「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 78 79 次へ＞- METHOD FOR PATTERNING PROTEIN SUPERMOLECULE
タンパク超分子のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF PHOTOSENSITIVE RESIN
感光性樹脂のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, PATTERNING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, LIGHT EMITTING ELEMENT, COLOR FILTER AND PATTERNING DEVICE
パターニング方法、電子デバイス、発光素子、カラーフィルタ及びパターニング装置 - 特許庁 - AQUEOUS MULTICOLOR-PATTERNING PAINT COMPOSITION
水性多彩模様塗料組成物 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND FILM FORMING APPARATUS
パターニング方法及び製膜装置 - 特許庁 - DOUBLE PATTERNING METHOD BY LITHOGRAPHY
リソグラフィによるダブルパターンニング方法 - 特許庁 - OVERLAY MEASUREMENT ON DOUBLE PATTERNING SUBSTRATE
ダブルパターニング基板のオーバレイ測定 - 特許庁 - EXPOSURE MASK AND PATTERNING METHOD
露光用マスク及びパターニング方法 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING CONDUCTIVE FILM
導電性フィルムのパターニング方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHY METHOD AND PATTERNING DEVICE
リソグラフィ方法およびパターニングデバイス - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND ALIGNER
パターン形成方法及び露光装置 - 特許庁 - PATTERNING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターニング基板とその製造方法 - 特許庁 - The product patterning device is separated from the measuring-target patterning device.
製品パターン化デバイスと計測ターゲット・パターン化デバイスは分離されている。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - Finally, the patterning step of wiring is performed.
この後、配線パターニングを行なう。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND ALIGNER
パターン形成方法および露光装置 - 特許庁 - SYSTEM FOR PATTERNING LAPPING SURFACE
ラップ仕上面をパターン付けするシステム - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING NANO CONDUCTIVE FILM
ナノ導電性膜のパターニング方法 - 特許庁 - the action of glossing or patterning by polishing
研いで光沢や模様を出すこと - EDR日英対訳辞書 - Thus, the position of the patterning support is controlled to compensate for slip of the patterning device relative to the patterning support.
従って、パターン支持体の位置の制御により、パターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップが補正される。 - 特許庁 - The patterning device includes at least two image patterning portions and at least two methodology mark patterning portions.
パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング部分および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。 - 特許庁 - MASK STRUCTURAL BODY AND PATTERNING METHOD
マスク構造体及びパターニング方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PATTERNING MOLDING AND PATTERNING MOLDING OBTAINED THEREBY
模様付成形品の製法およびそれによって得られる模様付成形品 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING METALLIC OXIDE FILM
金属酸化物膜のパターン化方法 - 特許庁 - BASE MATERIAL FOR PATTERNING FILAMENTOUS FLOATING CELL
糸状浮遊細胞パターニング基材 - 特許庁 - MAGNETIC MEMORY SUBJECTED TO ASSYMETRICAL PATTERNING
非対称にパターニングされた磁気メモリ - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING LIQUID CRYSTAL LAYER AND ORIGINAL PLATE FOR PATTERNING USED FOR THE SAME
液晶層のパターニング方法およびそれに用いられるパターニング用原版 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF WATER-SOLUBLE PHOTORESIST
水溶性フォトレジストのパターニング方法 - 特許庁 - PHOTORESIST AND METHOD FOR PATTERNING THE SAME
フォトレジストおよびそのパターン化方法 - 特許庁 - PATTERNING APPARATUS USING INK JET HEAD
インクジェットヘッドを用いたパターニング装置 - 特許庁 - To provide a patterning apparatus to be used in patterning processing having a high degree of freedom.
自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING LAYOUT OF SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置のパターンレイアウト方法 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
パターン形成方法及びレジスト材料 - 特許庁 - RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND PATTERNED PRODUCT
模様付与加工方法及びその製品 - 特許庁 - The patterning for the second time is carried out under the set patterning condition.
その後、その設定されたパターニングの条件により２回目のパターニングを行う。 - 特許庁 - PLASMA FOR PATTERNING IMPROVED GATE STACK
改良型ゲートスタックのパターン化用プラズマ - 特許庁 - LIQUID DELIVERY APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS
液体吐出装置及びパターニング装置 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING AND SEMICONDUCTOR DEVICE
パターニングの方法および半導体デバイス - 特許庁 - PATTERNING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン形成方法及び半導体装置 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING SILICON COMPOUND THIN FILM
ケイ素化合物薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERNING PROCESS
半導体装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - Thereafter, the second patterning is conducted by transferring the wafer W to the patterning system.
その後、ウェハＷをパターニングシステムに搬送して２回目のパターニングを行う。 - 特許庁 - MASK FOR PATTERNING AND ITS PRODUCTION
パターニング用マスク及びその製造方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD
レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND EQUIPMENT
パタン作製方法及びパタン作製装置 - 特許庁 - PATTERNING PROCESS AND COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM TO BE USED FOR PATTERNING PROCESS
パターン形成方法及びこれに用いるケイ素含有膜形成用組成物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
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