「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • In a system for taking holographic images for portraits, a transmission hologram is recorded at two different wavelengths in a sheet of silver halide photosensitive material by synchronizing only two different pulsed lasers, one of the two different pulsed lasers having an emission wavelength of 500 nm to less than 600 nm and the other of the two different pulsed lasers having an emission wavelength of 600 nm to less than 700 nm.
    ５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の範囲に発光波長を有するパルスレ−ザ−及び６００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に発光波長を有するパルスレ−ザ−、の２種類のみのパルスレ−ザ−光を同期させて用いて、１枚のハロゲン化銀感光材料に２種類の波長の透過型ホログラムを記録する人物撮影を対象とするホログラフィ−撮影システム。 - 特許庁
  • The composite particle comprises a calcium phosphate-based compound particle, that is magnetic and whose mean breadth is ≤100 nm, mean length is ≤500 nm and mean particle diameter is ≥5 nm and ≤500 nm, and an ion-crosslinking gel, and the calcium phosphate-based compound particle is fixed to the composite particle and at least one parts of the particles is existing disclosed on the surface.
    平均短径が１００ｎｍ以下、平均長径が５００ｎｍ以下のリン酸カルシウム系化合物粒子、平均粒子径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下の磁性粒子およびイオン架橋ゲルを含む複合粒子であって、該リン酸カルシウム系化合物粒子が該複合粒子に固定され、かつ、少なくともその一部が表面に露出して存在することを特徴とする複合粒子。 - 特許庁
  • The photosensitive transfer material comprises, a support and a cushion layer, an oxygen shield layer and a photosensitive layer that are provided on the support in that order, wherein at least one of the cushion layer and the oxygen shield layer has light absorption characteristics of ≥1 absorbance at a wavelength of 500 nm through 600 nm and ≤0.3 absorbance at a wavelength of 350 nm through 450 nm.
    支持体と、該支持体上に、クッション層と、酸素遮断層と、感光層をこの順に有してなり、前記クッション層及び酸素遮断層の少なくともいずれかが、波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下における吸光度が１以上であり、かつ波長３５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下における吸光度が０．３以下である光吸収特性を有する感光性転写材料である。 - 特許庁
  • The optical filter 3 is formed such that the average transmittance for light of wavelength 400 to 475 nm is 70% or more, the average transmittance for light of wavelength 485 to 505 nm is 50% or less, the average transmittance for light of wavelength 515 to 570 nm is 70% or more, and the average transmittance for light of wavelength 580 to 600 nm is 50% or less.
    光学フィルタ３は、波長４００〜４７５ｎｍの光に対する平均透過率が７０％以上となり、波長４８５〜５０５ｎｍの光に対する平均透過率が５０％以下となり、波長５１５〜５７０ｎｍの光に対する平均透過率が７０％以上となり、波長５８０〜６００ｎｍの光に対する平均透過率が５０％以下となるよう形成される。 - 特許庁
  • In the producing processes, an ink composition for ink-jet recording containing the colorant having an absorption wavelength region in 470 nm to 510 nm, and an ink composition for ink-jet recording containing the colorant having an absorption wavelength region in 570 nm to 610 nm, are ejected over the video display area of the screen base by an ink-jet recording method.
    製造方法は、４７０ｎｍ〜５１０ｎｍに吸収波長領域を有する着色剤を含有するインクジェット記録用インク組成物と、５７０ｎｍ〜６１０ｎｍに吸収波長領域を有する着色剤を含有するインクジェット記録用インク組成物とをインクジェット記録方法によってスクリーン基材の映像表示用領域に吐出することを含む。 - 特許庁
  • The biaxially oriented polyester film is ≥1200 nm in the retardation value R expressed by equation R=Δn.d.
    Ｒ＝Δｎ・ｄ （式中、Δｎはフィルムの複屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍを表わす。 - 特許庁
  • To obtain a photosensitive resin composition capable of giving a pattern having ≤50 nm resolution with good sensitivity.
    ５０ｎｍ以下の解像度のパターンを感度よく得ることができる感光性樹脂組成物を得る。 - 特許庁
  • The metal superfine particle having ≤100 nm particle diameter is uniformly dispersed in an independent state.
    粒径１００ｎｍ以下の金属超微粒子が独立状態で均一に分散されている。 - 特許庁
  • The magnetic layer has 10 to 1,000 protrusions of ≥10 nm height per 900 μm^2.
    磁性層は、高さ１０ｎｍ以上の突起を９００μｍ^2当たり１０個〜１０００個有する。 - 特許庁
  • Metal powder 5 of 10-200 nm forming a nearly chain-like form is used for the chain powder 4.
    そして、鎖状粉末４を、略鎖状をなす１０〜２００ｎｍの金属粉末５とする。 - 特許庁
  • The inorganic microparticles dispersed have a particle diameter of 20-100 nm, and have the loadings of 1-20 wt.%.
    分散した無機微粒子の粒径は２０〜１００ｎｍ、添加量は１〜２０重量％である。 - 特許庁
  • The thickness of the temporary protective layer is equivalent to about 0.5 nm.
    少なくとも二つの単一層に等しい一時的な保護層の厚みは、約０．５ｎｍに対応する。 - 特許庁
  • An about 20 nm-thick AlN buffer layer 12 is formed on a (0001) face 6H-SiC substrate 11 at 500°C.
    （０００１）面6Ｈ-SiC基板11上に温度500℃でAlNバッファ層12を２０nm程度の膜厚で形成する。 - 特許庁
  • When the pure aluminum is exposed to oxygen, an aluminum oxide which is about 1 nm in thickness is formed on a surface.
    純粋アルミニウムは、酸素に曝すと、表面に１ｎｍ程度の厚さの酸化アルミニウムができる。 - 特許庁
  • An IrO_X film 25 having a thickness of 50 nm is formed on a PZT film 24 by a sputtering method.
    ＰＺＴ膜２４上にスパッタ法により厚さが５０ｎｍのＩｒＯ_X膜２５を形成する。 - 特許庁
  • The second layer 13 is 1,460±0.200 in refractive index (n2), and 30.8 nm in film thickness (d2).
    第２層１３は、屈折率（ｎ２）が１．４６０±０．２００であり、膜厚（ｄ２）が３０．８ｎｍである。 - 特許庁
  • The thickness of the hydrophobic polymer laminated by chemical vapor deposition is 5-1,000 nm.
    また、ケミカルベーパーデポジションにより積層される疎水性重合体の厚みが５〜１，０００ｎｍである。 - 特許庁
  • The SOI layer 201 is oxidized to form an oxidation layer 202 having a layer thickness of about 5 nm.
    次に、ＳＯＩ層２０１を酸化処理して層厚５ｎｍ程度の酸化層２０２を形成する。 - 特許庁
  • An arithmetic average roughness Ra of the alignment control films 6a, 6b is controlled to satisfy Ra<0.5 nm.
    そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＜０．５ｎｍ にする。 - 特許庁
  • The nonmagnetic metal layer 541 is composed of Cu, and has a thickness within a range of 0.3-1.5 nm.
    非磁性金属層５４１は、Ｃｕよりなり、０．３〜１．５ｎｍの範囲内の厚みを有している。 - 特許庁
  • Furthermore, arithmetic average roughness Ra of the alignment control layers 6a, 6b is made to satisfy an inequality Ra>0.6 nm.
    そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＞０．６ｎｍ にする。 - 特許庁
  • The soft resin base has a Shore D hardness of ≤50 and a thickness of 0.3 to 10 nm.
    軟質樹脂基材は、ショアＤ硬度が５０以下であり、厚さが０．３〜１０ｍｍである。 - 特許庁
  • In the second blowing term, the supplying speed of the gaseous oxygen is made to be 0.5-0.8 Nm^3/min/t.
    第２吹き込み期間では、気体酸素の供給速度を０．５〜０．８Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔとする。 - 特許庁
  • The dry nonwoven fabric has the fine fibrous cellulose having an average fiber width of 2 to 1,000 nm.
    前記微細繊維状セルロースが、平均繊維幅２〜１０００ｎｍである、前記乾式不織布。 - 特許庁
  • The light absorption agent 5g absorbs light with a wavelength of at least 350 to 390 nm.
    また、光吸収剤５ｇは少なくとも３５０〜３９０ｎｍの波長の光を吸収する。 - 特許庁
  • By this wet etching, the channel layer 114a having desired mesa width (for example, 15 nm) is formed.
    このウェットエッチングにより、所望のメサ幅（例えば１５ｎｍ）としたチャネル層１１４ａを形成する。 - 特許庁
  • The extraction liquid thereof has ≤400 nm UV absorbing ability and bacteriostatic effects.
    その抽出液は４００ｎｍ以下の紫外線吸収能と静菌効果があることが解った。 - 特許庁
  • At least one of these narrowband rays has a central wavelength of not more than 450 nm.
    第１〜第３狭帯域光の少なくとも１つは中心波長が４５０ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The distance between centroids L between the first oxide particle 3 and the second oxide particle 6 is 50-400 nm.
    第１の酸化物粒３と第２の酸化物粒６との重心間距離Ｌは50〜400nmである。 - 特許庁
  • In the third term, the supplying speed of the gaseous oxygen is made to be 0.9-1.2 Nm^3/min/t.
    第３吹き込み期間では、気体酸素の供給速度を０．９〜１．２Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔとする。 - 特許庁
  • Furthermore, the resin composition may contain carbon black having an average particle size of from 10 to 90 nm.
    また、前記樹脂組成物は、平均粒径が１０〜９０ｎｍのカーボンブラックを含んでいてもよい。 - 特許庁
  • The outermost surface layer of the metal particle 31 is oxidized to form an oxide with a thickness of 0.5-100 nm.
    金属粒状体３１の最表層は、０．５〜１００ｎｍの厚さで酸化されている。 - 特許庁
  • This head lamp cuts the light in the range of 300-400 nm wave length within the light coming from the head light.
    ヘッドライトから出る光の内、波長３００〜４００ｎｍ付近の範囲の光をカットする。 - 特許庁
  • The elastic resin for the belt conveyor is formed so that magnetic powder having grain sizes between 20-500 nm are included and kneaded.
    （１）粒径が２０〜５００ｎｍの磁性体粉末が混練されたベルトコンベア用弾性樹脂。 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING FEATURE OF 50 NM OR LESS HALF-PITCH WIDTH BY USING CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST IMAGING
    化学増幅レジスト・イメージングを用いて５０ＮＭ以下のハーフピッチ幅のフィーチャーを形成する方法 - 特許庁
  • In the photopolymerization method, the polymerizable composition is exposed to a laser beam having ≤450 nm wavelength.
    光重合方法は、該重合性組成物を４５０nm以下の波長を有するレーザ光で露光する。 - 特許庁
  • The aromatic hydrocarbon is ethyl toluene, and SiC has a 10-30 nm average particle diameter.
    芳香族炭化水素は、エチルトルエンであり、ＳｉＣは平均粒径が10〜30ｎｍであることを特徴とする。 - 特許庁
  • The front ink accepting layer mainly consists of a pigment having the average particle diameter of 30 to 500 nm and a binder.
    最表のインク受理層は、平均粒子径が30〜500nmの顔料と結着剤を主成分とする。 - 特許庁
  • After annealing, a 1,800 nm GaN layer 14 is grown on the GaN buffer layer 12.
    アニールのあと、ＧａＮバッファ層１２上に１８００ｎｍのＧａＮ層１４を成長させる。 - 特許庁
  • The gas blowing speed in the second step is made to ≥0.4 Nm^3/min/ton of molten steel.
    第２ステップにおけるガス吹き込み速度を溶鋼トン当たり０．４Ｎｍ^3／ｍｉｎ以上とする。 - 特許庁
  • (1) The porous fiber has ≤30 nm average recessed part length of recessed part of fiber surface.
    （１）繊維表面凹部の平均凹長が３０ｎｍ以下であることを特徴とする多孔繊維。 - 特許庁
  • Then, according to the film thickness of the metal film formed of Ti is to be at least 10 nm.
    その際前記Ｔｉによって形成される金属膜の膜厚を１０ｎｍ以上とする。 - 特許庁
  • The average particle diameter of the fine anhydrous silica is preferably 7 to 40 nm.
    また、前記微粒子無水シリカの粒子径は、平均粒子径で７〜４０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁
  • The backside 21b of the plate material has an RMS roughness of ≤2 nm in a region of 1×1 μm.
    板材の裏面２１ｂは、１μｍ×１μｍの領域のＲＭＳ粗さが２ｎｍ以下である。 - 特許庁
  • The optical fiber has an effective cross-sectional area of 90 μm^2 or more at wavelength of 1,550 nm.
    ファイバは、１５５０ｎｍの波長において９０μｍ^２以上の実効断面積を有する。 - 特許庁
  • To provide a pattern exposure device capable of being operated by an ultraviolet light having a wavelength of 300 nm or less.
    波長３００ｎｍ以下の紫外光で動作できるパターン露光装置を提供する。 - 特許庁
  • The first layer 12 is 2,000±0.200 in refractive index (n1), and 16.7 nm in film thickness (d1).
    第１層１２は、屈折率（ｎ１）が２．０００±０．２００であり、膜厚（ｄ１）が１６．７ｎｍである。 - 特許庁
  • (C) A diameter of the hollow portion of the nano structural hollow carbon material is in a range of 0.5-90 nm.
    （Ｃ）ナノ構造中空炭素材料の中空部の径が、０．５ｎｍ〜９０ｎｍの範囲である。 - 特許庁
  • Furthermore, the total amount of Ti and V contained in deposits with a size of less than 20 nm is more than 0.150 mass%.
    さらに、大きさが20nm未満の析出物に含まれるTiとVの合計量は0.150 mass%以上である。 - 特許庁
  • A metallic fine particle 102 having a particle size of 5 nm or less is formed on a substrate 101.
    基板１０１の上に、直径が５ｎｍ以下の粒子径の金属微粒子１０２を形成する。 - 特許庁
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