「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 287 288 次へ＞- The hard coating film has an inorganic oxide particle having 1 nm or more to 20 nm or less of average distribution diameter, and a resin having a hydrophilic group and introduced with an acrylic group.
本発明のハードコート膜は、平均分散粒径が１ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下の無機酸化物粒子と、親水基を有し、かつ、アクリル基を導入した樹脂とを含有してなることを特徴とする。 - 特許庁 - The lubricant comprises iron sulfide fine particles having ≥1 nm and ≤100 nm average particle diameter and a surfactant respectively by ≥0.01 mass% and ≤10 mass%.
この発明の潤滑剤は、平均粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である硫化鉄微粒子と界面活性剤を、それぞれ０．０１質量％以上１０質量％以下の割合で含有する。 - 特許庁 - In the synthesis method, inexpensive titanium chloride and carbon chloride are used and TiC and TiCN powder or composite powder containing Ni, Co and Al components in TiC and TiCN which have several 10 nm particle size are synthesized in relatively simple processes.
本発明は安価な塩化チタンおよび塩化炭素を用い、比較的に簡単な工程で数十nmの大きさのTiCおよびTiCN粉末、またはTiCおよびTiCNにNi、Co、Al成分を含む複合粉末を合成する。 - 特許庁 - The antireflection layer with the minimum reflectance at 1300±50 nm as the first wavelength and at 1550±50 nm as the second wavelength according to the above conditions can be obtained from an optical multilayered film 20 having a four-layer structure.
この条件により第１の波長が１３００±５０ｎｍ、第２の波長が１５５０±５０ｎｍで反射率が極小となる反射防止層が４層構成の光学多層膜２０で実現できる。 - 特許庁 - The thermoplastic composite material is obtained by mixing the fine particles having ≥50% hydrophobicity measured by a methanol titration test, and ≥1 nm and ≤30 nm particle diameters.
熱可塑性複合材料において、メタノール滴定試験による疎水化度が５０％以上であり、粒子径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下である微粒子をシクロオレフィン系ポリマーに混合して得られるものとする。 - 特許庁 - Thus, the objective fine particle-carrying carbon particles having an average particle diameter of 10-80 nm are obtained which carry the fine metal oxide particles or fine metal hydroxide particles having an average particle diameter of 0.1-2 nm.
これにより、平均粒子径が0.１〜２ｎｍである金属酸化物微粒子あるいは金属水酸化物微粒子を担持した、平均粒子径１０〜８０ｎｍの微粒子担持カーボン粒子を得る。 - 特許庁 - The cathode catalyst layer has a pore of a diameter of 3 nm to 10 μm or less, and 40 to 70% of the total volume of the micropore is the pore of diameters of 50 nm to 10 μm.
前記カソード触媒層は、直径３ｎｍ〜１０μｍ以下の細孔を有し、前記細孔の全体積の４０〜７０％は、直径５０ｎｍ〜１０μｍの細孔であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photo acid generator, one component of a chemical amplification photo resist which has spectral sensitivity in the visible light region, especially argon laser light (488 nm or 514 nm) and can improve workability.
可視域に、特にアルゴンレーザー光（４８８ｎｍ又は５１４ｎｍ）に分光感度を持ち、作業性を向上できる化学増幅系フォトレジストの一成分系光酸発生剤を提供するものである。 - 特許庁 - The compounds (I) preferably contain a compound (Ia) having a maximum absorption wavelength of 800 to <850 nm and a compound (Ib) having a maximum absorption wavelength of 850-920 nm.
好ましくは化合物（Ｉ）として、最大吸収波長が８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満である化合物（Ｉａ）と最大吸収波長が８５０〜９２０ｎｍである化合物（Ｉｂ）とを含む。 - 特許庁 - The method includes a process for comparing absorbance at a low wavelength side of for example 500-590 nm of visible ultraviolet rays that are transmitted through the water to be tested with absorbance at a high wavelength side of for example 600-680 nm.
被試験水を透過する可視紫外光の、例えば５００〜５９０ｎｍの低波長側の吸光度と、例えば６００〜６８０ｎｍの高波長側の吸光度とを比較する工程を含んでいる。 - 特許庁 - The thickness D1 of the phase shift element 1A is set to a value of 550 nm obtained by substituting 550 nm as a center wavelength and 0.5 as Δn in D1Δn=center wavelength/2.
位相シフト素子１Ａの厚さＤ１は、Ｄ１ Δｎ ＝ 中心波長／ ２において、中心波長として５５０ｎｍ、Δｎとして０．５を代入することによって得られる値５５０ｎｍに設定する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a leather-like sheetlike material which absorbs more ultraviolet light at a wavelength range of 300 nm to 360 nm and has improved light resistance.
本発明は、３００ｎｍから３６０ｎｍの波長域での紫外線をより多く吸収することができる耐光性を向上した皮革様シート状物の製造方法を提供せんとするものである。 - 特許庁 - To provide an optical fiber having high reliability on hydrogen-resistant characteristics and suitable for WDM transmission in the wavelength range of 1310 nm to 1625 nm, and to provide a method of estimating an optical fiber.
耐水素特性に対する信頼性が高く、１３１０ｎｍ〜１６２５ｎｍの波長領域におけるＷＤＭ伝送に好適な光ファイバおよび光ファイバの評価方法を提供する。 - 特許庁 - The barrier layer preferably has an absorbance to light of 340-380 nm wavelength of ≤0.10 and an absorbance to light of 240-300 nm wavelength of ≥0.15.
バリア層の波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの光に対する吸光度が０．１０以下であり、かつバリア層の波長２４０ｎｍ〜３００ｎｍの光に対する吸光度が０．１５以上であることが好ましい。 - 特許庁 - Bottle cleaning water is irradiated with ultraviolet light including ultraviolet light of a wavelength of 253.7 nm and ultraviolet light of a wavelength of 184.9 nm in the presence of an oxidant to sterilize bacteria in the cleaning water.
容器洗浄水に対し、酸化剤の存在下で、波長が２５３．７ｎｍの紫外線および１８４．９ｎｍの紫外線を含む紫外線を照射し、前記洗浄水中の細菌を死滅させる。 - 特許庁 - The photocatalyst substance is a titanium oxide photocatalyst of visible light type which is applied in a wavelength region near 600 nm; a laser diode whose outgoing wavelength is about 600 nm can be used as the laser light source 11.
光触媒物質は６００ｎｍ付近の波長域に対応できる可視光型の酸化チタン光触媒とし、レーザ光源１１には出射波長が６００ｎｍ程度のレーザダイオードが使用できる。 - 特許庁 - The Aluminum atom is added to every layer of the InGaN light emitting diode (LED) to cause the LED to emit UV light with a wavelength between 300 nm and 380 nm which is invisible to human eyes.
人間の眼では見ることのできない波長３００ｎｍから３８０ｎｍの紫外線を放出するために、発光ダイオード（ＬＥＤ）にアルミニウム原子をＩｎＧａＮ発光ダイオードの全層に追加する。 - 特許庁 - In the phosphor radiating emission by excitation by a long wavelength ultraviolet ray or a short wavelength visible ray having a light- emitting wavelength of 350 nm to 420 nm, an Eu^3+ ion is arranged bidimensionally or unidimensionally.
発光波長が３５０ｎｍから４２０ｎｍの長波長紫外線及び短波長可視光線により励起され発光する蛍光体において、Ｅｕ^3+イオンを2次元または1次元に配列した蛍光体。 - 特許庁 - The retardation film has an in-plane birefringence index of 0.001 or more at a wavelength of 590 nm and a birefringence index in a thickness direction of 0.001 or more at a wavelength of 590 nm.
本発明の位相差フィルムは、好ましくは、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００１以上、波長５９０ｎｍにおける厚み方向の複屈折率が０．００１以上である。 - 特許庁 - A first semiconductor laser 2 for DVD, having an emission wavelength of 650 nm and a second semiconductor laser 3 for CD having an emission wavelength of 780 nm are arranged on a submount 1.
サブマウント１上には、半導体レーザとして、ＤＶＤ用の発光波長６５０ｎｍの第１の半導体レーザ２と、ＣＤ用の発光波長７８０ｎｍの第２の半導体レーザ３とが配置されている。 - 特許庁 - Moreover, since the threshold of the optical filter 18 is longer than 805 nm, indocyanine green which has an excitation light (wavelength 805 nm) on an extreme side of the infrared among various kinds of phosphor materials can be utilized.
また、光学フィルター１８の閾値が８０５ｎｍより大きいため、各種の蛍光物質のうち、最も赤外側に励起光（波長８０５ｎｍ）があるインドシアニングリーンも利用することができる。 - 特許庁 - The resin composition comprises (A) a binder polymer, (B) light/heat conversion agent having absorption at 700 to 1,300 nm and (C) polyaniline and can be engraved by laser beams of 700 to 1,300 nm wavelength.
（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）７００〜１３００ｎｍに吸収を有する光熱変換剤、及び、（Ｃ）ポリアニリンを含有し、波長が７００ｎｍ〜１３００ｎｍのレーザーにより彫刻可能な樹脂組成物。 - 特許庁 - The method includes using between 500 ps/nm and 2000 ps/nm of residual dispersion and a 40%/60% pre/post dispersion compensating unit split ratio when the channel wavelength are shorter than the zero dispersion wavelength.
本発明は、５００ｐｓ／ｎｍ〜２０００ｐｓ／ｎｍの残留分散、および、チャンネル波長がゼロ分散波長未満の場合は４０％／６０％の事前／事後ＤＣＵ分割比を用いるステップを含む。 - 特許庁 - The resin composition for laser marking comprises a thermoplastic resin and a colorant having an absorption maximum of 500-550 nm, and has a spectral reflectance at 500-550 nm of ≤50%.
熱可塑性樹脂に対し、５００〜５５０ｎｍに吸収極大を有する着色剤を含有してなり、５００〜５５０ｎｍの分光反射率が５０％以下であるレーザーマーキング用樹脂組成物を用いる。 - 特許庁 - Preferably, the gas diffusion electrode is manufactured from a viscous mixture, including a sol that includes particles having an average particle diameter of 0.5 μm to 50 μm or Sol particles having an average particle diameter of 10 nm to 100 nm.
好ましくは、及び平均粒子径がそれぞれ０．５〜５０μｍの粒子又は１０〜１００ｎｍのゾル粒子を含むゾルを含む粘性混合物から上記ガス拡散電極を製造する。 - 特許庁 - A GaAs crystal thin film 33 of 2 nm in thickness and an Si crystal thin film 34 of 100 nm in thickness are grown on a semiconductor substrate wherein the protrusions are formed, thereby obtaining the semiconductor multilayer substrate.
そして、この凸部の形成された半導体基板上に上に厚み２ｎｍのＧａＡｓ結晶薄膜３３および１００ｎｍのＳｉ結晶薄膜３４を成長して半導体多層基板を得る。 - 特許庁 - The fluorescent material is excited by light which is contained in the white light and whose wavelengths are not more than 500 nm, and converts the light to red light having a peak wavelength within a wavelength range of 630 to 680 nm.
蛍光体は、上記白色光に含まれる５００ｎｍ以下の波長の光で励起し、その光を６３０〜６８０ｎｍの波長領域内にピーク波長を有する赤色光に変換する。 - 特許庁 - The optical fiber (400) has negative wavelength dispersion and negative dispersion slope, for example, in a specified wavelength band with a 35 nm band width included in the wavelength range from 1,460 to 1,625 nm.
当該光ファイバ(400)は、例えば1460〜1625ｎｍの波長範囲内に含まれる波長帯域であって帯域幅35ｎｍの特定波長帯域において、負の波長分散と負の分散スロープとを有する。 - 特許庁 - Nanotubes having about 5-80 nm diameter and 50-150 nm length are obtained by alkali-treating the crystalline titania under the conditions of 13-65 wt.% concentration of sodium hydroxide and at 18-160°C.
結晶チタニアを水酸化ナトリウム濃度１３〜６５ｗｔ％で、温度１８〜１６０℃の条件下でアルカリ処理することにより、直径が約５〜８０ｎｍ、長さが５０〜１５０ｎｍのナノチューブが得られる。 - 特許庁 - By adjusting the thickness of the substrate 23 and the incident angle of the laser beam, the optical path of the laser beam of 650 nm wavelength is matched with that of the laser beam of 780 nm wavelength.
基板２３の厚みおよびレーザ光の入射角を調整することにより、波長６５０ｎｍのレーザ光の光路と波長７８０ｎｍのレーザ光の光路とを一致させることが可能となる。 - 特許庁 - The light absorbing type antireflection film is set so that its minimum reflectance is ≤0.5%, its transmittance at 550 nm wavelength is ≥70% and its reflectance at 400 nm wavelength is ≤2%.
この光吸収型反射防止フィルムは、最小反射率が０．５％以下、波長５５０ｎｍにおける透過率が７０％以上、波長４００ｎｍにおける反射率が２％以下である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a cellulose acylate film capable of manufacturing a phase difference film of high quality having characteristics wherein Re is 100 nm≤Re≤400 nm and Rth/Re is 0.5 or below.
Ｒｅが１００ｎｍ≦Ｒｅ≦４００ｎｍで、且つ、Ｒｔｈ／Ｒｅが０．５以下の特性を有する位相差フィルムを高い品質で製造することができるセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The transmissivity of at least either of light with a wavelength of 700 nm and light with a wavelength of 800 nm is preferably 60% or more, and the transmissivity of the light with a peak wavelength is preferably 80% or more.
波長７００ｎｍおよび８００ｎｍの少なくとも一方の光の透過率が６０％以上であるのが好ましく、ピーク波長の光の透過率が８０％以上であるのが好ましい。 - 特許庁 - In the optical anisotropic body, the ratio Re(450)/Re(550) for retardation Re(550), measured at a wavelength range of 550 nm to retardation Re(450) measured at wavelength 450 nm, is 1.007 or smaller.
光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下である。 - 特許庁 - To provide confocal self-interference microscopy from which a side lobe can be removed without reducing a size of a main beam, and capable of observing an object of several tens nm without distortion.
主ビームのサイズを減らすことなくサイドローブを除去することを可能にし、数十nmのサイズを有する物体を歪むことなく観察することができる共焦点自己干渉顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - The multilayered barrier layer 45 has a three-layered structure composed of an n-type AlGaAs layer 45a, a non-doped AlGaAs layer 45b of thickness 2.5 to 5 nm, and an n-type AlGaAs layer 54c of thickness 10 nm.
多層障壁層４５は、ｎ型ＡｌＧａＡｓ層４５ａ、膜厚２.５〜５ｎｍのノンドープＡｌＧａＡｓ層４５ｂ、膜厚１０ｎｍのｎ型ＡｌＧａＡｓ層５４ｃの３層構造となっている。 - 特許庁 - The copolymer has a form of an aqueous dispersion of particles having 90-110 nm weight-average diameter, about 80 nm number-average diameter and a glass transition temperature within the range of -60 to +100°C.
当該コポリマーは、９０〜１１０ｎｍの重量平均径、屋８０ｎｍの数平均径、及び−６０℃〜＋１００℃の範囲のガラス転移温度を有する粒子で水性分散液の形態を有する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and having high sensitivity, high resolution and high coating property.
１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The polyvinyl alcohol film has ≤20 nm long period and ≤15 nm thickness of an amorphous part, measured by small angle X-ray scattering, and 30-70 μm thickness of the film.
小角Ｘ線散乱法により求められる長周期が、２０ｎｍ以下で、かつ非晶部の厚さが１５ｎｍ以下であり、フィルムの厚みが３０〜７０μｍであることを特徴とするポリビニルアルコール系フィルムである。 - 特許庁 - Fibrous carbon as a conductive agent for the cathode has an average fiber radius of 50 nm to 300 nm, a fiber length of 5 μm to 100 μm, and a BET specific surface area of 30m^2/g or less.
正極の導電剤としての繊維状炭素は、５０ｎｍ〜３００ｎｍの平均繊維径、５μｍ〜１００μｍの繊維長および３０ｍ^2 ／ｇ以下のＢＥＴ比表面積を有する。 - 特許庁 - This silicon carbide film 1b is formed in an air-bearing surface (ABS surface 2) of the slider main body 1a facing the information recording medium with a thickness of 0.46 nm or larger; to smaller than 10.0 nm.
この炭化珪素膜１ｂは、スライダ本体１ａの情報記録媒体に対向する空気軸受け面（ＡＢＳ面２）に形成されており、０．４３６ｎｍ以上１０．０ｎｍ未満の膜厚を有している。 - 特許庁 - Otherwise, the polishing liquid 16 of silica slurry of pH 8 to 12 containing water and silica coarse particles having an average grain size not less than 20 nm and not more than 500 nm is supplied to the contacting part for polishing.
または、上記摺接部分に、平均粒子サイズが２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下の粗粒子シリカと水を含みｐＨが８〜１２のシリカスラリーによる研磨液16を供給して研磨する。 - 特許庁 - The laser annealing method is so performed that a film material including an amorphous silicon film disposed on a substrate is irradiated by a linear beam shaped by using the laser beam emitted from a pulse-laser light source whose wavelength is not shorter than 350 nm and not longer than 800 nm.
波長が350nm以上800nm以下であるパルスレーザ光源からのレーザビームを成形した線状ビームを基板上の非晶質シリコン膜を含む膜材料に照射してレーザアニールする。 - 特許庁 - The nano whisker, i.e., a polymer of an aromatic hydroxycarboxylic acid having the whole length of at least 10 nm and less than 900 nm, and the thermoplastic resin composition obtained by formulating it to the thermoplastic resin are provided.
芳香族ヒドロキシカルボン酸の重合体であり、全長が１０ｎｍ以上９００ｎｍ未満のナノウィスカー、および、それを熱可塑性樹脂に配合して得られる熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁 - In this Eu doped CsBr type storage phosphor screen or panel, 10/9 of ultraviolet luminescence intensity ratio is provided after exposed by a radiation having a wavelength of a range from 150 nm to 400 nm without pretreating the storage phosphor screen or panel using a short ultraviolet ray having a wavelength of a range from 150 nm to 300 nm having 10 mj/mm^2 of energy.
ＥｕドープされたＣｓＢｒ型貯蔵燐光体スクリーン又はパネルであって、１０ｍＪ／ｍｍ^２のエネルギーを有する１５０ｎｍから３００ｎｍまでの範囲の短紫外線を用いた貯蔵燐光体スクリーン又はパネルの前処理を行わずに１５０ｎｍから４００ｎｍまでの範囲の波長を有する放射線で露光された後に１０／９の紫外線ルミネセンス強度の比を与える。 - 特許庁 - The ultraviolet absorbing film is made of a polyolefin resin containing an ultraviolet absorber and includes at least an ultraviolet absorbing layer which absorbs ultraviolet rays 410 nm or shorter in wavelength and the light transmittance of which is 25% or below at 410 nm, 5% or below at 405 nm, and at least 45% at 600 nm or above.
紫外線吸収剤を含有したポリオレフィン樹脂からなる、４１０ｎｍ以下の紫外線を吸収し、４１０ｎｍにおける光線透過率が２５％以下であり、かつ、４０５ｎｍにおける光線透過率が５％以下で、６００ｎｍ以上の光線透過率が４５％以上である紫外線吸収層を少なくとも含むことを特徴とする紫外線吸収フィルムおよびそのフィルムを用いた包装体である。 - 特許庁 - The wavelength of the ultraviolet laser beams 1 is in a range of 100-400 nm, and preferably in a range of ≥ 157 nm and ≤ 355 nm because clear marking can be performed on various kinds of hard materials, and cracks caused by thermal shock must not be generated, and more preferably, the wavelength thereof is ≤ 300 nm because some hard materials are specially weak for thermal shock.
紫外線レーザ光１としては、例えば波長が１００〜４００ｎｍの範囲からなり、各種の硬質材料の全てに対して明確にマーキングを施せ、熱衝撃によるクラックを生じさせることのない必要があることから、１５７ｎｍ以上３５５ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、更には熱衝撃に特に弱い硬質材料も存在することから、３００ｎｍ以下が望ましい。 - 特許庁 - The base sheet for optical sheet includes a transparent base film and an anti-sticking layer laminated on one side surface of the base film, wherein the anti-sticking layer includes fillers and a resin binder, an average thickness of a flat part of the anti-sticking layer is 50 nm to 150 nm and an average particle size of the fillers is 70 nm to 200 nm.
本発明の光学シート用基材シートは、透明な基材フィルムと、基材フィルムの一方の面に積層されるスティッキング防止層とを備える光学シート用基材シートであって、スティッキング防止層がフィラーとその樹脂製バインダーとを含み、スティッキング防止層の平坦部の平均厚さが５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下で、フィラーの平均粒子径が７０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The method for selecting the polyester composition comprises a step of obtaining the polyester composition, a step of determining transmission rates per 1 mm thickness at wavelengths between 800 nm and 1,200 nm of a molded article made from the polyester composition, and a step of selecting the polyester composition if the transmission rates per 1 mm thickness are not less than 10% at the wavelengths between 800 nm and 1,200 nm.
ポリエステル組成物を選択するための方法には、ポリエステル組成物を得るステップ、８００ｎｍと１２００ｎｍの間の波長においてポリエステル組成物から作製される成形品の厚さ１ｍｍ当たりの透過率を決定するステップ、および８００ｎｍと１２００ｎｍの間の波長における厚さ１ｍｍ当たりの透過率が１０％以上である場合ポリエステル組成物を選択するステップを含む。 - 特許庁 - The coating film 3 contains in a transparent binder 34 bismuth vanadate particles 31 surface-treated with a silane coupling agent and having a volume average particle diameter of 10-200 nm and a 90% diameter on a volume basis of <300 nm, zinc oxide particles 32 having a volume average particle diameter of 10-200 nm, and cobalt multiple oxide particles 33 having a volume average particle diameter of 10-200 nm.
コーティング膜３は、透明性バインダー３４に、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍかつ体積基準９０％径が３００ｎｍ未満であって、表面がシランカップリング剤で処理されたバナジン酸ビスマス粒子３１と、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍである酸化亜鉛粒子３２と、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍであるコバルト複合酸化物粒子３３が含有されている。 - 特許庁
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