「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 78 79 次へ＞- To attain highly accurate patterning while maintaining the throughput.
スループットを維持したまま高精度なパターン形成を実現する。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, LAMINATE, ARRAY SUBSTRATE, AND ELECTRONIC DEVICE
パターニング方法、積層体、並びにアレイ基板および電子デバイス - 特許庁 - Then a patterning part 20 and the color space conversion part 30 perform patterning processing on the basis of the generated intermediate codes.
そして、描画部２０と色空間変換部３０が生成された中間コードに基づいて描画処理を行なう。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE USING THE SAME
パターニング方法及びそれを用いたデバイスの製造方法 - 特許庁 - At least one position sensor measures the position of the patterning device relative to the patterning support, and generates a measuring signal.
少なくとも１つの位置センサは、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生させる。 - 特許庁 - OPTICAL SYSTEM FOR IMPROVING EFFICIENCY IN IRRADIATION ON PATTERNING DEVICE
パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 - 特許庁 - Patterning is freely done and an originality of a performing individual can be exhibited.
模様付けは、自由で、行なう人のオリジナルが発揮出来る。 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING SAME
ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PATTERNING SUBSTRATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
パターニング基板の製造方法および液晶表示装置 - 特許庁 - SLURRY COMPOSITION FOR CMP, PATTERNING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ＣＭＰ用スラリー組成物、パターニング方法及び半導体素子 - 特許庁 - A surface treatment layer is formed on the patterning metal layer.
パターン化金属層の上に表面処理層を形成する。 - 特許庁 - Then, patterning of a resist 11 is applied on the electrode layer.
次に、レジスト１１を電極層４ａ上にパターニングする。 - 特許庁 - To achieve insulation easily and surely when patterning electrodes.
電極のパターニングの際の絶縁を確実且つ容易に行う。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体素子をパタ—ン化する方法および半導体デバイス - 特許庁 - ZINC OXIDE-BASED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND ITS PATTERNING METHOD
酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法 - 特許庁 - The patterning head 30 mainly includes a holder 31, a holder oscillating part 34, an elevation part 50, and a patterning tool 60.
パターニングヘッド３０は、主として、ホルダ３１と、ホルダ揺動部３４と、昇降部５０と、パターニングツール６０と、を有している。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR HIGHLY FINE RIB, PATTERNING METHOD FOR LOW MELTING POINT GLASS, MOLDING METHOD FOR HIGHLY FINE RIB MADE OF LOW MELTING POINT GLASS, AND ETCHING COATING USED FOR PATTERNING OF HIGHLY FINE RIB
高精細リブのパターニング方法、低融点ガラスのパターニング方法及び低融点ガラスから成る高精細リブの成形方法、並びに前記高精細リブのパターニングに用いるエッチング用皮膜 - 特許庁 - To take a format of a dynamic patterning device into consideration in such a manner that pattern data is not restricted by a parameter which is necessary in a static patterning device environment, and unnecessary in a dynamic patterning device environment in a system and method for generating patterning data used by the dynamic patterning device.
動的パターニングデバイスにより使用されるパターンデータを発生するためのシステムおよび方法において、パターンデータが、静的パターニングデバイス環境で必要であり、動的パターニングデバイス環境では不必要なパラメータによって制約されないようにし、使用される動的パターニングデバイスの形式が考慮されるようにする。 - 特許庁 - To provide a technology for patterning a multilayer-type transparent electroconductive film.
積層型透明導電膜のパターニング技術を提供する。 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING CIRCUIT BOARD, CIRCUIT BOARD, AND MODULE USING THE SAME
多数個取り回路基板、回路基板、及びそれを用いたモジュール - 特許庁 - PATTERNING OF CELLS ON SUBSTRATE BY INKJET PRINTING TECHNIQUE
インクジェット印刷技術を用いた基板上への細胞のパターンニング - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - A patterning metal layer is formed on an outer surface of the insulation cover.
絶縁カバーの外表面にパターン化金属層を形成する。 - 特許庁 - To provide servo patterning compatible with planarization of a magnetic disk.
磁気ディスクの平坦化に適合するサーボパターニングを提供する。 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
化学増幅レジスト材料及びそれを用いたパターニング方法 - 特許庁 - PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER, RESIST PROTECTIVE COATING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
高分子化合物、レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - LASER PATTERNING APPARATUS AND BLACK MATRIX FORMING METHOD USING THE SAME
レーザパターニング装置及びこれを用いたブラックマトリクス形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERNING PROCESS
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - METAL NANOPARTICLE PATTERNING METHOD AND METAL NANOPARTICLE THIN WIRE
金属ナノ粒子パターニング方法および金属ナノ粒子細線 - 特許庁 - VAPOR DEPOSITION SOURCE, PATTERNING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
蒸着源、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING FINE PATTERN EMPLOYING SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERNING
自己整列のダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法 - 特許庁 - The lithographic apparatus has an illumination system for conditioning a radiation beam, and a patterning device support for supporting a patterning device.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a patterning substrate superior in display quality and a liquid crystal display device provided with the patterning substrate.
表示品位の優れたパターニング基板の製造方法およびパターニング基板を備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING POSITIVE RESIST LAYER OVERLAYING LITHOGRAPHY SUBSTRATE
リソグラフィ基板をオーバーレイするポジ型レジストレイヤをパターニングする方法 - 特許庁 - By patterning these films, the upper conductor and a plug are formed.
これらの膜をパターンニングして上部導電体とプラグとする。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING BOTH SURFACE SIMULTANEOUS PATTERN COATING MATERIAL FOR SIMULTANEOUS DOUBLE SIDE PATTERNING
両面同時パターン塗工材の製造方法及び装置 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING POLYMER LAYER AND METHOD FOR MOUNTING MICRO BATTERY
ポリマー層をパターニングする方法およびマイクロバッテリ実装方法 - 特許庁 - FINE PATTERNING METHOD AND FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE
微細パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A semiconductor wafer is positioned using a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスを使用して半導体ウェーハが位置合わせされる。 - 特許庁 - PATTERNING ROLLER AND METHOD OF FORMING PATTERN BY USING THIS ROLLER
模様付けローラー及びこのローラーを用いた模様の形成方法 - 特許庁 - Ideally, it is desirable that a free jet of material molecules is generated, and patterning is performed using this free jet (free jet patterning).
理想的には材料分子のフリージェットを生成し、このフリージェットを用いてパターニングする（フリージェットパターニング）ことが望ましい。 - 特許庁 - ORIENTED AND PATTERNING-SOLIDIFIED COMPOUND MATERIAL OF CNT AND ITS MANUFACTURING METHOD
ＣＮＴの配向・パターニング固化複合体とその製造方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESSING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF CHIP PRODUCT
チップ部品のパターニング処理方法及びチップ製品の製造方法 - 特許庁 - CHEMICALLY-AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS THEREOF
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND PATTERN SURFACE COATING MATERIAL FOR USE IN SAME
パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN AND PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE SHEET FOR METAL FILM PATTERNING
パターン形成方法および金属膜パターニング用粘着シート - 特許庁 - To provide a patterning method and a semiconductor device.
本発明は、パターニング方法及び半導体デバイスを提供する。 - 特許庁 - The supporting object of the patterning device comprises a force actuator device for exerting a force upon the patterning device in a moving direction of the supporting object.
パターニングデバイスの支持体は、支持体の移動方向にパターニングデバイス上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスを含む。 - 特許庁
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