「plasma processing」を含む例文一覧(3220)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 64 65 次へ＞- To uniformalize a plasma processing condition in a wafer surface.
ウエハ面内でのプラズマ処理状況を均一化する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND ABNORMAL DISCHARGE PREVENTING METHOD
プラズマ処理装置およびその異常放電抑止方法 - 特許庁 - SIGNAL PROCESSOR, PLASMA DISPLAY AND SIGNAL PROCESSING METHOD
信号処理装置、プラズマディスプレイ装置、信号処理方法 - 特許庁 - MOUNTING STAND, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD FOR MOUNTING STAND
載置台、プラズマ処理装置、および載置台の製造方法 - 特許庁 - SHOWER PLATE, PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD OF PRODUCING PRODUCTS
シャワープレート、プラズマ処理装置、及び、製品の製造方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING MICRO WAVE EXCITING PLASMA
マイクロ波励起プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - INDUCTIVE COUPLING PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA GENERATING DEVICE AND WORK PROCESSING DEVICE USING IT
プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus capable of controlling a distribution of plasma generated in a processing container by a simple means.
処理容器内で生成するプラズマの分布を簡易な手段で制御できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, MATCHING BOX, IMPEDANCE MATCHING DEVICE, AND COUPLER
プラズマ処理装置、マッチングボックス、インピーダンス整合器、結合器 - 特許庁 - The plasma processing device 1 includes a vacuum container 3.
プラズマ処理装置１は、真空容器３を有している。 - 特許庁 - ROTARY ELECTRODE DRY-CLEANING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
回転電極のドライクリーニング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, FOCUS RING, AND MOUNTING APPARATUS OF WORK
プラズマ処理装置、フォーカスリング及び被処理体の載置装置 - 特許庁 - STRUCTURE FOR RADIAL LINE SLOT ANTENNA IN PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER THROUGH PLASMA, AND DEVICE THEREOF
半導体ウェーハのプラズマ処理方法およびその装置 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH REMOTE PLASMA DISCHARGE CHAMBER
遠隔プラズマ放電室を有する半導体処理装置 - 特許庁 - To provide a helical resonator type plasma processing apparatus.
ヘリカル共振器型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF DIELECTRIC PROTECTING FILM AND PLASMA DISPLAY PANEL
誘電体保護膜の処理方法及びプラズマディスプレイパネル - 特許庁 - To realize a plasma processing method in which a selection can be made arbitrarily between etching process and deposition process during plasma processing.
プラズマ処理中に任意にエッチング処理とデポジション処理とを選択できるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR FLUID OR FLUID MIXTURE
流体又は流体混合物のためのプラズマ処理システム - 特許庁 - ERROR DIFFUSION PROCESSING CIRCUIT AND METHOD, AND PLASMA DISPLAY DEVICE
誤差拡散処理回路、方法及びプラズマディスプレイ装置 - 特許庁 - To provide a plasma treatment apparatus whose processing rate is high.
処理レートが速いプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁 - At least, a part of the inside wall of the plasma processing chamber is covered with an oxide film based on the processing plasma.
前記プラズマ処理室内壁の少なくとも一部は、前処理プラズマに基づく酸化膜で覆われている。 - 特許庁 - To provide a stable plasma by controlling processing parameters.
処理パラメータを制御して、プラズマの安定性を与える。 - 特許庁 - DISCHARGE PLASMA PROCESSOR AND PROCESSING METHOD USING THE SAME
放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 - 特許庁 - PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE
プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus which controls high-frequency power used for plasma processing to a low level.
プラズマ処理に用いられる高周波電力を低く制御することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for controlling pressure of a plasma processing device, and to provide a plasma processing device in which pressure can be controlled.
プラズマ処理装置の圧力制御方法及び圧力制御可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - CHARGED PARTICLE CURRENT MEASURING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE
荷電粒子電流計測装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THE SAME
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF INSPECTING THE SAME
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の検査方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING WORK BY PLASMA
ワークのプラズマ処理装置およびワークのプラズマ処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PLASMA PROCESSING SYSTEM
半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - SAMPLE PLACING ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS EMPLOYING SAME
試料載置電極及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマ処理装置、および半導体装置の作製方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
プラズマ処理方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a plasma processing device and a plasma processing method capable of suppressing abnormal discharge in a waveguide.
導波管内の異常放電を抑止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法の提供。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED DEVICE
半導体集積装置製造用のプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマ処理方法および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁 - DOUBLE-ELECTRODE WAFER HOLDER OF PLASMA-ASSISTED WAFER PROCESSING APPARATUS
プラズマ支援ウェハー処理装置の二重電極ウェハーホルダ - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマ処理装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ELECTRODE PLATE THEREFOR
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER AND PLASMA ETCHING APPARATUS
半導体ウエーハの加工方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND SHORT CIRCUIT OF HIGH-FREQUENCY CURRENT
プラズマ処理装置及び高周波電流の短絡回路 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE
プラズマ処理装置及び高周波電力供給装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH FREQUENCY POWER SUPPLYING MECHANISM
プラズマ処理装置および高周波電力供給機構 - 特許庁 - The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.
常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING CURRENT OF PLASMA, METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING SURFACE OF OBJECT USING PLASMA
プラズマの電流計測方法、プラズマによる物質の表面処理方法およびその装置 - 特許庁
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