「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 78 79 次へ＞- PATTERNING METHOD USING SURFACE ENERGY CONTROL
表面エネルギー制御を用いたパターニング方法 - 特許庁 - WIRING BOARD AND MULTIPLE PATTERNING WIRING BOARD
配線基板および多数個取り配線基板 - 特許庁 - CONCRETE FORM DEVICE HAVING PATTERNING FUNCTION
模様付け機能を備えたコンクリート型枠装置 - 特許庁 - Therefore, a step of patterning electrodes is unnecessary.
これにより、電極のパターニングが不要となる。 - 特許庁 - SAFETY MECHANISM FOR LITHOGRAPHY PATTERNING APPARATUS
リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING MEMBER
パターン部材の製造方法及び製造装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND APPARATUS FOR WIRE MATERIAL
線材の模様付け加工方法および装置 - 特許庁 - To provide a patterning method for patterning in any place on a substrate and capable of being applied even when a patterning area is large or a substrate is flexible, and to provide a patterning device and a display element by the patterning method.
基板上の任意の場所にパターンを形成でき、かつ、パターニング面積が大きくとも、基板がフレキシブルなものであっても対応可能なパターニング方法、および該パターニング方法によるパターニング装置、表示素子を提供する。 - 特許庁 - In the case of the waveform pattern, the patterning pitch PB is 5-50 mm, and the patterning height HB is 0.002-0.05 times of the patterning pitch PB.
波形状の場合には、型付けピッチＰＢを５〜５０ｍｍ、かつ型付け高さＨＢを型付けピッチＰＢの０．００２〜０．０５倍とする。 - 特許庁 - OPTICAL PATTERNING COMPOSITION USING HIGHLY BRANCHED POLYMER
高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF THIN FILM, TFT ARRAY SUBSTRATE USING THE PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF THE TFT ARRAY SUBSTRATE
薄膜のパターニング方法およびそれを用いたＴＦＴアレイ基板およびその製造方法 - 特許庁 - PATTERNING ROLL, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING INORGANIC MOLDED BODY USING PATTERNING ROLL
模様付けロール及びその製造方法、模様付けロールを用いた無機成形体の製造方法 - 特許庁 - A lithographic device includes a patterning sub-system transferring a pattern from a patterning device to a substrate (W).
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスからパターンを基板（Ｗ）に転写するパターニングサブシステムを備える。 - 特許庁 - TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD OF PATTERNING THE SAME
透明導電膜およびそのパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF TFT
パターニング方法、およびＴＦＴの製造方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERNING METHOD
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置の製造のためのパターニング方法 - 特許庁 - To provide a tool holder capable of preventing a patterning tool from dropping and fixing the patterning tool in safety.
パターニングツールの落下を防いで安全に取り付けることができるツールホルダを提供する。 - 特許庁 - EQUIPMENT FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR, AND PATTERNING METHOD
半導体製造装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, WIRING SUBSTRATE, AND ELECTRONIC APPARATUS
パターン形成方法、配線基板及び電子機器 - 特許庁 - Features are formed by deposition and patterning, by embossing, or by patterning and etching.
フィーチャは、付着およびパターン形成、型押し、またはパターン形成およびエッチングによって形成される。 - 特許庁 - PATTERNING APPARATUS, FILM FORMING APPARATUS AND ELECTRONIC APPARATUS
パターニング装置、膜形成装置、及び電子装置 - 特許庁 - METHOD FOR BONDING PELLICLE TO PATTERNING DEVICE AND PATTERNING DEVICE COMPRISING PELLICLE
表皮部材をパターン付与装置に接合する方法および表皮部材を有するパターン付与装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF RESIN MOLDED PRODUCT AND RESIN MOLDED PRODUCT PATTERNED BY PATTERNING METHOD
樹脂成形品の柄付け方法及び当該柄付け方法により柄付けされた樹脂成形品 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR BIODEGRADABLE POLYMERIC MATERIAL
生分解性高分子材料のパターニング方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE COATING MATERIAL AND PATTERNING METHOD
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE COATING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - The patterning device provides a pattern to the radiation beam.
パターニングデバイスは、放射ビームにパターンを与える。 - 特許庁 - RESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a patterning apparatus and method allowing efficient patterning with a large diameter.
効率的で、大径のパターニング加工を可能とするパターニング装置及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND METHOD OF PATTERNING INSULATING FILM
エッチング方法及び絶縁膜のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DEVICE
有機発光ダイオードデバイスをパターニングする方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM AND PATTERNING METHOD
電子ビーム露光装置及びパターン生成方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND LITHOGRAPHIC METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND SEMICONDUCTOR WAFER PATTERNING APPARATUS
半導体ウェハのパターニングプロセス、半導体ウェハのリソグラフィ方法、および半導体ウェハのパターニング装置 - 特許庁 - GEL-COLORED PIGMENT FOR MULTICOLOR-PATTERNING COATING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND MULTICOLOR-PATTERNING COATING MATERIAL
多彩模様塗料用ゲル着色顔料及びその製造方法、並びに多彩模様塗料 - 特許庁 - SPLIT AND DESIGN GUIDELINE FOR DOUBLE PATTERNING
二重パターニングのための分割および設計指針 - 特許庁 - The patterning device is configured to pattern a beam of radiation.
パターニングデバイスは放射ビームにパターンを付与する。 - 特許庁 - TEST PATTERN, TEST PATTERNING METHOD, AND PRINTER
テストパターン、テストパターン作成方法及び印刷装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD BASED ON MELTING FOR ELECTRONIC DEVICE
電子デバイス用の溶融に基づくパタニング方法 - 特許庁 - COLOR FILTER, PATTERNING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD
カラーフィルター、パターニング基板及びその製造方法 - 特許庁 - After that, patterning is carried out to form the inductor 110.
この後パターン形成しインダクタ１１０とする。 - 特許庁 - A patterning method for forming a straight grain pattern comprises the steps of lightly pressing a patterning tool having the above patterning material to a work piece coated with a grain patterning coating material and sliding the tool straightly.
木目付け塗料を塗布した被加工材に対して、前記の模様付け材を備えた模様付け具を軽く押しつけてほぼ直線的に摺動させ、柾目模様を形成する模様付け方法。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM
透明導電性酸化スズ膜のパターニング方法 - 特許庁 - DOT DISPLAY DEVICE BY IMAGE HEIGHT DISPLAY PATTERNING
画像高表示パターン化によるドット表示装置 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING PHOTORESIST LAYER ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
半導体基板のフォトレジスト層のパターン化方法 - 特許庁 - To properly perform patterning operation on a transition metal film.
遷移金属膜のパターニングを良好に行う。 - 特許庁 - To provide an inexpensive and new patterning technique of an inorganic film effectively patterning a piezoelectric film or the like, excelling in accuracy of the shape of a pattern, and facilitating patterning.
圧電膜等のパターニングに有効であり、パターン形状精度が良好で、パターニングが容易で低コストな新規な無機膜のパターニング技術を提供する。 - 特許庁 - The lithographic device has a plurality of patterning arrays mutually separated in an objective plane, for example, two patterning arrays, four patterning arrays or the like.
リソグラフィ装置が、オブジェクト平面内で互いに離間された複数のパターニング・アレイ、例えば２つのパターニング・アレイ、４つのパターニング・アレイ等を有している。 - 特許庁 - After the patterning material is added for forming the metallic thin-film layer, a laser beam is applied to the addition position of the patterning material for removing the remaining patterning material.
パターニング材料を付与して金属薄膜層を形成後、パターニング材料の付与位置にレーザ光を照射して残存するパターニング材料を除去する。 - 特許庁
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