CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING NON-PHOTOIMAGE FORMABLE CERAMIC TAPE 非光画像形成性セラミックテープのパターニング方法 - 特許庁
SILICON-BASED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING METHOD ケイ素系ポジ型レジスト組成物及びパターニング方法 - 特許庁
PATTERNING SYSTEM, PATTERNING METHOD, AND SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT DISPLAY パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
OPTICAL PATTERNING MATERIAL AND OPTICAL PATTERN FORMING METHOD 光パターニング材料および光パターン形成方法 - 特許庁
TEMPLATE FOR PATTERNING MEDIA, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME パターン・メディア用テンプレートおよびその製造方法 - 特許庁
PATTERNING APPARATUS AND METHOD OF SHEET MATERIAL AND PROGRAM シート材のパターニング装置とその方法、及びプログラム - 特許庁
The patterning support is moved along a line of movement. パターン支持体を移動ラインに沿って移動させる。 - 特許庁
Upon patterning the substantially single crystal semiconductor film, the position of the first alignment mark 21 is utilized as the reference of patterning. 略単結晶半導体膜をパターニングする際には、第一アライメント・マーク21の位置を基準とする。 - 特許庁
OPTICAL PATTERNING OF ORGANIC MONOMOLECULAR FILM ON SILICON WAFER シリコンウェハー上の有機単分子膜の光パターニング - 特許庁
SUPPORT COMPONENT MADE OF PLASTIC PATTERNING PLATING METAL THEREFOR メッキ金属がパターニングされたプラスチック製支持部品 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR ELECTRONICS AND METHOD OF PATTERNING エレクトロニクス用洗浄液及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING TRANSPARENT CONTAINER AND MOLD THEREFOR 透明容器の模様入れ方法およびその金型 - 特許庁
PATTERNING METHOD FOR MANUFACTURING FINE STRUCTURE 微細構造体を製造するためのパターニング方法 - 特許庁
THREE-DIMENSIONAL SHAPE FORMING MASK AND PATTERNING METHOD 三次元形状形成マスクおよびパターニング方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD, THIN FILM TRANSISTOR, AND ELECTRONIC APPARATUS パターン形成方法、薄膜トランジスタ、及び電子機器 - 特許庁
To provide a patterning method and a patterning device which are advantageous for improving the TAT (turn around time). TAT(turn around time)の向上に対して有利なパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT, ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERNING DEVICE OF ORGANIC LAYER 有機EL半導体素子のパターニング方法、有機EL半導体素子、および、有機層のパターニング装置 - 特許庁
LASER RADIATING DEVICE, PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING PATTERNING METHOD レーザー照射装置,パターニング方法,およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF PRINTED CIRCUIT AND FLEXIBLE WIRING 印刷回路及びフレキシブル配線のパターンニング方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COATING METHOD AND PATTERNING ROLLER USED THEREFOR 塗装方法及びそれに用いられる模様付けローラ - 特許庁
APPARATUS FOR APPLYING PATTERNING FILM AND VACUUM DEPOSITION APPARATUS パターニング膜塗布装置および真空蒸着装置 - 特許庁
ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE AND PATTERNING METHOD 有機電界発光表示装置およびパターニング方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND METHOD FOR FORMING GRAY TONE MASK パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE パターニング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
SUPERPOSITION MEASURING MARK AND PATTERNING METHOD THEREOF 重ね合わせ測定マーク及びそのパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN, AND PATTERNING METHOD THEREFOR ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁
To form a mask by which highly accurate patterning can be performed. 高い精度でパターニング可能なマスクを形成する。 - 特許庁
LITHOGRAPHY APPARATUS, PATTERNING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE リソグラフィ装置、パターニングデバイスおよびデバイス製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR パターニング方法および薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERNING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK レジストパターン形成方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, SUBSTRATE AND PATTERNING PROCESS 反射防止膜材料、基板、及びパターン形成方法 - 特許庁
A process for joining the patterning device and the support and a process for applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device are included. パターニングデバイスと支持体を接合する工程と、パターニングデバイスと支持体との間に実質上静的力を加えてパターニングデバイスを保持する工程とを含む。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING POLYMER POROUS FILM AND PATTERNING SUBSTRATE 高分子多孔膜およびパターニング基板の製造方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERNING 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST PATTERNING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE レジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
Then, based on the dimension measurement result of the patterning or the first time, the condition of patterning for the second time is set. その後、その1回目のパターニングの寸法測定結果に基づいて、2回目のパターニングの条件を設定する。 - 特許庁
To provide a patterning method, a patterning apparatus, and a method of manufacturing a semiconductor device that can improve the throughput. スループットを向上できるパターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, AND PATTERNING METHOD FOR METAL THIN FILM ドライエッチング方法及び金属薄膜のパターニング方法 - 特許庁
The position of a patterning layer is determined using positions of pattern feature for the patterning layer in the images (704). 画像内のパターン化層に対するパターン特徴の位置を使用してパターン化層の位置が決定される(704)。 - 特許庁
SUBSTRATE FOR PATTERNING, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF パターニング用基板の製造方法およびパターニング用基板 - 特許庁
INFRARED RAY ABSORBENT FOR DIRECT LASER PATTERNING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE AND DIRECT LASER PATTERNING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME レーザー直描型平板印刷版用赤外線吸収剤及びそれを用いたレーザー直描型平板印刷版 - 特許庁
The patterning device can form a patterned radiation beam by patterning the cross-section of the radiation beam. パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能である。 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF FIELD EMISSION ELEMENT パターニング方法および電界放出素子の製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID JET HEAD パターニング方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁