「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 78 79 次へ＞- PATTERNING METHOD OF MAGNETIC SUBSTANCE, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC RANDOM ACCESS MEMORY
磁性体のパターニング方法、磁気記録媒体、磁気ランダムアクセスメモリ - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus capable of considerably reducing time required to exchange a patterning device, inside a patterning device support.
パターニングデバイス支持体内のパターニングデバイスの交換に要する交換時間を大幅に短縮できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - To perform patterning precisely on an object held on a wafer stage.
ウエハステージに保持された物体に精度良くパターンを形成する。 - 特許庁 - CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND PATTERNING METHOD
ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - To prevent a patterning device from sliding to a support.
支持体に対するパターニングデバイスの滑動を防止することである。 - 特許庁 - PATTERNING OF SOLID BODY FEATURE BY DIRECT INPUT NANOLITHOGRAPHIC PRINTING
直接書込みナノリソグラフィック印刷による固体フィーチャのパターニング - 特許庁 - To provide a patterning method which enables the formation of a fine structure without using a high-resolution patterning process.
高分解能のパターニング工程を用いることなく、微細構造体を形成することが可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING LACQUER LAYER TO HOLD ELECTRICAL GRID LINES
電気グリッド線を保持するようにラッカー層をパターニングする方法 - 特許庁 - MASK SUBSTRATE, EXPOSURE DEVICE, AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
マスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - BLAST WORKING METHOD FOR SURFACE PATTERNING OF SPOON AND ITS DEVICE
スプーン類の表面模様付けブラスト加工方法及びその装置 - 特許庁 - PATTERNING THIN-FILM FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE
パターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING ROLL-FILM BODY IN AUTOMATED PRODUCTION PROCESS
自動化製造過程におけるロール状フィルム体のパターン化方法 - 特許庁 - PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID DROP EJECTION HEAD AND PATTERNING METHOD
液滴吐出ヘッドの製造方法およびパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERNING METHOD
高分子化合物、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY, MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY DEVICE, AND PATTERNING METHOD
液晶表示装置、表示装置の製造方法、パターニング方法 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE AND WIRING SUBSTRATE, AND ELECTRONIC DEVICE
多数個取り配線基板および配線基板ならびに電子装置 - 特許庁 - FORMING METHOD AND DEVICE OF PATTERNING FOR ORGANIC OR INORGANIC EL
有機または無機ＥＬ用パターニングの形成方法及び装置 - 特許庁 - GLOSS CONTROL OF UV CURABLE COMPOUND THROUGH MICRO-PATTERNING
微細パターニングによる紫外線硬化性配合物の光沢制御 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PATTERNING WALL SURFACE PANEL MATERIAL MADE OF METAL
金属製壁面板材の模様付け方法及びその装置 - 特許庁 - Patterning is performed to the photoresist layer 104a by a mask so as to obtain the bank structure 104b, and then patterning is performed to the black matrix layer 102.
マスクによりフォトレジスト層１０４ａをパターニングしてバンク構造１０４ｂにして、ブラックマトリクス層１０２をパターニングする。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING METAL USING NANOPARTICLE CONTAINING PRECURSOR
前駆体を含有するナノ粒子を用いた金属のパターニング方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING RESIN COMPOSITION CONTAINING FLUORINE, AND INK JET HEAD
フッ素含有樹脂組成物のパターニング方法およびインクジェットヘッド - 特許庁 - MULTILAYER STRUCTURE OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND FINE PATTERNING PROCESS
感光性材料の積層構造および微細パターン形成方法 - 特許庁 - To provide patterning method which enables the highly precise patterning of a metal film, and a manufacturing method for a liquid jet head.
金属膜を高精度にパターニングすることができるパターニング方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - At this time, in a step for patterning the substance film, the substance film pattern is formed by using the patterning method including a plurality number of times of exposure processes that are individually performed to the respective patterning regions.
このとき、物質膜をパターニングする段階は、前記パターニング領域各々に対して個別的に実施される複数回の露光工程を含むパターニング方法を使用して物質膜パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of patterning surfaces of tiles and potteries after firing without losing aesthetic property of pictures and calligraphy, and to provide an article capable of patterning.
焼成後のタイルや陶磁器などの表面に絵柄を付けることができ、しかも絵画や書画などをその風合いを失わせずに描ける絵柄付け方法及び絵柄付け可能な物品を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of easily and efficiently carrying out patterning with high precision, and capable of controlling contrast owing to light emission brightness in the patterning method of an organic electroluminescent element.
有機エレクトロルミネッセンス素子のパターン化方法において、高精細でのパターン化を簡易かつ効率的に行うことができ、かつ、発光輝度によるコントラストの制御が可能であるパターン化方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask formation method capable of forming other patterning thin films to one patterning thin film with high positioning precision, a forming method of the patterning film , and a manufacturing method of a microdevice.
１つのパターン化薄膜に対し、他のパターン化薄膜を、高度の位置決め精度をもって形成できるマスク形成方法、パターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus which further improves acceleration of a patterning device supporter, and avoids a fine slip between the patterning device supporter and a patterning device supported thereon.
パターニングデバイス支持体の加速度をさらに高めることを可能にするとともに、パターニングデバイス支持体とその上に支持されているパターニングデバイスとの間の微小なスリップを回避できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR INTEGRATED THIN-FILM SOLAR CELL AND PATTERNING APPARATUS
集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置 - 特許庁 - The altered pattern data are transmitted to a patterning device to control individually controllable elements connected to the patterning device.
パターニング用デバイスに接続されている個別制御可能素子を制御するために、変更されたパターンデータはパターニング用デバイスに伝送される。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR HANDLING WAFER BEING EMPLOYED IN PATTERNING OF LITHOGRAPHY
リソグラフィのパターニングにおいて用いるウェハ処理のシステムおよび方法 - 特許庁 - This system and process is a double patterning system and process using a carbon-based hard mask.
炭素系ハードマスクを用いた二重パターニングシステムおよびプロセス。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED THIN FILM SOLAR CELL AND PATTERNING DEVICE
集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD BY DRY ETCHING AND METHOD FOR MANUFACTURING INKJET HEAD
ドライエッチングによるパターニング方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁 - To provide a safety mechanism for a lithography patterning apparatus.
リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構を提供すること。 - 特許庁 - To perform patterning precisely in a plurality of sectioned regions on a wafer.
ウエハ上の複数の区画領域に精度良くパターンを形成する。 - 特許庁 - The lithographic system projects a pattern from a patterning device onto a substrate.
リソグラフィシステムは、パターニングデバイスから基板の上へパターンを投影する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus transfers a pattern from a patterning device onto a substrate.
リソグラフィ装置は、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MICROPARTICLE-ADSORBED PATTERN AND FUNCTIONAL PATTERNING MATERIAL
微粒子吸着パターン形成方法及び機能性パターン材料 - 特許庁 - SUBSTRATE TO BE USED FOR LIGHT-RESPONSIVE PATTERNING, AND ITS USE
光応答性のパターニングに用いるための基板およびその利用 - 特許庁 - To execute patterning of high precision with less process steps.
少ない工程数で高精度なパターンニングを行うようにすること。 - 特許庁 - A structure for substantially eliminating slippage of a patterning device 270 during the movement of a patterning device stage of a lithography apparatus is provided.
リソグラフィ装置のパターニングデバイスステージの移動中のパターニングデバイス２７０の滑りを実質的に除去するための構成が提供される。 - 特許庁 - PATTERN FORMING APPARATUS, PATTERNING METHOD, APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE
パターン形成装置、パターニング方法、基板処理装置、基板処理方法 - 特許庁 - To provide a method of making resist patterns for forming fine patterning thin films and a method of patterning the thin films using the same.
微細なパターニング薄膜を形成するためのレジストパターンの作製方法、及びこれを用いた薄膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an antireflection film capable of accurately patterning a resist.
レジストを精度良くパターニング可能な反射防止膜を提供する。 - 特許庁 - PHOTORESIST PATTERNING METHOD, MASK PATTERNING METHOD, PROCESS FOR GROWING SEMICONDUCTOR CRYSTAL, PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
フォトレジストパターン形成方法、マスクパターン形成方法、半導体結晶の成長方法、半導体基板の製造方法、および半導体基板 - 特許庁 - SILICA MESO-STRUCTURE THIN FILM, MESO-POROUS SILICA THIN FILM, PATTERNING METHOD OF SILICA MESO-STRUCTURE THIN FILM AND PATTERNING METHOD OF MESO-POROUS SILICA THIN FILM
シリカメソ構造体薄膜、メソポーラスシリカ薄膜、シリカメソ構造体薄膜のパターニング方法及びメソポーラスシリカ薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND RESIST OVERCOAT MATERIAL TO BE USED FOR THE SAME
パターン形成方法及びこれに用いるレジスト上層膜材料 - 特許庁
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