「interferometer」を含む例文一覧(1556)
＜前へ 1 2 .... 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 次へ＞- A Mach-Zehnder interferometer is composed of two multimode interferometers, two arm waveguides held between the multimode interferometers, and a polyimide wavelength plate inserted in the groove formed to part the two arm waveguides.
本発明の一実施例によるマッハツェンダ干渉計は、２つの多モード干渉計と、多モード干渉計の間に挟まれた２本のアーム導波路と、２本のアーム導波路を分断するように形成された溝に挿入されたポリイミド波長板とから構成される。 - 特許庁 - The first optical waveguide 20 and the second optical waveguide 25 having respective input ends 21 and 26 on the input end face 11 constitute a Mach-Zehnder interferometer having three optical couplers 41 to 43 and three arm waveguide parts 46 to 48.
入力端面１１上にそれぞれ入力端２１、２６を有する第１光導波路２０、第２光導波路２５は、３つの光カプラ４１〜４３、及び３つのアーム導波路部４６〜４８を有するマッハツェンダ干渉計を構成している。 - 特許庁 - An interference detector 7 detects interference light of reflected light from the surface of a single crystal Si film grown on a substrate 20 and reflected light from a reference lens 73 with a Michelson interferometer by using a laser beam of wavelength λ.
干渉検出装置７は、波長λのレーザ光を用いて、基板２０上に成長された単結晶Ｓｉ膜の表面から反射光と、リファレンスレンズ７３からの反射光との干渉光をマイケルソン干渉計によって検出する。 - 特許庁 - Because of the inclined state of a diffraction lens 2 against the optical axis of an objective lens main body 1 constituting an objective lens unit 50, the entry of a return light from the diffraction lens 2 to the CCD sensor or the like of an interferometer is prevented.
対物レンズユニット５０を構成する対物レンズ本体１の光軸に対して回折レンズ２を微小角だけ傾斜させた状態としているので、回折レンズ２からの戻り光が干渉計のＣＣＤセンサ等に入射することを防止できる。 - 特許庁 - To provide a wave aberration measuring machine using a diffraction grating shearing interferometer for a mirror (reflection) type optical system, which can prevent the analysis of zero-order light or high-order overlapped diffracted light from becoming difficult caused by double diffraction interference.
ミラー（反射）型光学系に対する回折格子シアリング干渉計を用いた波面収差計測機において、２重の回折干渉を行うので０次光や高次の回折光が重なってしまい解析が困難になってしまうことを防止する。 - 特許庁 - In measurement using a Michelson interferometer, the space between beam correcting lens modules 4 and 5 and a measuring sample and the converging angle of beam from the modules are varied to set the focusing angle of incident beam larger than the radial angle thereof.
マイケルソン干渉計を用いて測定するにあたって、ビーム補正用レンズモジュール４，５と、被測定試料との間隔、及び当該モジュールからのビームの集光角を可変として、入射光線の集束角を動径角よりも大きくするようにしている。 - 特許庁 - A Fabry-Perot interferometer 40 has two reflecting mirrors 41a, 41b constituting a resonator, and detects the change of a frequency of a second laser beam L_2 generated from a cause of an ultrasonic echo by utilizing a resonance characteristic of the resonator.
ファブリ・ペロー干渉計４０は、共振器を構成する二つの反射ミラー４１ａ，４１ｂを有し、その共振器の共振特性を利用して、超音波のエコーに起因して生じる第二レーザビームＬ２の周波数の変化を検出する。 - 特許庁 - A neutron diffracting method using a high resolution neutron diffracting device and a magnetic measuring method using a super-conducting quantum interferometer are combined to obtain the accurate information related to lithium and oxygen in the structure of the electrode material.
高分解能中性子回折装置を用いた中性子回折法及び超伝導量子干渉計を用いた磁気測定法を組み合わせることにより、電極材料の構造中のリチウムや酸素に関する精度の良い情報を得ることからなる。 - 特許庁 - To reduce the effect of gas fluctuation and improve measurement accuracy, by eliminating both of positioning error of measurement with an interferometer and an error due to principles of Abbe by position detection sensor using diffraction grating.
干渉計による計測位置決め誤差と、回折格子を用いる位置検出センサーによるアッベの原理に基づく誤差の両者を排除し、気体ゆらぎの影響低減と計測精度の向上を図るステージ位置計測および位置決め装置である。 - 特許庁 - This interferometer, measuring the face shape of the optical element by use of interference has two or more elastic deformation mirrors with variable face shapes capable of generating desired face shapes on the reference light side and additionally, is provided with a prototype standard.
干渉を利用して光学素子の面形状を測定する干渉計において、所望の面形状を作成することが出来る面形状が可変の弾性変形ミラーを参照光側に２つ以上又は更に原器を有すること。 - 特許庁 - This system has a chamber for receiving a sample of the suspension while circulating the suspension in a mechanical system, and an interferometer for generating an interference pattern by combining a reference signal, and a signal emitted from the sample showing a characteristic in the suspension.
懸濁液を機械的システム内に循環させながら、懸濁液のサンプルを受け入れるチェンバと、基準放射信号と、懸濁液内の特性を表すサンプル放射信号を組み合わせることにより、干渉パターンを生成する干渉計とを有する。 - 特許庁 - The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.
リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - The device is constituted so that long mirrors 75, 77 are fixed to a part which does not move, the weight of a movable part PST of a stage device is reduced and a relative position of read of an actuator which actuates a stage and a laser interferometer does not change due to stage movement.
長尺鏡７５，７７を可動しない部分に固定し、ステージ装置の可動部ＰＳＴの軽量化を実現するとともに、ステージを駆動する駆動部（アクチュエータ）とレーザ干渉計の読み取りの相対位置がステージ移動によって変わらない構成とする。 - 特許庁 - A source beam extraction means is provided with a beam splitter 20 for forming beams 23 and 24 parallel to each other, and retroreflecting means 21, 25 and 26 which change the direction of each of secondary beams toward the beam splitter and form a Sagnac interferometer.
源ビームの抽出手段は、互いに平行なビーム２３及びビーム２４を提供するビームスプリッタ２０と、二次的ビームの各々をビームスプリッタに向けて方向変更し且つサニャック干渉計を形成する後方反射手段２１、２５、２６とを備えている。 - 特許庁 - To prevent malfunctioning as caused by extra vibration, impact, sounds and the like by arranging the light branch and couple element and the light delay element in a complete vibration and sound proofing structure used in various measuring sensor system units using an optical loop interferometer.
光ループ干渉計を用いた各種計測センサ系装置において用いる光分岐結合素子及び光遅延素子を完全な防振防音構造にすることにより、余計な振動、衝撃、音響等のノイズによる誤動作を防止することを目的とする。 - 特許庁 - This Fabry-Perot interferometer 1 includes a lower mirror 13 consisting of high refractive index films 21 and 23, and an upper mirror 15 consisting of high refractive index films 31 and 33, and is constituted so as to vary the distance between both mirrors by making an electrostatic force act between both mirrors.
ファブリペロー干渉計１は、高屈折率膜２１，２３からなる下側ミラー１３と、高屈折率膜３１，３３からなる上側ミラー１５とを備え、両ミラー間に静電気力を作用させることで両ミラー間の距離を変化可能に構成されている。 - 特許庁 - This Fizeau type interferometer for measuring the shape of an optical surface of an optical element comprises a reference surface of the aspherical shape and a holding member for integrally holding the reference surface and the optical surface in a state where the reference surface is made adjacent to the optical surface.
光学素子の光学面の形状を測定するためのフィゾー型干渉計は、非球面形状の参照面と；該参照面と前記光学面とを近接させた状態で、前記参照面と前記光学面とを一体に保持する保持部材とを有する。 - 特許庁 - When inspecting actually a wafer W, the CPU 10-2 corrects the measured position coordinates (x, y) from the laser interferometer 10-4 based on the operated orthogonal error, and corrects deflection of a beam deflector 10-7 based on an error caused by the operated mirror distortion.
ウエハＷを実際に検査する際、ＣＰＵ１０−２は、演算された直交誤差に基づき、レーザ干渉計１０−４からの測定位置座標（ｘ，ｙ）を補正し、また、演算されたミラー歪みによる誤差に基づき、ビーム偏向器１０−７の偏向を補正する。 - 特許庁 - To provide a flat surface measuring method of a mirror using a Fizeau interferometer capable of preventing back surface reflected light of the mirror and performing simply interference fringe measurement only on the inspection surface, and a reflection preventing tool for facilitating a flat surface measuring work when executing the method.
ミラーの裏面反射光を防止し、被検面のみの干渉縞測定を簡便に行うことができるフィゾー干渉計を用いたミラーの平面測定方法及びその方法実施の際、平面測定作業を容易にする反射防止ジグを提供する。 - 特許庁 - In this position detecting device for detecting the position of a detection target optically by using an interferometer, the phase of an interference fringe is detected by a phase detector, and a modulation signal for modulating an angular frequency ωs according to a moving quantity of the detection target is obtained.
干渉計を用いて光学的に検出対象の位置を検出する位置検出装置において、位相検出器で干渉縞の位相を検出し、角周波数ωｓが検出対象の移動量に応じて変調される変調信号を得る。 - 特許庁 - The interferometer 101 has an elastic deformation mirror 21 and a reference face 22 whose features are known, on the reference light side, and a face deformation monitor means 103 for monitoring a deformation amount of the elastic mirror 21 by use of interference information formed by light flux therefrom.
また、参照光側に、弾性変形ミラー２１とあらかじめ素性の分かった基準面２２を有して、それらからの光束より形成される干渉情報を用いて、弾性ミラーの変形量をモニターする面変形量モニター手段１０３を有する。 - 特許庁 - Furthermore, a control apparatus 100 observes a measured value by a position detector such as a laser interferometer 19, stops driving of the center table 5 in a specified stopping position and then positioning control of separating the connection of the table 5 and the X rod 9 using the gap 12 is carried out.
また、制御装置１００は、レーザ干渉計１９等の位置検出器による測定値を監視し、指定した停止位置でセンターテーブル５の駆動を停止させ、次にギャップ１２を用いてテーブル５とＸロッド９との結合を分離させる位置制御を行う。 - 特許庁 - In a delay interferometer inside the demodulator, the polarization state of two split beams 303 and 304 of light to be interfered with each other, is set so that p polarization and s polarization are reversed by a half beam splitter 302 and, further, multiplexing is performed again by the half beam splitter 302 used for splitting to generate interference light 309 and 310.
復調器内部の遅延干渉計において、干渉させる2つの分岐光303,304の偏光状態を、ハーフビームスプリッタ302で、ｐ偏光とｓ偏光が逆転するようにし、分岐に用いたハーフビームスプリッタ302で再び合波して干渉光309,310を生成する。 - 特許庁 - To provide an exposure device and method for supporting and positioning an object and controlling exposure so that reaction force and vibration produced by motion of the object are not transmitted to other elements such as an interferometer detecting position information of an object stage.
対象物の運動により生ずる反力及び振動が、対象物ステージの位置情報を検出する干渉計装置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、位置決め、及び、露光制御する露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - In this interferometer device, a wave plate driving device 22 and a stage driving device 23 constitutes a relative azimuth adjusting means for rotating a test lens ML or the polarization direction of linearly polarized light entering the lens, together with a partial function of a computer 27.
この干渉計装置のうち、波長板駆動装置２２及びステージ駆動装置２３は、コンピュータ２７の一部機能とともに、被検レンズＭＬやこれに入射する直線偏光光の偏光方向を回転させる相対方位調節手段を構成する。 - 特許庁 - To provide a shape calculator for highly accurately measuring a shape by performing phase connection processing based on phase data obtained by an optical interferometer even concerning an object to be measured in which a singular part of a dust deposition part, a damaged part or the like partially exists, and to provide its program, its method and a shape-measuring device.
ゴミの付着部や傷の生じた部分等の特異部が一部に存在する被測定物についても，光干渉計により得られる位相データに基づく位相接続処理を行うことによって高精度で形状を測定できること。 - 特許庁 - To provide a highly-accurate interference measuring device for changing at high speed an optical path difference of an interferometer into a sine wave shape, allowing a light source to emit light at a timing when the optical path difference is on a prescribed position necessary for a phase shift method, and acquiring an interference image of an object surface.
干渉計の光路差を正弦波状に高速変化させ、光路差が位相シフト法に必要な所定の位置となるタイミングで光源を発光して物体表面の干渉画像を取得する高精度な干渉計測装置を提供する。 - 特許庁 - The interference fringe image of a sample is acquired with an interferometer device (S1), modulation value γ for every pixel is computed by analyzing an interference fringes image (S2), and it is determined whether in more than a regulated number, there are pixels in which this modulation value γ exceeds a predetermined threshold (S3).
干渉計装置により被検体の干渉縞画像を取得し（Ｓ１）、干渉縞画像を解析して各画素毎のモジュレーション値γを算出し（Ｓ２）、このモジュレーション値γが所定の閾値を超える画素が規定数以上あるか否かを判断する（Ｓ３）。 - 特許庁 - Before the λ/4 plates 65, 70 are attached to the face 39, the direction of a normal line to each reflection face is measured; and a combination having an angle shift (an angle difference) within a predetermined tolerance is selected and assembled to an interferometer assembly.
これらのλ／４板６５、７０は、面３９に取り付けられる前に、それぞれの反射面に対する法線の方向が測定され、それらの角度のずれ（角度差）が所定の公差内となる組み合わせのものが選択されて干渉計アセンブリへ組み込まれる。 - 特許庁 - To provide a waveguide type optical delay interferometer configured to stably and uniformly perform the temperature control of an optical waveguide substrate, and also minimize deterioration in polarization-dependent frequency, even when mounted on a sub-mount by adhesion or even when driving a Peltier module.
光導波路基板を安定かつ均一に温度調節すると共に、サブマウントに接着搭載したり、ペルチェモジュールを駆動した際にも、偏波依存周波数劣化量を最小限に留めることが可能な導波路型光遅延干渉計を提供する。 - 特許庁 - A phase shift is imparted to each phase component generated from a wide-band laser light source 11 by a phase modulator 12, and a sample 18 is irradiated with light passing an interference autocorrelation measuring device 13 formed by combining a Michelson interferometer 14 with a piezo stage 15.
広帯域レーザー光源１１から発生された個々の波長成分に位相変調器１２によって位相シフトを与え、マイケルソン干渉計１４とピエゾステージ１５を組み合わせた干渉自己相関計１３を通した光を試料１８に照射する。 - 特許庁 - To provide a signal incoming azimuth measuring system for improving directional accuracy of a radio wave incoming azimuth, when performing detection processing of the radio wave incoming azimuth using an interferometer system, and a measuring method of the signal incoming azimuth in the signal incoming azimuth measuring system.
インターフェロメータ方式を用いた電波到来方位の探知処理時に、電波の到来方位の指向精度を向上させる信号到来方位測定システム及びこの信号到来方位測定システムにおける信号到来方位の測定方法を提供する。 - 特許庁 - A conversion circuit 90 transmits a signal acquired by applying prescribed conversion to the voltage to the piezo- element 42, thereby always allows the frequency at a resonance curve operating point of the interferometer 40 to coincide with the oscillation frequency of the second laser beam L_2.
変換回路９０は、かかる電圧に所定の変換を施して得られた信号をピエゾ素子４２に送出することにより、干渉計４０の共振曲線動作点における周波数を第二レーザビームＬ２の発振周波数に常時一致させる。 - 特許庁 - In the case of a method for the absolute calibration in an interferometer that has an optical member, that inverts an incidence spherical wave by itself or via a mirror and uses an output spherical wave, at least four measurement procedures measure wavefront aberration W.
入射球面波をそれ自体で又は鏡を介して反転する光学部材を具備している、出力球面波を用いる干渉計の絶対校正のための方法の場合、少なくとも４つの測定手順が、波面収差Ｗを測定するようなされている。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam-drawing device capable of maximally removing a nonlinear error component included in a measurement signal of a laser interferometer without removing a mechanical vibration component generated by servo control; and to provide a charged particle beam-drawing method.
サーボ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical frequency domain reflectometry capable of inhibiting phase fluctuations of a lightwave caused by a disturbance to a delay fiber of a reference interferometer to allow a high-resolution measurement of even an object having a long measurement distance.
本発明の課題は、参照干渉計の遅延ファイバが受ける外乱による光波の位相揺らぎを抑庄して、測定距離の長い対象であっても高分解能な測定を行うことが可能な光周波数領域反射測定方法を提供することにある。 - 特許庁 - The optical waveguide type device 10 is constituted so that optical waveguides 111, 112 are formed on a substrate 100 and the waveguides 111, 112 are optically coupled with optical couplers 121, 122 respectively to constitute a Mach-Zehnder interferometer.
光導波路型デバイス１０は、基板１００に光導波路１１１，１１２が形成されていて、光導波路１１１と光導波路１１２とが光カプラ１２１および光カプラ１２２それぞれにおいて光結合されていてマッハツェンダ干渉計を構成している。 - 特許庁 - A laser interferometer is provided with a hologram-forming medium 9, in which a hologram is formed on real time and an original image is reproduced; a 1st light source (not shown) which oscillates laser beam forming the hologram; and a 2nd light source 17, which is different from the 1st light source.
リアルタイムにホログラムを形成しリアルタイムに元の像を再生するリアルタイムホログラム形成媒体９と、ホログラムを生成するレーザ光を発振させる第１光源（図示されず）と、第１光源と異なる光源である第２光源１７とを具備している。 - 特許庁 - This interferometer has a phase part 53 of an optical path length difference ΔL=4.1 mm formed between a 3 dB coupler 51 connected to the 3 dB coupler 32 of the interleaver 30 and a 100% couplers 52, a π phase shifter 54, and a 3 dB coupler 55 connected to the first slab wave guide path 25 of the AWG20.
この干渉計は、インターリーバ３０の3dBカプラ３２に接続された3dBカプラ５１と100%カプラ５２の間に形成した光路長差ΔL=4.1mmの位相部分５３と、πの位相シフタ５４と、ＡＷＧ２０の第１スラブ導波路２５に接続された3dBカプラ５５と、を備える。 - 特許庁 - Additionally, the displacement speed of the weight 3 is measured by a light wave interferometer 6, the measured displacement speed of the weight 3 is differentiated for calculating inertial force from the determined acceleration, and the measured displacement speed of the weight is integrated for calculating the displacement of the weight 3.
また、錘体３の変位速度を光波干渉計６により計測し、計測した錘体３の変位速度を微分して求めた加速度から慣性力を算出すると共に、計測した錘体の変位速度を積分して錘体３の変位を算出する。 - 特許庁 - To provide a two-luminous flux polarization interferometer for obtaining the deviation of optical path length from a plurality of phase slippage images which requires no high precision for the positioning of the imaging element of an interference fringe detection part or the working and adjustment of an optical element.
光路長の偏差を複数の位相ずれ画像から得る２光束偏光干渉計において、干渉縞検出部の撮像素子の位置合わせや、光学素子の加工ならびに調整に高精度を必要としない２光束偏光干渉計を提供する。 - 特許庁 - This variable wavelength optical transceiver 100, with a Mach-Zehnder interferometer as an optical coupler, is composed of two dual-input and dual-output type optical couplers 101, 102, two arm waveguides 103, 104, and four waveguides 105, 106, 107, 108.
この波長可変光トランシーバ１００は、マッハツェンダ干渉計を光結合器として、２つの２入力２出力型光結合器１０１、１０２、２つのアーム導波路１０３、１０４、および４つの導波路１０５、１０６、１０７、１０８で構成される。 - 特許庁 - In the feedback control part 23, a location deviation is calculated from the movement command value and a stage position measured with a laser interferometer, and a control command value to be outputted to a stage device 10 is calculated based on the location deviation with the PID control operation part 24.
フィードバック制御部２３では、この移動指令値と、レーザ干渉計により計測されたステージ位置とから位置偏差を算出し、この位置偏差に基づいてＰＩＤ制御演算部２４でステージ装置１０に出力する制御指令値を演算する。 - 特許庁 - A portion of measurement light from an interferometer 30 is directed perpendicularly to a first test surface 71 via a reflection deflector 10B, and another portion of the measurement light is directed perpendicularly to a second test surface 72 without passing through the reflection deflector 10B.
干渉計３０からの測定光の一部を、反射偏向素子１０Ｂを介して第１被検面７１に対し垂直に照射するとともに、測定光の他の一部を、反射偏向素子１０Ｂを介さずに第２被検面７２に対し垂直に照射する。 - 特許庁 - The value of the voltage applied to one arm 130b is switched for intervals of τ/2 being a half of a symbol interval τ, whereby signal components which have been extracted conventionally by two delay interferometers alternately appear in an output of the delay interferometer 130 for intervals of τ/2.
一方のアーム１３０ｂに印加される電圧の値をシンボル間隔τの半分のτ／２毎に切り替えることによって、従来の２つの遅延干渉計で抽出された信号成分が、遅延干渉計１３０の出力にτ／２毎に交互に現れる。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam-drawing device capable of maximally removing a nonlinear error component included in a measurement signal of a laser interferometer without removing a mechanical vibration component generated by stage control; and to provide a charged particle beam-drawing method.
ステージ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁 - This ensures that the interferometer system and its components can be positioned away from radiation beam, allowing larger diameter projection systems for radiation beam and more homogeneous air showers around an object.
それにより確実に干渉計システム及びその部品を放射ビームから遠ざけて配置することができるので、放射ビームのための投影システムを直径がより大きい投影システムにすることができ、且つ、対象の周りのエア・シャワーをより均質にすることができる。 - 特許庁 - An interference signal from a laser interferometer as a displacement sensor of a probe is output as a two-phase sinusoidal wave consisting of a high-frequency component caused by the probe vibration and a low-frequency component caused by irregularities of the surface to be measured by a probe displacement signal output circuit 42.
探針の変位センサであるレーザ干渉計からの干渉信号を探針変位信号出力回路４２によって探針振動による高周波成分と被測定面の凹凸による低周波成分とからなる二相正弦波を出力させる。 - 特許庁 - When performing flat surface measurement of the mirror 11 by using the Fizeau interferometer, a pressure sensitive adhesive double coated tape of acrylic foam or urethane foam is stuck as a pressure-sensitive reflection prevention member 13 on the back surface of the mirror 11, and placed on a mirror support 12, and then the flat surface measurement is performed.
フィゾー干渉計を用いてミラー１１の平面測定を行う場合、ミラー１１の裏面にアクリルフォーム又はウレタンフォームの両面粘着テープを粘着性反射防止部材１３として貼付し、ミラー支え１２上に載置して平面測定を行う。 - 特許庁 - An interferometer device 3 produces measuring light and reference light from light emitted from a light source 1 by a reference lens 37, puts the measuring light produced through a projection optical system PL (photo luminescence) into inerference with the reference light, and inspects the optical performance of the projection optical system PL.
干渉計装置３は、基準レンズ３７により光源１から射出される光から、測定光及び参照光を生成し、投影光学系ＰＬを介した測定光と参照光とを干渉させて投影光学系ＰＬの光学性能を検査する。 - 特許庁
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