「patterning」を含む例文一覧(3921)

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  • A substrate table or a patterning device support includes an aerogel.
    基板テーブル又はパターニングデバイス支持体はエアロゲルを含む。 - 特許庁
  • Features are formed by deposition and patterning, by embossing, or by patterning and etching.
    フィーチャは、付着およびパターン形成によって、型押しによって、またはパターン形成およびエッチングによって形成される。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • POLISHING LIQUID FOR PATTERNING METAL AND METAL OXIDE, AND METHOD FOR PATTERNING METAL AND METAL OXIDE
    金属及び金属酸化物のパターン化のための研磨液及び金属及び金属酸化物のパターン化の方法 - 特許庁
  • To provide a patterning applicator capable of forming a linear comb-like finished pattern, and to provide a finishing method using the patterning applicator.
    直線状の櫛目仕上がりパターンとなる塗布具を得、この塗布具を用いた仕上げ方法を提供する。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
    レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • CUSHIONING SHEET, WAVY PATTERNING DEVICE AND METHOD
    クッションシート、波割り加工装置、及び波割り加工方法 - 特許庁
  • POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
    高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR OPTIMIZING PARTS PATTERNING POSITION IN LAMINATED DIE
    積層金型におけるパーツの型取り位置最適化法 - 特許庁
  • A patterning device functioning so as to add a pattern to the cross section of the radiation beam is supported by patterning support.
    パターニングサポートによって、放射のビームの断面にパターンを付与するように機能するパターニングデバイスが支持される。 - 特許庁
  • To provide a polarizer which can be inexpensively manufactured and includes a patterning retardation layer and a patterning polarizing layer.
    安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有する偏光板の提供。 - 特許庁
  • POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERNING METHOD
    高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
  • LITHOGRAPHIC APPARATUS, PATTERNING ASSEMBLY AND METHOD FOR ESTIMATING CONTAMINATION
    リソグラフィ装置、パターニング組立体および汚染推定法 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERNING
    感光性樹脂、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
  • PHOTORESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
    フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • TEST PATTERN, TEST PATTERNING METHOD, RECORDER AND PROGRAM
    テストパターン、テストパターン作成方法、記録装置及びプログラム - 特許庁
  • WAFER HANDLING METHOD FOR USE IN LITHOGRAPHY PATTERNING
    リソグラフィのパターニングにおいて用いるウェハ処理の方法 - 特許庁
  • PARTICLE DETECTION ON PATTERNING DEVICE WITH ARBITRARY PATTERN
    任意パターンを有するパターニングデバイス上のパーティクル検出 - 特許庁
  • MULTILAYER CIRCUIT BOARD AND A PATTERNING METHOD THEREOF
    多層回路基板及び多層回路基板のパターニング方法 - 特許庁
  • ULTRASOUND IMAGING SYSTEM AND METHOD FOR BEAM PATTERNING OF THE SAME
    超音波映像システムおよびそのビームパターン化方法 - 特許庁
  • METHOD OF PATTERNING THIN FILM, DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    薄膜のパターニング方法、デバイス及びその製造方法 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING SAME
    レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • PRINTED CIRCUIT BOARD AND PATTERNING METHOD THEREOF
    プリント回路基板及びプリント回路基板のパターニング方法 - 特許庁
  • To provide a patterning method in which highly accurate patterning is possible, without affecting the performance of a display element.
    表示素子の性能に影響を与えることなく、高精度なパターニングの可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁
  • When the patterning device is excited, the patterning device can be fixed on the support, thereby a friction between the patterning device and the support is improved and a risk of slipping or local slipping of the patterning device can be reduced.
    パターニングデバイスが励振されると、パターニングデバイスを支持体に対して定着させることができ、それによって、パターニングデバイスと支持体との間で摩擦が改善され、パターニングデバイスの滑りまたは局部滑りのリスクが低減される。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD, EXPOSURE SYSTEM, PROGRAM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    パターニング方法、露光システム、プログラム及びデバイス製造方法 - 特許庁
  • IMPROVEMENT OF ALIGNMENT TARGET CONTRAST IN LITHOGRAPHY DOUBLE PATTERNING METHOD
    リソグラフィダブルパターニング法におけるアライメントターゲットコントラストの改善 - 特許庁
  • PRINTED WIRING BOARD AND METHOD OF PATTERNING THE SAME
    プリント配線基板及びプリント配線基板のパターニング方法 - 特許庁
  • NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
    ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
    ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • LIGHT PATTERNING DEVICE USING TILTING MIRROR IN SUPERPIXEL FORM
    スーパーピクセル形式の可傾ミラーを用いた光パターン形成装置 - 特許庁
  • PATTERNING ROLLER AND PATTERN FORMING METHOD USING THIS ROLLER
    模様付けローラ及びこのローラを用いた模様の形成方法 - 特許庁
  • The preferable patterning material is netting 4 or a nonwoven fabric.
    この型押し材としてはネット4や不織布が好適である。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT BY PATTERNING OF LIQUID CRYSTAL FILM
    液晶膜のパターニングによる光学素子の製造方法 - 特許庁
  • MULTIPLE PATTERNING CERAMIC SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD AS WELL AS MULTIPLE PATTERNING ELECTRONIC COMPONENT STORING PACKAGE AND ELECTRONIC DEVICE
    多数個取りセラミック基板およびその製造方法ならびに多数個取り電子部品収納用パッケージおよび電子装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED SOLAR CELL AND PATTERNING DEVICE
    集積型太陽電池の製造方法およびパターニング装置 - 特許庁
  • The mask layer 5 is left as a protective layer even after finishing the patterning.
    パターニング終了後もマスク層5は保護層として残す。 - 特許庁
  • PATTERN-PROCESSING MACHINE, METHOD FOR PATTERNING AND PATTERNED CLOTH
    模様付加工機及び模様付方法並びに模様付布 - 特許庁
  • METHOD OF PATTERNING MULTILAYER FILM AND MULTILAYER WIRING ELECTRODE
    積層膜のパターン形成方法及び積層配線電極 - 特許庁
  • FORMATION OF ORGANIC MONOMOLECULAR FILM AND METHOD FOR PATTERNING THE SAME
    有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法 - 特許庁
  • PATTERNING AND DOT GAIN IMPROVEMENT FOR VECTOR ERROR DIFFUSION
    ベクトル誤差拡散におけるパターニングおよびドットゲインの改善 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERNING METHOD THEREOF
    半導体素子及びその半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD AND PROCESS FOR MANUFACTURING INK JET RECORDING HEAD
    パターン形成方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 - 特許庁
  • QUANTUM DOT SOLID AND PATTERNING METHOD FOR CONVENTIONAL TYPE SOLID
    量子ドット固体および従来型固体のパタ—ン化方法 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR PATTERNING ROOF PANEL MATERIAL MADE OF METAL
    金属製屋根板材の模様付け方法及びその装置 - 特許庁
  • CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, METHOD FOR PATTERNING, AND PATTERN
    インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン - 特許庁
  • METHOD OF PATTERNING THIN FILM AND METHOD OF PRODUCING COLOR FILTER
    薄膜のパターニング方法およびカラーフィルタの製造方法 - 特許庁
  • STORAGE AREA PATTERNING FORMATION METHOD OF OPTICAL MULTIPLE RECORDING ELEMENT
    光多重記録素子の記憶領域パターニング形成方法 - 特許庁
  • LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND PATTERNING DEVICE FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROCESS
    リソグラフィ装置、及びリソグラフィ工程で使用するパターニングデバイス - 特許庁
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