「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 78 79 次へ＞- By the isomerization reaction of 1,2-diarylethene, patterning is made possible because of a change in adhesiveness of the electrode material like magnesium, or the like.
１，２−ジアリールエテンの異性化反応により、電極材料であるマグネシウム等の付着性に変化が生じ、パターニングが可能になる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a method of designing a photomask by which high-precision patterning can be easily performed.
容易に高い精度のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法及びフォトマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which has an electrode of a low resistance and can reduce the number of patterning processes, and to provide a method of manufacturing the same.
低抵抗な電極部を有し、且つパターニング工程数の削減可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching liquid composition and a patterning method of a conductive film using the same and a manufacturing method of a flat panel display.
本発明は、エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。 - 特許庁 - To provide a method for etching a wafer with the use of an advanced-patterning-film (APF) in order to reduce a curvature and to improve a ratio between an upper part and a lower part.
湾曲を軽減し上下比を改善するためにアドバンスドパターニングフィルム（ＡＰＦ）を用いてウェハをエッチングする方法である。 - 特許庁 - To provide an ejecting section maintenance device for facilitating maintenance while preventing the size of a patterning device from increasing and lessening the burden on a worker.
パターン形成装置の大型化を防止し、作業員等の負担も軽減でき、メンテナンスが容易な吐出部保守装置を提供する。 - 特許庁 - In one embodiment, the system is in the lithography system, and the system further includes a lighting system 212, a patterning device 214, and a projection system 216.
一例では、システムはリソグラフィシステム内にあり、これはさらに照明システム２１２、パターニングデバイス２１４、および投影システム２１６を有する。 - 特許庁 - The lithography apparatus is provided with a lighting system that adjusts radiation beams, support that gives patterns to the cross-section of radiation beams and supports patterning devices to form patterning radiation beams, substrate table that holds a substrate, projection system that projects patterning radiation beams on the targeted part of the substrate, and robot that is configured to transmit replaceable objects, to and from a support region.
本発明のリソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン化放射線ビームを形成するパターン化デバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン化放射線ビームを基板のターゲット部分に投射する投影システムと、交換可能オブジェクトを支持領域へ、および支持領域から移送するように構成されたロボットとを有している。 - 特許庁 - Thus, a deformation of the 1st thin-film pattern 111 at an end part 111T is suppressed, and an exact patterning is attained.
これにより、端部１１１Ｔにおける第１薄膜パターン１１１の型くずれを抑制し、より正確にパターニングすることができる。 - 特許庁 - Then, the conductive materials 140 are ground in parallel with the surface of the core substrate 111, and the patterning of the conductive layers 112 and 113 is carried out.
そして、コア基板１１１の表面と平行に導電性材料１４０を研磨した後、導電層１１２，１１３をパターニングする。 - 特許庁 - In such a manner, it is possible to eliminate the processes of photo- resist deposition, pattern exposure, and development which have been necessary for patterning the protective insulating film in the conventional art.
これにより従来保護絶縁膜のパターニングに必要としていたフォトレジスト成膜、パターン露光、現像工程を削減できる。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording method capable of easily securing suitable quality in patterning to a building material.
建築材に対する模様付けにおいて好適な品質を容易に確保できるインクジェット記録方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The patterning means 30 reads measured data recorded in a measured data recording means 20, patterns the measured data and extracts a measured data pattern.
パターン化手段３０は、計測データ記録手段２０に記録された計測データを読み出し、パターン化して計測データパターンを抽出する。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which stock management of mask is not required, and a throughput higher than that of a direct imaging method can be attained easily.
マスクの在庫管理が不要であり、ダイレクトイメージング法よりも高いスループットとすることが容易なパタン作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for smoothly patterning a glass film comprising Bi_2O_3 or the like, and to provide a glass optical amplification waveguide using the glass film.
Ｂｉ_２Ｏ_３他含有ガラス膜を平滑にパターニングする方法及び当該ガラス膜を用いたガラス光増幅導波路の提供。 - 特許庁 - A wiring pattern is formed with the steps of patterning the second conductive film 12 and the first conductive film 11.
第２の導電膜１２をパターニングする工程及び第１の導電膜１１をパターニングする工程によって、配線パターンが形成される。 - 特許庁 - Then an etching stop layer 5 and a second insulating film 6 are formed on the film 3 and trenches (square pipe-like recessed sections) 7 are formed by patterning the second insulating film 6.
更に、エッチング停止層５及び第２の絶縁膜６を成膜し、パターニングしてトレンチ（角筒形の凹部）７を形成する。 - 特許庁 - Etching treatment is carried out while the distance between a mask 9 and a substrate 8 is gradually changed, thus controlling a patterning shape.
マスク９と基板８の距離を徐々に変化させながらエッチング加工することにより、パターンニング形状を制御することができた。 - 特許庁 - To provide a method for detecting a defect in a mask by patterning a reference substrate by using the mask immediately after the mask is manufactured.
マスクの製造の直後に、マスクによって参照基板をパターン形成するマスクの欠陥を検出する方法を提供すること。 - 特許庁 - Thereafter, the polysilicon film 5 is subjected to patterning for forming gate electrodes in the four regions 101n, 102n, 102p and 101p.
次に、ポリシリコン膜５をパターニングすることにより、ゲート電極を４つの領域１０１ｎ、１０２ｎ、１０２ｐ及び１０１ｐに形成する。 - 特許庁 - Thereafter, a resist pattern 9 is formed on the WSi layer 8, and patterning of the WSi layer 8 is performed using the resist pattern 9 as a mask.
その後、ＷＳｉ層８の上にレジストパターン９を形成し、レジストパターン９をマスクとしてＷＳｉ層８のパターニングを行う。 - 特許庁 - Continuously, a first resist film having a fine first pattern is formed on the hard mask film for patterning of the hard mask film (S108).
つづいて、ハードマスク膜上に微細な第１のパターンを有する第１のレジスト膜を形成してハードマスク膜をパターニングする（Ｓ１０８）。 - 特許庁 - A resist pattern 22a having an opening 41 is formed by forming a photosensitive layer 22 having a predetermined thickness and effecting a series of patterning treatments.
所定厚の感光層２２を形成し、一連のパターニング処理を行って、開口部４１を有するレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁 - A pitch P in the longitudinal direction of the patterning of the patterned monofilament cord is 0.008-0.08 times of a tire outer peripheral length W.
前記型付けモノフィラメントコードの前記型付けの長手方向のピッチＰは、タイヤ外周長さＷの０．００８〜０．０８倍である。 - 特許庁 - The radiation thermal conduction films 3,..., for instance, can be formed by patterning copper foil formed on a whole back face of the substrate 1.
熱伝導膜３、…は、例えば、基板１の裏面の全面に形成された銅箔をパターンニングすることにより形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a piezoelectric vibrator having excellent characteristics, while patterning of a photoresist layer can be accurately performed.
フォトレジスト層のパターンニングを精度良く行うことができ、特性の良い圧電振動子の製造方法を提供するためのものである。 - 特許庁 - To provide a method of forming an electrode for a gas discharge panel in which an oxidization of a copper layer side exposed by patterning can be prevented.
パターニングによって露出したＣｕ層の側面の酸化を防ぐことができるガス放電パネルの電極形成方法を提供する。 - 特許庁 - Whereby the ribbon member forming layer can be divided into ribbon members at predetermined intervals with a specific width by performing the patterning to the ribbon member forming layer.
これにより、リボン部材形成層をパターニングして所定幅で所定間隔で離隔したリボン部材に分割することができる。 - 特許庁 - By using a resist pattern formed by developing the resist 201c as a mask, the film 201b composed of the halftone film and the chromium film is subjected to patterning.
レジスト２０１ｃを現像して形成されたレジストパターンをマスクとしてハーフトーン膜とクロム膜から成る２０１ｂをパターニングする。 - 特許庁 - To provide an orientational carbon nanotube cathode, suitable or exposure and decal transferring by patterning electron source, without the use of a mask.
マスクを使用せず、電子源をパタン化することにより露光転写を行うのに適当な配向性カーボンナノチューブ陰極を提供する。 - 特許庁 - The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).
さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁 - To realize patterning of high accuracy while reducing the cost and time required for the entire process, and selectively depositing particles in the nano-order.
プロセス全体に要するコストや時間を軽減させ、微粒子をナノオーダで選択的に堆積させつつ、高精度なパターニングを実現する。 - 特許庁 - A photomask 60 can be commonly used for patterning both of a trench and a contact hole disposed inside the trench in a dual damascene wiring structure.
フォトマスク６０を、デュアルダマシン配線構造のトレンチ及びその内側に配置されるコンタクトホールそれぞれのパターニングに共用可能とする。 - 特許庁 - The laser fuse 7b is formed by patterning from a second layer metal wiring 24, and its terminal is led out by the first layer metal wiring 24.
レーザフューズＦｂは、第２層メタル配線層を用いてパターン形成され、その端子は第１層メタル配線２４により引き出される。 - 特許庁 - A resist pattern 54 used for patterning at the 1st stage is used as it is for ion injection in the base region 35.
そしてこの第１段階目のパターニングに使用したレジストパターン５４をそのまま用いて、ベース領域３５のためのイオン注入を行う。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING METAL FOIL, ELECTRIC WIRING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND CIRCUIT BOARD AND ELECTRONIC DEVICE
金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 - 特許庁 - The base board is a copper clad circuit board, and a wiring pattern 10 is formed by patterning the copper clad circuit board.
ベース基板６は銅張り回路基板であって、配線パターン１０は該銅張り回路基板をパターンニングすることにより形成されている。 - 特許庁 - When patterning these films 14 and 15 to form a multilayer gate electrode, the lower layer gate electrode is formed larger than the upper layer gate electrode.
これらをパターニングして多層ゲート電極を形成するとき、下層ゲート電極を上層ゲート電極よりも大きく形成する。 - 特許庁 - To provide a toner with which a semiconductor layer can be fast formed into a desired pattern with high maintenance property in patterning a semiconductor material.
半導体材料のパターニングにおいて、半導体層を任意のパターンで高速に、メンテナンス性よく形成できるトナーなどを提供する。 - 特許庁 - These check patterns 4, 5 are formed by patterning by photolithography after a resist is coated on the insulation film 2 on the semiconductor substrate 1.
これらのチェックパターン４、５は、半導体基板１上の絶縁膜２にレジストを塗布した後、フォトリソグラフィによりパターニングして形成する。 - 特許庁 - To provide a hologram exposure device and a hologram exposure method capable of precisely forming holograms in a multiple patterning hologram optical element.
多面付けホログラム光学素子に精度良くホログラムを形成することができるホログラム露光装置およびホログラム露光方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a catalyst layer for synthesis of carbon nanotubes and a method of fabricating a field emission device using the method.
炭素ナノチューブの合成のための触媒層のパターニング方法及びそれを利用した電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, the circuit can be formed at the internal surface of the insulating base material 4 in the three-dimensional shape with the patterning method using the electromagnetic wave.
この結果、電磁波を用いたパターニング方法で立体形状の絶縁基材４の内面に回路形成を行なうことができる。 - 特許庁 - First, the original plate for patterning 10 where a protective layer 13 is formed to cover over the surface of the liquid crystal layer 12 is prepared ((a) and (b)).
まず、液晶層１２の表面を覆うように保護層１３が形成されたパターニング用原版１０を準備する（図１（ａ）（ｂ））。 - 特許庁 - To provide an imprint mold suitable for micro patterning, a production method therefor, and a patterned body produced using an imprint mold.
微細なパターンの形成に好適なインプリントモールド及びその作製方法、インプリントモールドを用いて製造されるパターン形成体を提供する。 - 特許庁 - To provide an improved system for patterning of a lapping surface capable of efficiently forming a pattern on the lapping surface with no turbulence.
ラップ仕上面に乱れの無いパターンを効率的に形成することができる、改善されたラップ仕上面のパターン付けシステムを提供する。 - 特許庁 - For example, the system is within the lithography system, and the lithography system includes a lighting system 212, a patterning device 214, and a photographing system 216.
一例では、システムはリソグラフィシステム内にあり、これはさらに照明システム２１２、パターニングデバイス２１４、および投影システム２１６を有する。 - 特許庁 - To provide an EL element which can be manufactured simply, and especially in which formation of a light shielding layer and patterning of a light-emitting layer can be made simply and easily.
簡易に製造できるＥＬ素子、特に遮光層の形成や発光層のパターニングが簡易にできるＥＬ素子の提供。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern by which a fine resist pattern with excellent lithography properties can be formed in a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - A first motor assembly generates a force in at least one direction and is coupled with any one of the patterning support and the substrate support.
第一モータアセンブリは少なくとも１つの方向に力を発生して、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方に結合される。 - 特許庁
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