「patterning」を含む例文一覧(3921)

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  • To provide an efficient patterning device and its control arrangement.
    効率的なパターニング用デバイスおよびその制御機構を提供する。 - 特許庁
  • COMPOSITION AND METHOD FOR REMOVING RESIDUE AND PATTERNING PROCESS
    残留物除去のための組成物と方法及びパターン画定方法 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a resist pattern by double patterning method.
    ダブルパターニング法によるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD OF LIQUID REPELLENT FILM, AND LIQUID REPELLENCY RESTORING METHOD OF LIQUID REPELLENT FILM
    撥液膜のパターニング方法、撥液膜の撥液性回復方法 - 特許庁
  • TWO LAYER-STRUCTURED INTAGLIO AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
    2層構造を有する凹版およびそれを用いたパターニング方法 - 特許庁
  • FABRICATION OF INTEGRATED THIN FILM SOLAR CELL AND PATTERNING SYSTEM
    集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置 - 特許庁
  • METHOD OF NANO-PATTERNING USING SURFACE PLASMON, METHOD OF MANUFACTURING MASTER FOR NANO-IMPRINT AND DISCRETE TRACK MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING NANO-PATTERNING METHOD
    表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、それを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
  • To provide a method for patterning a nano-particle film of an organic/inorganic material.
    有機/無機材料のナノ粒子膜パターニング方法を提供する。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS FABRICATING PROCESS
    パターン形成方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 - 特許庁
  • PATTERNED INORGANIC FACING MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERNING SHEET
    模様付き無機化粧材、その製造方法、および模様付け用シート - 特許庁
  • MULTI-PATTERNING LITHOGRAPHY USING SPACER AND SELF-ALIGNMENT TYPE ASSIST FEATURE
    スペーサ及びセルフアライメント型アシストフィーチャを用いたマルチパターニングリソグラフィ - 特許庁
  • The patterning supporting layer and the 1st electrodes are arranged above the color filter substrate so that the patterning supporting layer is provided between the 1st electrodes.
    パターン化支持層と第一電極は、第一電極間にパターン化支持層を備える状態でカラー濾過基板の上に配置される。 - 特許庁
  • The patterned beam is formed by using a diffraction patterning device.
    パターニングされたビームは回折パターニングデバイスを用いて形成される。 - 特許庁
  • A first polymer film is under the metal foil in which the patterning is carried out.
    第1のポリマーフィルムはパターニングされた金属フォイルの下にある。 - 特許庁
  • ILLUMINATION OF PATTERNING DEVICE BASED ON INTERFERENCE FOR USE IN MASKLESS LITHOGRAPHY
    マスクレスリソグラフィで用いる干渉に基づいたパターニングデバイスの照明 - 特許庁
  • By patterning the conductive layer, a conductive member 110 is formed.
    導電層をパターニングして導電性部材(110)を形成する。 - 特許庁
  • POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERNING
    高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD OF ORGANIC MATERIAL LAYER AND ELECTRONIC DEVICE EMPLOYING IT
    有機材料層のパターニング方法およびこれを用いた電子デバイス - 特許庁
  • In a corresponding device manufacturing method, a patterning support is provided.
    対応するデバイス製造方法においては、パターン支持体を設ける。 - 特許庁
  • Pads 14 are formed by patterning the copper foil 13 (D).
    次に,銅箔13をパターニングすることによりパッド14を形成する(D)。 - 特許庁
  • The lithography apparatus has a patterning supporter constituted so as to support a patterning device and a substrate supporter constituted so as to support a substrate.
    リソグラフィ装置は、パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニング支持体と、基板を支持するように構成された基板支持体とを有する。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD FOR RESIST FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLID-STATE IMAGING DEVICE
    レジスト膜のパターニング方法および固体撮像装置の製造方法 - 特許庁
  • To provide a thin film patterning method that can prevent a patterning member having finished its roll in a process for a thin film or a thin film formed on the patterning member from being attached again onto a substrate.
    薄膜の加工において役割を終えたパターニング部材やこのパターニング部材上に形成された薄膜が基板上に再付着することを回避することを可能にする薄膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
  • The separator 14 of a patterning member unit 10 is stripped off, the patterning member 12 is adhered to the display part 42 of a portable telephone and, thereafter, the range 44 within which the visual field of the display part 42 is to be limited is drawn on a patterning sheet 16.
    型取り部材ユニット10のセパレータ14を剥がし、携帯電話40の表示部42に型取り部材12を貼り付けたのち、表示部42の視野を制限したい範囲44を型取りシート16に描く。 - 特許庁
  • To provide a method of patterning a color conversion layer which achieves patterning with a definition higher than 150 ppi and to provide a method of manufacturing an organic EL display using the patterning method.
    150ppiを超える高精細度のパターン形成を実現することができる、色変換層のパターニング方法を提供すること、および、当該パターニング方法を用いた有機ELディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE THIN FILM OF LIQUID CRYSTAL PANEL SUBSTRATE AND APPARATUS THEREFOR
    液晶パネル基板の導電性薄膜パターニング方法および装置 - 特許庁
  • To automatically stick a PET film on a glass substrate before laser patterning.
    レーザパターニング前のガラス基板に、PETフィルムを自動的に貼り付ける。 - 特許庁
  • A radiation distribution system is provided for distributing radiation to a plurality of patterning means for patterning radiation beams from a lighting system.
    照明システムからの放射ビームをパターニングするための複数のパターニング手段へ放射を分配するための放射分配システムが提供される。 - 特許庁
  • Following the above process, the first layer 10a is completed by patterning the magnetic layer.
    その後、磁性層をパターニングして第1の層10aを完成させる。 - 特許庁
  • CABLING, ITS PATTERNING METHOD, DISPLAY AND ITS MANUFACTURING METHOD
    配線及びそのパターニング方法並びにディスプレイ及びその製造方法 - 特許庁
  • To provide a structure, in which one or more patterning arrays are provided so as to reduce the nonflatness of the patterning arrays in a lithographic apparatus.
    リトグラフ装置において、パターン形成アレーの非平坦度を低減化できるように、一つ以上のパターン形成アレーを設ける構造を提供する。 - 特許庁
  • Patterning for the first time is carried out on a film to be processed on a wafer surface, and the dimension of the pattern formed by the patterning for the first time is measured.
    ウェハ表面の被加工膜に1回目のパターニングを行い、その1回目のパターニングにより形成されたパターンの寸法を測定する。 - 特許庁
  • To enhance workability of patterning that uses a sidewall transfer technology.
    側壁転写技術を使用したパターニングの加工性の向上を図る。 - 特許庁
  • To easily perform inspection of photoresist patterning.
    本発明は、フォトレジストのパターニング検査を簡単に行うことを目的とする。 - 特許庁
  • To improve the contrast of an alignment mark, in such a lithography patterning method as a double patterning method for improving the resolution of an optical lithography.
    光学リソグラフィの解像度を向上させるためのダブルパターニング法などのリソグラフィパターニング法において、アライメントマークのコントラストを改善すること。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR ORGANIC THIN FILM PATTERNING AND ORGANIC EL DEVICE USING THE SAME
    有機薄膜パターニング用基板及び有機EL素子の製造方法 - 特許庁
  • Variables in each step in a double patterning lithographic process are recorded, and characteristics of intermediate features in a double patterning process are measured.
    ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおける工程のそれぞれにおける変数が、記録され、ダブルパターニングプロセスにおける中間フィーチャの特性が、測定される。 - 特許庁
  • METHOD FOR SELECTIVELY PATTERNING SILICON GERMANIUM LAYER BY ION IMPLANTATION
    イオン注入によりシリコンゲルマニウム層を選択的にパターニングする方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD, RETICLE CORRECTING METHOD, AND RETICLE PATTERN DATA CORRECTING METHOD
    パターン形成方法、レチクル補正方法及びレチクルパターンデータ補正方法 - 特許庁
  • To expedite fine patterning of wiring by enhancing reliability in interlayer connection.
    層間接続の信頼性を高め、配線パターンのファイン化を促進する。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
    レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERNING DEVICE USING DUAL PHASE STEP ELEMENT AND USING METHOD THEREOF
    二重位相ステップエレメントを使用するパターニングデバイスおよびその使用方法 - 特許庁
  • METHOD OF PATTERNING OXIDE SEMICONDUCTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR
    酸化物半導体のパターニング方法と薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
  • The wafer is thereafter subjected to desired patterning, by which the optical waveguide 9 is formed.
    その後、所望のパターニングを行い、光導波路9を形成する。 - 特許庁
  • A patterning process of the transparent electrode layer is performed by using a mask identical to a mask used in a process of patterning a second metal layer of a switch TFT and a process of patterning an ohmic contact layer, so that an FPD is manufactured without increasing the number of masks.
    更に、透明電極層のパターニング工程をスイッチTFT部の第2の金属層のパターニング/オーミックコンタクト層のパターニングの工程と同一マスクで行い、マスク枚数を増やさずにFPDを製造する。 - 特許庁
  • A positioning system positions a patterning support and a substrate support.
    位置決めシステムはパターニング支持体および基板支持体を位置決めする。 - 特許庁
  • METHOD FOR PATTERNING TRANSPARENT ELECTRODE AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID-CRYSTAL DISPLAY
    透明電極パターニング方法及び液晶表示装置の製造方法 - 特許庁
  • To provide a patterning head and a patterning apparatus in which a membrane formed on a substrate can be peeled or removed in a good state.
    基板上に形成された膜を良好な状態で剥離または除去することができるパターニングヘッドおよびパターニング装置を提供する。 - 特許庁
  • LIQUID IMMERSION EXPOSURE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
    液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • A gate electrode 12 is formed on a polymer substrate 11 by patterning.
    高分子基板11上にゲート電極12をパターニングして形成する。 - 特許庁
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