「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 78 79 次へ＞- FINE PATTERNING METHOD OF POLYIMIDE RESIN
ポリイミド樹脂微細パターンの成形方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING ON SURFACE OF ROCK WOOL BOARD
ロックウールボードの表面模様付け方法 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR VERIFYING PATTERNING CHARACTERISTIC
マスク、およびパターニング特性検証方法 - 特許庁 - LIQUID FEEDING APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS
液体供給装置及びパターニング装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
有機エレクトロルミネッセンス素子のパターン化方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT
集積回路を製造するパターン化方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE
多数個取り配線基板の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING NON-VOLATILE MEMORY GATE
不揮発性メモリのゲートのパターニング方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PATTERNING MOLDING PLATE
成形板の模様付け方法及び装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING MULTIPLE PATTERNING WIRING BOARD
多数個取り配線基板の製造方法 - 特許庁 - PATTERNING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターニング用基板およびその製造方法 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERNING MATERIAL AND TOUCH PANEL
導電性パターニング材料及びタッチパネル - 特許庁 - FILM PATTERNING METHOD AND MASK FOR EXPOSURE
膜のパターニング方法及び露光用マスク - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING ONTO SYNTHETIC RESIN PRODUCT
合成樹脂製品への模様付け方法 - 特許庁 - ENHANCED LITHOGRAPHY PATTERNING PROCESS AND SYSTEM
強化リソグラフィパターニング方法およびシステム - 特許庁 - The patterning device patterns the beam.
パターニング用デバイスは、ビームにパターンを与える。 - 特許庁 - FINE PATTERNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT
半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND DEVICE
パターン形成方法およびパターン形成装置 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING CONDUCTIVE TIN OXIDE FILM
導電性酸化スズ膜のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, MASK AND ALIGNER
パターン形成方法、マスクおよび露光装置 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR LOW-MELTING GLASS AND RESIST MASK MATERIAL COMPOSITION USED FOR THE PATTERNING METHOD
低融点ガラスのパターニング方法及び該方法に用いるレジストマスク材組成物 - 特許庁 - PATTERNING TREATMENT METHOD OF CONDUCTIVE FILM, AND CONDUCTIVE FILM BY WHICH PATTERNING IS CARRIED OUT
導電性フィルムのパターニング処理方法およびパターニングされた導電性フィルム - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR SILICA COATING FILM, AND SILICA COATING FILM OBTAINED BY PATTERNING METHOD FOR SILICA COATING FILM
シリカ系塗膜のパターニング方法および該方法から得られるシリカ系塗膜 - 特許庁 - INTEGRAL PATTERNING OF LARGE FEATURE PORTION AND ARRAY USING SPACER MASK PATTERNING PROCESS FLOW
スペーサマスクパターニングプロセスフローを用いた大きい特徴部と配列との一体パターニング - 特許庁 - MICRO-PATTERNING CULTURE SUBSTRATE, MICRO-PATTERNING CULTURE STRUCTURE AND METHOD FOR MAKING THEM
マイクロパターニング培養基板、マイクロパターニング培養構築物及びこれらの作成方法 - 特許庁 - In this event, the condition of the patterning for the second time is set so that a difference between the dimension of the patterning for the first time and a target dimension of the patterning for the first time is equal to a difference between a dimension of the patterning for the second time and a target dimension of the patterning for the second time.
この際、例えば１回目のパターンの寸法とその目標寸法の差と、２回目のパターンの寸法とその目標寸法の差が等しくなるように、２回目のパターニングの条件を設定する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND PATTERN FORMING SUBSTRATE
パターン形成方法およびパターン形成基板 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING WIRING BOARD AND ELECTRONIC DEVICE
多数個取り配線基板および電子装置 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD
ポジ型レジスト組成物及びパターニング方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING ELECTROLESS NICKEL ALLOY FILM
無電解ニッケル合金膜のパターニング方法 - 特許庁 - PATTERNING SUBSTRATE AND CELL CULTURING SUBSTRATE
パターニング用基板および細胞培養基板 - 特許庁 - TRANSFER OF LITHOGRAPHY APPARATUS AND PATTERNING DEVICE
リソグラフィ装置及びパターニング・デバイスの運搬 - 特許庁 - ORIGINAL PLATE OF DIRECT PATTERNING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE
直描型水なし平版印刷版原版 - 特許庁 - COMPOSITE PATTERNING LAYER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
複合パターン層およびその製造方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PATTERNING METHOD THEREOF
半導体素子及びそのパターン形成方法 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE AND ELECTRONIC EQUIPMENT
多数個取り配線基板および電子装置 - 特許庁 - METHOD THIN FILM PATTERNING, PATTERNING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM SOLAR CELL
薄膜のパターニング方法およびパターニング装置、ならびに薄膜太陽電池の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE HAVING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, LASER PATTERNING APPARATUS, AND PATTERNING METHOD
透明導電膜を有する基板の製造方法、レーザパターニング装置およびパターニング方法 - 特許庁 - Next, the patterning device is aligned and a pattern is transferred from the patterning device onto a substrate.
次に、パターニングデバイスは、位置合わせされ、パターンがパターニングデバイスから基板上に転写される。 - 特許庁 - In the case of the spiral pattern, a patterning pitch PA is 14-50 mm, and a patterning height HA is 0.002-0.02 times of the patterning pitch PA.
螺旋状の場合には、型付けピッチＰＡを１４〜５０ｍｍ、かつ型付け高さＨＡを型付けピッチＰＡの０．００２〜０．０２倍。 - 特許庁 - DUAL-DAMASCENE PATTERNING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT
半導体素子のデュアルダマシンパターン形成方法 - 特許庁 - MASK FOR THIN FILM PATTERNING AND ITS MANUFACTURING METHOD
薄膜パターン化用マスクとその製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF CHROMIUM FILM AND CHROMIUM ELECTRODE
クロム膜のパターニング方法及びクロム電極 - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING METHOD
ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR POLYSILICON LAYER AND LAYER STRUCTURE
ポリシリコン層及び層構造のパターニング方法 - 特許庁 - FABRIC-FULLING AND TIE-PATTERNING METHOD
布帛の縮絨処理と絞り模様描出法 - 特許庁 - GLASS MASK FOR PATTERNING AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターニング用ガラスマスク及びその製造方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD
ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
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