The metal thin film resistance material 23 is formed by patterning the metal thin film for leaving the metal thin film also to the connecting hole 21. 接続孔21にも金属薄膜を残存させるように金属薄膜をパターニングして金属薄膜抵抗体23を形成する。 - 特許庁
To form a prescribed resist pattern on a substrate while reducing to be small the amount of a resist liquid to be fed in the second time in double patterning. ダブルパターニングにおける2回目のレジスト液の供給量を少量に抑えつつ、基板上に所定のレジストパターンを形成する - 特許庁
To reduce the number of processes of ion implantation and patterning of resist associated with it in manufacturing a low-voltage-operation CMOS semiconductor device. 低電圧動作CMOS半導体装置の製造におけるイオン注入およびそれに伴うレジストのパターニング工程数を削減する。 - 特許庁
In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region. 第1のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン111を有する第1のレジストパターン11を形成する。 - 特許庁
To perform the patterning of a laminated substrate such as a solar battery substrate with high speed and high precision without increasing the cost. コストアップを招くことなく、高速かつ高い精度で太陽電気基板等の積層基板に対してパターニング加工できるようにする。 - 特許庁
An optical substrate 1 includes a substrate 2 which is composed of an insulation resin layer having patterning of electric wiring of a conductive layer 3 on the front and the reverse side. 光基板1は、表裏面に導電層3の電気配線がパターニングされた絶縁樹脂層からなる基板2を有する。 - 特許庁
To provide a masking device in which it is possible to carry out a vacuum vapor deposition in manufacturing an organic EL element with high productivity and high-precision patterning. 有機EL素子製造における真空蒸着を生産性良く且つ高精細パターニングで実施可能なマスク装置を提供する。 - 特許庁
Ruthenium or osmium is employed as the principal constituent of a mask film 8 upon patterning a capacitor electrode 6 whose principal constituent is platinum or iridium. 白金やイリジウムを主成分とするキャパシタ電極6のパターニング時のマスク膜8の主成分として、ルテニウム又はオスミウムを採用する。 - 特許庁
To provide a method for patterning a carbon nanotube certainly at a predetermined position while keeping perpendicularity of the carbon nanotube. カーボンナノチューブの垂直性を維持しつつ所定の位置に確実にカーボンナノチューブのパターンニングを行うことができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide an ultramicro transistor which can deal with the ultrafine patterning of an electronic circuit using DNA as a compositional material. DNAを構成材料として用いることにより、電子回路の極微小化に対応し得る極めて微小なトランジスタを提供する。 - 特許庁
Etching machining is carried out while the distance between a mask 9 and a substrate 8 is gradually changed, thus controlling a patterning shape. マスク9と基板8の距離を徐々に変化させながらエッチング加工することにより、パターンニング形状を制御することができた。 - 特許庁
The SiO_2 film 3 is subjected to patterning, and while the SiO_2 film 3 is used as a mask, the polyimide film 1 is dry-etched by a plasma 4 using O_2. SiO_2膜3をパターニングし、SiO_2膜3をマスクとして、O_2を用いたプラズマ4によりポリイミド膜1のドライエッチングを行う。 - 特許庁
To provide a conductor clad laminated sheet reduced in its dimensional change at the time of patterning of a conductor film, and its manufacturing method. 導体フィルムのパターニング時の寸法変化が低減された導体張積層板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To solve the problem of difficulties in determining a layout for optimizing the tradeoff of a patterning margin and forming a layout for obtaining a high yield. パターニングマージンのトレードオフを最適にするレイアウトの判断がむずかしく、高歩留を得るレイアウトの形成が困難となっている。 - 特許庁
Then, the binary coded pattern index of inputted information is found in an input pattern index part 100 by the similar patterning method. そして、入力する情報の2進符号化パターン・インデックスを、同様のパターン化手法で、入力パターン・インデックス部100において求める。 - 特許庁
After forming the metallic layer 240 by a forming metallic layer 230, a photosensitive insulation material 250 is formed on the semiconductor wafer, and patterning is made. 金属層(240)を形成金属層(240)を形成後、半導体ウェハ上に感光性絶縁材料(250)を形成し、パターニングする。 - 特許庁
To enable processes, where a light transmitting film is patterned to be lessened in number in a semiconductor device manufacturing method that comprises film patterning processes. 膜のパターニング工程を含む半導体装置の製造方法に関し、光透過性の膜をパターニングの際の工程を減らすこと。 - 特許庁
To provide an organic thin film transistor improved in on/off-ratio or the like while easily obtaining the patterning effect of an organic semiconductor layer. 容易に有機半導体層のパターニング効果を得つつ、オン/オフ比などの特性が向上した有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁
To provide a lithography apparatus capable of arranging and removing objects, such as a quickly and effectively patterning device and substrate. パターン化デバイスや基板などのオブジェクトを迅速且つ効果的に支持領域に配置および除去可能なリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURE ON SOLAR CELL, METALLIZATION CONTACT STRUCTURE, PATTERNING METHOD OF LAYER, AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL STRUCTURE 太陽電池上に多層電極構造を形成する方法、金属配線コンタクト構造、層のパターニング方法、機能構造の形成方法 - 特許庁
To provide a circuit board wherein a patterning process is unnecessary, productivity is high and circuit formation is enabled with fine pattern. パターンニング工程を必要とすることなく生産性高く、しかもファインパターンで回路形成をすることができる回路基板を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing the agglomeration of a silicon layer without patterning the silicon layer. シリコン層のパターニングを行うことなく、シリコン層の塊状化を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Based on parameters of patterning operations and a relationship between the injected axis and the measured axis, a correlation function (CF) is used in the calculation. パターニング動作のパラメータおよび注入軸と測定軸との関係に基づいて、相関関数(CF)が前記計算で使用される。 - 特許庁
To provide a method of producing a patterned birefringent product using a cholesteric structure efficiently in orientation and patterning processes. コレステリック構造を用いた複屈折パターンを有する物品を、配向、パターニングの工程において効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM SOLAR BATTERY, AND EQUIPMENT OF PROCESSING THROUGH HOLE AND EQUIPMENT OF PATTERNING THE SAME BY POWDER JETTING METHOD FOR THIN-FILM SUBSTRATE 薄膜太陽電池の製造方法ならびに粉体噴射法による薄膜基板貫通孔加工装置およびパターニング装置 - 特許庁
To provide a multiple patterning wiring board easily dividing a ceramic mother board into respective wiring board areas without generating burrs. セラミック母基板を各配線基板領域にバリを発生させることなく容易に分割できる多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁
Patterning provided by a lithographic apparatus is optically corrected for focus errors that would result from a topology of a substrate being patterned. リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。 - 特許庁
To provide an organic EL element superior in pixel sharpness and durability (adhesive strength) and easy of uniform and local patterning. 画素の先鋭度及び耐久性(密着強度)に優れ、且つ、均一で局所的なパターニングが容易な有機EL素子を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device for achieving a fine-pitch pattern and improving stability in patterning precision. 微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A patterning part fills a template pattern with the resist on the substrate, and the resist is cured, and after that, a release process is performed. また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。 - 特許庁
The 1st conversion part 28a is formed in a display shape, for example, a shape patterning a number, and surrounded with the 1st transmission part 29a. 第1変換部28aは表示形状、例えば数字を象った形状に形成され、周囲を第1透過部29aに囲まれる。 - 特許庁
To accurately detect waviness in a sample to be inspected also to a variation of brightness in a patterning light source, and the position deviation of the sample to be inspected. パターン化光源の明るさの変動や、被検査試料の位置ずれに対しても正確に被検査試料のうねりを検出する。 - 特許庁
Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask. さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁
The nitride film 28 is formed by patterning the silicon nitride film deposited by a plasma CVD method so that the channel of the transistor T may be covered. 窒化膜28は、プラズマCVD法により堆積したシリコン窒化膜をトランジスタTのチャンネル部を覆うようにパターニングして形成する。 - 特許庁
To impart a pattern with a functionality unattainable with one kind of material by patterning a laminate of a plurality of materials. 複数の材料を積層してパターンを形成することによって、一種類の材料では得られなかった機能性をパターンに付与する。 - 特許庁
Then, the laminated resist pattern 110 is used for patterning the film to be patterned before the plane area of the upper-layer resist pattern 112 is increased. 次に、積層レジストパターン110を用いて被パターニング膜をパターニングした後、上層レジストパターン112の平面積を増大させる。 - 特許庁
To reduce manufacturing cost by attaining simplification of process in an organic EL display panel having an electrode to which patterning has been carried out. パターニングされた電極を有する有機EL表示パネルにおいて、工程の簡略化を達成して製造コストの低減を図る。 - 特許庁
To provide technique for manufacturing an organic EL display having high performance by carrying out high-accuracy patterning, readily and in a short time. 簡便にかつ短時間で精度の高いパターニングを行い、高性能の有機EL表示体装置を製造する技術を提供する。 - 特許庁
The electric field impressing fuse 7a is formed by patterning a polycrystalline silicon film, and its terminal is led out by a first layer metal wring 24. 電界印加フューズFaは、多結晶シリコン膜をパターン形成して作られ、その端子は第1層メタル配線24により引き出さる。 - 特許庁
SUBSTRATE FOR PATTERNING ORGANIC THIN FILM, ORGANIC FIELD LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL DISPLAY, AND ORGANIC EL ILLUMINATION 有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機EL表示装置および有機EL照明 - 特許庁
To reuse sand blasting waste generated in mass quantity in patterning a rib of a plasma display panel in a sand blasting method. プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト加工法でパターニングする際に大量に発生するサンドブラスト廃材の良好な再利用を図る。 - 特許庁
A photoresist 8 for forming a transfer channel is formed on the protecting film 7, and a part of the photoresist for forming the transfer channel is removed by patterning. 保護膜7上に転送チャネル形成用フォトレジスト8を形成し、転送チャネル形成用フォトレジストの一部をパターニング除去する。 - 特許庁
The array can be formed by patterning a positive or negative photosensitive resin composition to form the green filter layer. ポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物をパターンニングして緑色フィルタ層を形成する工程により形成することができる。 - 特許庁
A color filter array can be produced by forming a color filter layer by patterning the colored photosensitive resin composition. この着色感光性樹脂組成物をパターンニングして色フィルタ層を形成することにより、色フィルタアレイを製造することができる。 - 特許庁
To finally and stably form a pattern in the desired size on a wafer in the pattern forming process performing patterning a plurality of times. 複数回のパターニングを行うパターン形成処理において、ウェハ上に最終的に所望の寸法のパターンを安定的に形成する。 - 特許庁
To provide a stack structure for a fuel cell comprising an electrode which contains uniform and minute gas channels formed by patterning. 電極中に均一でかつ微細なガス流路をパターン形成した電極を備える燃料電池用スタック構造体を提供する。 - 特許庁
To provide an anode for a lithium metal polymer secondary battery made of anode current collector with surface patterning, and manufacturing method of the same. 表面パターニングされた負極集電体からなるリチウム金属ポリマー二次電池用の負極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The process simultaneously performs the patterning of the cathode 4 and the forming of the layer 5 by using a laser 9. 本発明では、転写法を用いることにより、陰極4のパターニングと発光層5の形成をレーザー9を用いて同時に行う。 - 特許庁
A belt layer includes at least one monofilament cord manufactured by patterning one monofilament into the spiral or waveform shape. 前記ベルト層は、1本のモノフィラメントを螺旋状又は波形状に型付けした型付けモノフィラメントコードを用いたプライを少なくとも含む。 - 特許庁
MULTICOLOR PATTERNING GELCOAT SPRAY APPARATUS, MULTICOLOR PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD OF MOLDING HAVING MULTICOLOR PATTERN 多色模様用ゲルコートスプレー装置及びこれを用いた多色模様形成方法並びに多色模様を有する成形体の製造方法 - 特許庁