITE BODY FOR DRY ETCHING, METHOD FOR FORMING DRY ETCHING PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE FOR LIQUID DISCHARGE HEAD
ドライエッチング用複合体、ドライエッチング製品の形成方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 - 特許庁 - MULTISTAGE LOCAL DRY ETCHING METHOD FOR SOI (SILICON ON INSULATOR) WAFER
ＳＯＩウェハーのための多段局所ドライエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR DRY ETCHING FERROELECTRIC SUBSTANCE CAPACITOR STRUCTURAL BODY
強誘電体キャパシタ構造体の乾式蝕刻方法 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for etching a substrate.
基板をエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING METALLIC THIN PLATE AND ETCHED ARTICLE
金属薄板のエッチング加工方法及びエッチング加工品 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF ETCHING WASTE GAS
エッチング排ガス処理装置及びエッチング排ガス処理方法 - 特許庁 - MULTIPLE FREQUENCY PLASMA ETCHING REACTION APPARATUS AND METHOD
多重周波数プラズマ・エッチング反応装置及び方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PLASMA ETCHING DEVICE
半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DRY ETCHING OF SOI SUBSTRATE
ＳＯＩ基板のドライエッチング方法およびドライエッチング装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING DEVICE
半導体装置を製造する方法及びエッチング装置 - 特許庁 - POST-ETCHING CLEANING METHOD FOR POROUS LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL
多孔質低誘電率材料のエッチング後のクリーニング法 - 特許庁 - TAPE FOR JOINING BOARD AND ETCHING METHOD USING THE TAPE
基板接続用テープおよびそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY OF ETCHING RATE
エッチング速度の均一性を改善する装置及び方法 - 特許庁 - SURFACE TREATMENT METHOD FOR ALUMINUM WHEEL AND ALKALI ETCHING LIQUID
アルミホイールの表面処理方法及びアルカリエッチング液 - 特許庁 - METHOD FOR COLLECTING INDIUM FROM OXALIC ACID ETCHING WASTE LIQUID
シュウ酸エッチング廃液からのインジウムの回収方法 - 特許庁 - According to this method, the oxide of the polymer is removed through etching.
これにより、ポリマーの酸化物がエッチング除去される。 - 特許庁 - RESIST ASHING METHOD AFTER ETCHING WITH ORGANIC INTERLAYER INSULATING FILM
有機層間絶縁膜エッチング後のレジストアッシング方法 - 特許庁 - BOARD-CONNECTION TAPE, AND ETCHING METHOD USING THE SAME
基板接続用テープおよびそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING DRY ETCHING EQUIPMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ドライエツチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE HOT MELT RESIST AND ETCHING METHOD USING SAME
感光性ホットメルトレジスト及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - SOLUTION AND METHOD FOR ETCHING THIN COPPER FOIL
薄銅箔用エッチング液および薄銅箔エッチング方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND SUBSTRATE WITH ELECTROCONDUCTIVE POLYMER
エッチング方法、及び、導電性高分子を有する基板 - 特許庁 - LOCAL DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR SOI WAFER
ＳＯＩウェハーの局所ドライエッチング方法および装置 - 特許庁
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