「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 44 45 46 47 48 49 50 51 52 .... 287 288 次へ＞- To provide a new photoresist composition capable of forming an image by irradiation with a light in a short wavelength of 248 nm and, especially <200 nm, such as 193 nm, and capable of forming a relief image high in resolution, especially, a small image like a 0.25 μm image.
本発明は、特に、２４８ｎｍおよび１９３ｎｍなどの２００ｎｍ未満のような短波長の照射光で画像を形成できる新しいフォトレジスト組成物であって、高解像度のレリーフ画像、特に０．２５μｍ未満の画像のような、小さな画像を供し得るようなレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To easily analyze the mass (size) of a cluster if it has a large grain size of the order of 10 nm or more.
粒径が十数ｎｍ程度のサイズが大きいクラスターでも、容易に質量（サイズ）の分析を可能とする。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and to concretely provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and ensuring small line edge roughness, few development defects and little scum.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - To provide gold nanoparticles with an average particle diameter of 3 nm or smaller, and a method for producing them at a high yield.
平均粒子径３nm以下の金ナノ粒子とこれを高収率で製造する方法等を提供する。 - 特許庁 - The thickness difference of the first part 2a and the second part 2b is 30-70 nm preferably.
第１の部分２ａと第２の部分２ｂとの膜厚差は、３０ｎｍ〜７０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - The substrate for the display device has a gas barrier layer containing inorganic particles containing ultrafine particles whose weight average particle diameter (D_50) is 10 to 200 nm and whose aspect ratio is below 20 and an organic material, and a plastic film, and a value of retardation (Re) at a wavelength of 632.8 nm is 15 nm or less.
重量平均粒径（Ｄ_５０）が１０〜２００ｎｍ、アスペクト比が２０未満の超微粒子を含有する無機粒子及び有機素材を含むガスバリヤ層と、プラスチックフィルムとを有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、１５ｎｍ以下であることを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁 - An optical path composing element 5 is a diffracting element through which laser of 650 nm passes as it is and which diffracts laser light of 780 nm in wavelength to converge it on the same position with the laser light of 650 nm in wavelength and also a resin molding which has an incidence plane 51 and an emission plane 52 where a diffraction grating is formed.
光路合成素子５は、波長６５０ｎｍのレーザ光を素通りさせ、波長７８０ｎｍのレーザ光を回折して、波長６５０ｎｍのレーザ光と同一位置に集光させるための回折素子であり、入射面５１と、回折格子が形成された出射面５２を備えた樹脂成形品である。 - 特許庁 - A preferable nano-sheet structure is such that the length in the most longitudinal direction of each sheet is 10-300 nm.
このナノシート構造体は、シートの最長方向の長さが１０〜３００ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - The organic EL display device has organic EL element OLEDs and a ultraviolet-ray shielding layer MFL of which transmissivity of visible light at wave length of 418 nm or shorter is not more than 3%, and that from 450 nm to 770 nm is not less than 40%.
本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤと、その前面側に配置されると共に可視光線についての透過率が４１８ｎｍ以下の各波長で３％以下であり且つ４５０ｎｍ乃至７７０ｎｍの各波長で４０％以上である紫外線遮断層ＭＬＦとを具備したことを特徴とする。 - 特許庁 - A touch panel sensor 30 with a protective cover 12 is characterized in that a first transparent conductor 40 has a thickness of 22.7 nm or less, and also has light refractive indexes of 1.97+0.13/-0.3 to light of 550 nm in wavelength and 2.12+0.13/-0.3 to light of 400 nm in wavelength.
保護カバー１２付タッチパネルセンサ３０において、第１透明導電体４０は、その厚みが２２．７ｎｍ以下となっており、かつその光屈折率が、波長５５０ｎｍの光に対して１．９７＋０．１３／−０．３の範囲内となっており、波長４００ｎｍの光に対して２．１２＋０．１３／−０．３の範囲内となっている。 - 特許庁 - The laser 1 is a semiconductor laser is gallium nitride, and its oscillation wavelength is 408 nm.
半導体レーザー１は窒化ガリウム系の半導体レーザーであり、その発振波長は４０８ｎｍである。 - 特許庁 - The semiconductor laser element 1 emits a so called blue purple laser having an oscillation wavelength of 300-500 nm.
半導体レーザ素子１は、発振波長が３００〜５００ｎｍのいわゆる青紫色レーザを放射する。 - 特許庁 - An Ni thin film 3 of 5 nm that serves as a catalyst material layer is deposited on a silicon substrate 1 (Fig.1(a)).
シリコン基板１上にカタリスト材料層となるＮｉ薄膜３を５ｎｍ蒸着する（図１（ａ））。 - 特許庁 - When the green LED 23 is lighted, the hinge part 27 is irradiated with green light of about 540 nm.
緑色ＬＥＤ２３が点灯すると、約５４０ｎｍの緑色光がヒンジ部２７に照射される。 - 特許庁 - To manufacture a hollow device having a microscopic diameter in the units of nm-μm easily and at low cost.
ｎｍ〜μｍ単位の微細な直径を有する中空デバイスを簡易にかつ低コストで製造する。 - 特許庁 - The average spacing (S_m) of the ruggedness in a roughness curve is ≤700 nm.
めっき面平坦部の微細凹凸は、粗さ曲線の凹凸の平均間隔（Ｓ_m）が７００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - Consequently, even when a band width is, for example, ≤2 nm, a desired filtering characteristic can be obtained.
このため、例えば帯域幅が２ｎｍ以下であっても所望のフィルタリング特性を得ることが可能となる。 - 特許庁 - The thickness of this second layer 4 is 5 nm at the maximum, and it is formed substantially thinner than the first layer.
この第二層４の厚さは最高で５ｎｍであり、第一層よりも実質的に薄く形成される。 - 特許庁 - The fourth layer 15 is 1,460±0.200 in refractive index (n4), and 88.4 nm in film thickness (d4).
第４層１５は、屈折率（ｎ４）が１．４６０±０．２００であり、膜厚（ｄ４）が８８．４ｎｍである。 - 特許庁 - The information recording disk is composed of this glass and has a polished surface having 0.1-0.5 nm surface roughness Ra (JIS B0601).
このガラスからなり、表面粗さRa(JIS B0601)が0.1-0.5nmの範囲である研磨面を有する情報記録ディスク。 - 特許庁 - The third layer 14 is 2,000±0.200 in refractive index (n3), and 139.2 nm in film thickness (d3).
第３層１４は、屈折率（ｎ３）が２．０００±０．２００であり、膜厚（ｄ３）が１３９．２ｎｍである。 - 特許庁 - Then a non-magnetic intermediate layer having 1-10 nm thickness is provided between the soft magnetic film and the perpendicular magnetization film.
また、軟磁性膜と垂直磁化膜の間に１〜１０ｎｍの範囲の非磁性中間層を設ける。 - 特許庁 - The sheet 10 has the coating film 12 having a thickness of 30 nm or more on the surface of film base material 11.
シート１０は、フィルム基材１１の表面に厚みが３０ｎｍ以上の被膜１２を有する。 - 特許庁 - The coating layer is composed of a nobel metal layer which is composed of nobel metal particles of 1 to 15 nm in diameter adjoining one another at an average interval of less than 10 nm, and an alloy layer formed between the nobel metal layer and copper foil base and composed of an alloy of copper and nobel metal to a thickness of equal to or larger than 1 nm.
被覆層は、互いに平均間隔１０ｎｍ未満で隣接し、且つ、直径が１〜１５ｎｍである貴金属粒子で構成された貴金属層と、貴金属層と銅箔基材との間に形成され、厚みが１ｎｍ以上である銅と貴金属との合金層とで構成されている。 - 特許庁 - The anatase type titanium dioxide particles comprise titanium dioxide and zirconium oxide and has a zirconium oxide content in a range of 1-30 wt.% and a crystallite diameter in a range of 15-50 nm, wherein an average maximum particle width (W_M) is in a range of 2-50 nm and an average particle length (L) is in a range of 10-500 nm.
酸化チタンと酸化ジルコニウムとからなり、酸化ジルコニウムの含有量が１〜３０重量％の範囲にあり、結晶子径が１５〜５０ｎｍの範囲にあるアナタース型酸化チタン粒子であって、平均粒子最大幅（Ｗ_M）が２〜５０ｎｍの範囲にあり、平均粒子長（Ｌ）が１０〜５００ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - The thermal recording medium contains, as a light-heat conversion material, a particle-like inorganic material with a ratio (Y/X) of 2 or more (wherein X is an average value of light absorption intensity of wavelength of 400-700 nm, and Y is a maximum value of light absorption intensity of wavelength more than 700 nm and equal to or less than 1,200 nm).
４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長の光吸収強度の平均値をＸとし、７００ｎｍ超１，２００ｎｍ以下の波長の光吸収強度の最大値をＹとしたとき、その比（Ｙ／Ｘ）が、２以上である粒子状の無機材料を光熱変換材料として含有する感熱記録媒体である。 - 特許庁 - The projection has on a surface, fine recesses in which intervals of local tops are 2 to 25 nm.
凸部は、表面に、局部山頂の間隔が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下である微小凹部を有している。 - 特許庁 - The photoelectric conversion element, made by lamination of a conductive thin film, a photoelectric conversion film of an organic layer, and a transparent conductive oxide film on a substrate in this order, has the photoelectric conversion film having a thickness of 150 nm or more and the transparent conductive oxide film having a thickness of 5 nm or more and 10 nm or less.
基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が１５０ｎｍ以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が５ｎｍ以上１０ｎｍ以下とした。 - 特許庁 - The near-infrared light cutting filter glass also has an α ray emission amount of 0.002 to 0.02 c/cm^2.h, and a transmittance in the wavelength of 315 nm of <0.3 when conversion is performed in such a manner that a wavelength showing a transmittance of 50% in a spectral transmittance in a wavelength of 550 to 750 nm is 615 nm.
また、α線放出量が０．００２〜０．０２ｃ／ｃｍ^２・ｈ、かつ波長５５０〜７５０ｎｍの分光透過率において５０％の透過率を示す波長が６１５ｎｍとなるように換算した場合に、波長３１５ｎｍにおける透過率が０．３％未満である近赤外線カットフィルタガラスである。 - 特許庁 - To provide a super-thin (5 nm or less) silicon oxide film having a high insulation breakdown voltage reduced in leakage current.
絶縁破壊耐圧の高い、リーク電流の少ない超薄(５nm以下)のシリコン酸化膜を提供する。 - 特許庁 - In the mold, an arithmetical mean roughness Ra measured in a measuring region of 10 μm square or less of the mold surface in contact with a molding material is set to 5 nm or less, and fine protrusion structures with diameters of 10-80 nm and heights of 10-40 nm are formed on the mold surface with a density of 400 pieces/μm^2 or more.
成形材料と接触する金型表面の、測定領域１０μｍ角以下で測定される算術平均粗さＲａを５ｎｍ以下とし、かつ金型表面に直径１０〜８０ｎｍ、高さが１０〜４０ｎｍの範囲にある粒状の微細凸構造物を密度４００個／μｍ^２以上で形成する。 - 特許庁 - The gas-liquid contact membrane has fine holes, wherein the pitch of the fine holes is 30-1,000 nm; the diameter of the fine holes is 10-300 nm; the thickness of the gas-liquid contact membrane is 30-1,000 nm, and a standard deviation of the fine holes in the hole diameter distribution is 30% or less of an average value.
細孔を有する気液接触膜であって、該細孔の細孔ピッチが３０〜１０００ｎｍであり、該細孔の細孔径が１０〜３００ｎｍであり、該気液接触膜の厚さが３０〜１０００ｎｍであり、かつ該細孔の孔径分布における標準偏差が平均値の３０％以下である気液接触膜。 - 特許庁 - At least one kind of the inorganic particles has an average particle diameter of 100 to 500 nm.
前記無機粒子の少なくとも１種が平均粒子径１００〜５００ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - The coating 20 comprises a resin and a plurality of particles, wherein the particles have an average size of 400 nm to 40 μ.
コーティング２０は、樹脂および複数の粒子を含み、この粒子は400nm〜40ミクロンの平均サイズを有する。 - 特許庁 - To provide a fluorescent dye compound which is excitable by light having a wavelength above about 600 nm.
約６００ｎｍを超える長い波長の光により励起可能である蛍光染料化合物の提供。 - 特許庁 - A dichroic coating on a light reflector functions to reflect radiation in the range of about 300 to 600 nm.
反射板上のダイクロイックコーティングは、約３００ないし６００ｎｍの放射を反射するよう機能する。 - 特許庁 - The layout pitch of the structures is 380-680 nm and the aspect ratio of the structure is 0.62-1.09.
構造体の配置ピッチが３８０ｎｍ〜６８０ｎｍであり、構造体のアスペクト比が０．６２〜１．０９である。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically to provide a positive resist composition having sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having improved surface roughness, development defect, scum and resolution.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A part of a primary light is converted to a reddish colored light, whose wavelength is in a range of 600-620 nm.
１次光の１部は、６００〜６２０ｎｍの波長の範囲にある類赤色光に変換される。 - 特許庁 - A preferable thickness of the electroluminescent phosphor is 10-5,000 nm.
上記エレクトロルミネッセンス蛍光体の膜厚は、が１０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The combustible gas is adjusted so as to have a composition with a calorific value of 2,000 kcal/Nm^3 or more.
可燃性ガスは２０００ｋｃａｌ／Ｎｍ^3以上の発熱量を有する成分組成に調整する。 - 特許庁 - After a material to be oxidized is brought to react to permanganic acid ions in a sample liquid, a first absorbance A1 is measured in a wavelength range of 510-560 nm, and a second absorbance A2 is measured in a wavelength range of 400-450 nm or 600-900 nm.
試料液中の被酸化物質と過マンガン酸イオンとを反応させた後、５１０〜５６０ｎｍの波長で測定した第１吸光度Ａ１と、４００〜４５０ｎｍ又は６００〜９００ｎｍの波長で測定した第２吸光度Ａ２とを用い、下記式（１）で求められる△Ａの値から試料液の化学的酸素要求量を求める。 - 特許庁 - The weight average particle diameter of the resinous polymer particles (b) is preferably ≤70 nm.
上記樹脂質重合体粒子（ｂ）の重量平均粒子径は、７０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The coating comprises a resin and a plurality of particles, wherein the particles have an average size of 400 nm to 40 microns.
コーティングは、樹脂および複数の粒子を含み、この粒子は400nm〜40ミクロンの平均サイズを有する。 - 特許庁 - A resistivity is 1×10^-6 Ωm or less, and a transmittance to 550 nm light is 80% or more.
抵抗率が１×１０^-6Ωｍ以下、５５０ｎｍの光に対する透過率が８０％以上である。 - 特許庁 - Consequently, oscillated light having high coherence of about 710 nm is outputted from the resonator 22.
これにより、共振器２２から７１０ｎｍ前後の高い干渉性を有する発振光が出力される。 - 特許庁 - An average interparticle distance between the particle containing the noble metal and the particle containing iron is ≤500 nm.
貴金属を含む粒子と鉄を含む粒子との間の平均粒子間距離が５００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The conical bodies 22 are several to tens of nm or thereabouts for the radius of curvature in the vicinities of their points.
シリコン針状錐体２２は、その先端付近の曲率半径が数ｎｍ〜十数ｎｍ程度である。 - 特許庁 - A plurality of abnormalities related to the motor 22 includes abnormality of rotation speed NM and abnormality of output.
モータ２２に関連する複数の異常には、回転数ＮＭの異常と、出力の異常とが含まれる。 - 特許庁 - A light transmitter 10 outputs signal light of 1550 nm band wavelength into an optical fiber transmission path 12.
光送信装置１０は、波長１５５０ｎｍ帯の信号光を光ファイバ伝送路１２に出力する。 - 特許庁
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