「patterning」を含む例文一覧(3921)

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  • CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
    化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PATTERNING NON-PHOTOIMAGE FORMABLE CERAMIC TAPE
    非光画像形成性セラミックテープのパターニング方法 - 特許庁
  • SILICON-BASED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING METHOD
    ケイ素系ポジ型レジスト組成物及びパターニング方法 - 特許庁
  • PATTERNING SYSTEM, PATTERNING METHOD, AND SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT DISPLAY
    パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
  • OPTICAL PATTERNING MATERIAL AND OPTICAL PATTERN FORMING METHOD
    光パターニング材料および光パターン形成方法 - 特許庁
  • TEMPLATE FOR PATTERNING MEDIA, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    パターン・メディア用テンプレートおよびその製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING APPARATUS AND METHOD OF SHEET MATERIAL AND PROGRAM
    シート材のパターニング装置とその方法、及びプログラム - 特許庁
  • The patterning support is moved along a line of movement.
    パターン支持体を移動ラインに沿って移動させる。 - 特許庁
  • Upon patterning the substantially single crystal semiconductor film, the position of the first alignment mark 21 is utilized as the reference of patterning.
    略単結晶半導体膜をパターニングする際には、第一アライメント・マーク21の位置を基準とする。 - 特許庁
  • OPTICAL PATTERNING OF ORGANIC MONOMOLECULAR FILM ON SILICON WAFER
    シリコンウェハー上の有機単分子膜の光パターニング - 特許庁
  • SUPPORT COMPONENT MADE OF PLASTIC PATTERNING PLATING METAL THEREFOR
    メッキ金属がパターニングされたプラスチック製支持部品 - 特許庁
  • CLEANING SOLUTION FOR ELECTRONICS AND METHOD OF PATTERNING
    エレクトロニクス用洗浄液及びパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PATTERNING TRANSPARENT CONTAINER AND MOLD THEREFOR
    透明容器の模様入れ方法およびその金型 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD FOR MANUFACTURING FINE STRUCTURE
    微細構造体を製造するためのパターニング方法 - 特許庁
  • THREE-DIMENSIONAL SHAPE FORMING MASK AND PATTERNING METHOD
    三次元形状形成マスクおよびパターニング方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD, THIN FILM TRANSISTOR, AND ELECTRONIC APPARATUS
    パターン形成方法、薄膜トランジスタ、及び電子機器 - 特許庁
  • DOUBLE LAYER PATTERNING METHOD AND PATTERN MILLING METHOD
    二層型パターン形成方法及びパターン蝕刻方法 - 特許庁
  • BLAST PATTERNING MASK PLATE AND MANUFACTURE THEREFOR
    ブラスト模様付け用マスク板及びその製造方法 - 特許庁
  • PLURAL PATTERNING WIRING SUBSTRATE, WIRING SUBSTRATE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
    複数個取り配線基板、配線基板、電子装置 - 特許庁
  • To provide a patterning method and a patterning device which are advantageous for improving the TAT (turn around time).
    TAT(turn around time)の向上に対して有利なパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD OF ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT, ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERNING DEVICE OF ORGANIC LAYER
    有機EL半導体素子のパターニング方法、有機EL半導体素子、および、有機層のパターニング装置 - 特許庁
  • LASER RADIATING DEVICE, PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING PATTERNING METHOD
    レーザー照射装置,パターニング方法,およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD OF PRINTED CIRCUIT AND FLEXIBLE WIRING
    印刷回路及びフレキシブル配線のパターンニング方法 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • COATING METHOD AND PATTERNING ROLLER USED THEREFOR
    塗装方法及びそれに用いられる模様付けローラ - 特許庁
  • APPARATUS FOR APPLYING PATTERNING FILM AND VACUUM DEPOSITION APPARATUS
    パターニング膜塗布装置および真空蒸着装置 - 特許庁
  • ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE AND PATTERNING METHOD
    有機電界発光表示装置およびパターニング方法 - 特許庁
  • RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
    レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND METHOD FOR FORMING GRAY TONE MASK
    パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    パターニング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • SUPERPOSITION MEASURING MARK AND PATTERNING METHOD THEREOF
    重ね合わせ測定マーク及びそのパターン形成方法 - 特許庁
  • COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN, AND PATTERNING METHOD THEREFOR
    ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁
  • To form a mask by which highly accurate patterning can be performed.
    高い精度でパターニング可能なマスクを形成する。 - 特許庁
  • LITHOGRAPHY APPARATUS, PATTERNING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
    リソグラフィ装置、パターニングデバイスおよびデバイス製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR
    パターニング方法および薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
  • RESIST PATTERNING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK
    レジストパターン形成方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
  • ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, SUBSTRATE AND PATTERNING PROCESS
    反射防止膜材料、基板、及びパターン形成方法 - 特許庁
  • A process for joining the patterning device and the support and a process for applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device are included.
    パターニングデバイスと支持体を接合する工程と、パターニングデバイスと支持体との間に実質上静的力を加えてパターニングデバイスを保持する工程とを含む。 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING POLYMER POROUS FILM AND PATTERNING SUBSTRATE
    高分子多孔膜およびパターニング基板の製造方法 - 特許庁
  • POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERNING
    高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
  • RESIST PATTERNING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    レジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • Then, based on the dimension measurement result of the patterning or the first time, the condition of patterning for the second time is set.
    その後、その1回目のパターニングの寸法測定結果に基づいて、2回目のパターニングの条件を設定する。 - 特許庁
  • To provide a patterning method, a patterning apparatus, and a method of manufacturing a semiconductor device that can improve the throughput.
    スループットを向上できるパターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • DRY ETCHING METHOD, AND PATTERNING METHOD FOR METAL THIN FILM
    ドライエッチング方法及び金属薄膜のパターニング方法 - 特許庁
  • The position of a patterning layer is determined using positions of pattern feature for the patterning layer in the images (704).
    画像内のパターン化層に対するパターン特徴の位置を使用してパターン化層の位置が決定される(704)。 - 特許庁
  • SUBSTRATE FOR PATTERNING, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    パターニング用基板の製造方法およびパターニング用基板 - 特許庁
  • INFRARED RAY ABSORBENT FOR DIRECT LASER PATTERNING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE AND DIRECT LASER PATTERNING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME
    レーザー直描型平板印刷版用赤外線吸収剤及びそれを用いたレーザー直描型平板印刷版 - 特許庁
  • The patterning device can form a patterned radiation beam by patterning the cross-section of the radiation beam.
    パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能である。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF FIELD EMISSION ELEMENT
    パターニング方法および電界放出素子の製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID JET HEAD
    パターニング方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁
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