「interferometer」を含む例文一覧(1556)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 31 32 次へ＞- The system includes an interferometer, an optical element and an SLM.
システムは干渉計、光学素子、およびＳＬＭを含む。 - 特許庁 - To reduce the size and power consumption of an interferometer and, at the same time, to quickly turn on/off the light emission from the interferometer.
干渉計を小型化すると共に消費電力を小さくし、且つ迅速な発光のオンオフを可能にする。 - 特許庁 - BLOOD SUGAR MEASURING SYSTEM USING LOW COHERENCE OPTICAL INTERFEROMETER
低コヒーレンス光干渉計を用いた血糖測定装置 - 特許庁 - To reduce polarization leakage in interferometer systems.
干渉計システムにおける偏光漏洩を低減すること。 - 特許庁 - INTERFEROMETER, OPTICAL RESONATOR, OPTICAL SWITCH, SENSOR, AND OPTICAL FILTER
干渉計、光共振器、光スイッチ、センサ、及び光フィルタ - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR NONLINEARITY COMPENSATION OF INTERFEROMETER
干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR FEEDBACK POSITION CONTROL FOR INTERFEROMETER
干渉計用のフィードバック位置制御システムおよび方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHIC APPARATUS, LENS INTERFEROMETER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
リソグラフィ装置、レンズ干渉計およびデバイス製造方法 - 特許庁 - MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT ADJUSTING METHOD, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM
マッハツェンダ干渉計型光学素子調整方法、マッハツェンダ干渉計型光学素子および光通信システム - 特許庁 - OPTICAL COHERENCE TOMOGRAPHY USING NEW INTERFEROMETER
新規の干渉計を用いた光学コヒ—レンス断層撮影 - 特許庁 - INTERFEROMETER AND FOURIER TRANSFORM SPECTROMETER INCLUDING THE SAME
干渉計およびそれを備えたフーリエ変換分光器 - 特許庁 - AIR CONDITIONER SYSTEM, INTERFEROMETER SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE SYSTEM
空調システム、干渉計システム、及び露光装置システム - 特許庁 - OPTICAL TYPE MEASUREMENT DEVICE AND PRISM FOR INTERFEROMETER OF THE SAME
光学式計測装置及びその干渉計用プリズム。 - 特許庁 - POLARIZATION CONTROLLER, INTERFEROMETER AND OPTICAL IMAGE MEASURING DEVICE
偏光コントローラ、干渉計及び光画像計測装置 - 特許庁 - REFRACTIVE INDEX MEASURING INSTRUMENT USING FABRY-PEROT INTERFEROMETER
ファブリ・ペロー干渉計を用いた屈折率測定装置 - 特許庁 - SELF-REFERENCING INTERFEROMETER, ALIGNMENT SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
自己参照干渉計、アライメントシステムおよびリソグラフィ装置 - 特許庁 - INTERFEROMETER SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
干渉計装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 - 特許庁 - FOCUS ADJUSTING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER, AND MANUFACTURING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM
波面測定干渉計のフォーカス調整方法、波面測定干渉計および投影光学系の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE OF REDUCING PERIODIC ERROR OF OPTICAL INTERFEROMETER
光干渉計の周期誤差低減方法および装置 - 特許庁 - The interferometer assembly 100 is provided with an interferometer for deciding the one-dimensional position of the positioning assembly, and the interferometer for deciding the three-dimensional position of the part closest to the interferometer assembly 100 of the image reduction assembly 230.
干渉計組品100は位置決め組品の一次元の位置を決定するための干渉計とイメージ縮小組品230の干渉計組品100に最も近い部分の三次元の位置を決定するための干渉計とを有している。 - 特許庁 - INTERFEROMETER, MEASURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL ELEMENT
干渉計、測定方法及び光学素子の製造方法 - 特許庁 - MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL FILTER AND CONTROL METHOD THEREOF
マッハツェンダ干渉計型光フィルタ及びその制御方法 - 特許庁 - RETARDATION MEASURING METHOD AND POLARIZATION INTERFEROMETER USING SAME
リタデ—ション測定法及びそれを用いた偏光干渉計 - 特許庁 - HETERODYNE LASER INTERFEROMETER FOR MEASURING PARALLEL DISPLACEMENT OF WAFER STAGE
ウェハステージの平行移動を測定するヘテロダインレーザ干渉計 - 特許庁 - FOCUS ADJUSTING MEASURING METHOD AND APPARATUS FOR INTERFEROMETER
干渉計のフォーカス調整方法およびフォーカス調整装置 - 特許庁 - METHOD OF CORRECTING MEASUREMENT SENSITIVITY IN OBLIQUE INCIDENCE INTERFEROMETER
斜入射干渉計における測定感度の校正方法 - 特許庁 - ALIGNMENT OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER AND DEVICE USING IT
干渉計用アライメント光学系およびこれを用いた装置 - 特許庁 - An interferometer 4 measures a distance up to a reflector 3.
干渉計４は、反射鏡３までの距離を測定する。 - 特許庁 - To provide an interferometer capable of stably forming interference light, and a spectrophotometer including the interferometer.
安定的に干渉光を形成することができる干渉計と、干渉計を有する分光分析装置を提供する。 - 特許庁 - GRATING ELEMENT, MACH ZEHNDER INTERFEROMETER, AND OPTICAL CROSS-CONNECTION SYSTEM
グレーティング素子、マッハツェンダー干渉計及び光クロスコネクト装置 - 特許庁 - MEASURING METHOD, MEASURING APPARATUS, INTERFEROMETER SYSTEM, AND EXPOSURE APPARATUS
計測方法、計測装置、干渉計システム及び露光装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER USING OPTICAL COUPLER
光ファイバカプラを用いたマッハツェンダ干渉計の製造方法 - 特許庁 - LIGHT-WAVE INTERFEROMETER DEVICE AND ITS DATA PROCESSING METHOD
光波干渉計装置、及び該装置におけるデータ処理方法 - 特許庁 - To provide a method for absolute calibration of an interferometer.
干渉計の絶対校正のための方法を提供する。 - 特許庁 - An x interferometer 121 and a y interferometer 122 are arranged at the positions opposite to the mirrors 111 and 112, respectively.
各ミラー１１１、１１２の対向位置には、それぞれｘ干渉計１２１、ｙ干渉計１２２が配置されている。 - 特許庁 - SHAPE MEASURING APPARATUS USING HETERODYNE INTERFEROMETER, METHOD OF ADJUSTING OPTICAL PATH LENGTH OF THE SHAPE MEASURING APPARATUS USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER, AND METHOD OF MEASURING SHAPE USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER
ヘテロダイン干渉計を用いた形状測定装置、ヘテロダイン干渉計を用いた形状測定装置の光路長調整方法、及びヘテロダイン干渉計を用いた形状測定方法 - 特許庁 - The optical control device 1 includes an interferometer part 2, a strain generating element 3 which is joined with the interferometer part 2, and a coil which is arranged around the interferometer part 2 and strain generating element 3.
光制御デバイス１は、干渉計部２と、干渉計部２に接合された歪発生素子３と、干渉計部２および歪発生素子３の周囲に配置されたコイルとを備えている。 - 特許庁 - The optical interferometer 100 comprises: a first optical interferometer 200 arranged at the front side of the workpiece W; and a second optical interferometer 300 arranged at the rear side of the workpiece W.
光学干渉計１００は、ワークＷのおもて面側に配設される第１光学干渉計２００と、ワークＷのうら面側に配設される第２光学干渉計３００とを備える。 - 特許庁 - INTERFEROMETER FOR MEASURING SHAPE OF SURFACE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING MACHINE, MANUFACTURE OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM USING THIS INTERFEROMETER AND MACHINE, AND METHOD FOR CALIBRATING THIS INTERFEROMETER
面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING BY TRACKING LASER INTERFEROMETER
追尾式レーザ干渉計による測定方法および測定装置 - 特許庁 - PINHOLE MASK, MANUFACTURING METHOD OF PINHOLE MASK AND POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER
ピンホールマスク、ピンホールマスクの製造方法、及び点回折干渉計 - 特許庁 - INTERFEROMETER USING BEAM RE-TRACING TO ELIMINATE BEAM WALK-OFF
ビームのリトレースを用いてビームのウォークオフを除去する干渉計 - 特許庁 - INTERFEROMETER USING DIFFUSER AND METHOD OF MANUFACTURING THE DIFFUSER
拡散板を使用した干渉計、及び、拡散板の製造方法 - 特許庁 - INTERFEROMETER AND HIGHLY PRECISE PROJECTION LENS
干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レンズ - 特許庁 - INTERFEROMETER, INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING SHAPE, AND EXPOSURE DEVICE
干渉計、形状測定装置及び方法、並びに露光装置 - 特許庁 - METHOD OF MEASURING PHASE DISTRIBUTION BY USING GRATING SHEARING INTERFEROMETER
グレーティングシアリング干渉計を用いた位相分布の計測方法 - 特許庁 - The interferometer 2 has two optical waveguides 11 and 12.
干渉計部２は２本の光導波路１１，１２を有している。 - 特許庁 - To provide an interferometer system improved in a lithograph system.
リトグラフ装置における改良された干渉計装置の提供。 - 特許庁 - INTERFEROMETER FOR DEMODULATION OF DIFFERENTIAL M PHASE SHIFT MODULATED SIGNAL
差動Ｍ位相偏移変調信号の復調用干渉計 - 特許庁 - DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY INTERFEROMETER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Ｘ線干渉計用の回折格子及びその製造方法 - 特許庁
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