「wavefront」を含む例文一覧(590)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, MASK, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
波面収差測定方法、マスク、波面収差測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁 - To provide a wavefront measuring method and a wavefront measuring device which can measure a wavefront of light properly with a simple constitution.
簡便な構成でありながら、光の波面測定を適切に行うことを可能とした波面測定方法及び波面測定装置を提供する。 - 特許庁 - OPTICAL WAVEFRONT CONTROL DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
光波面制御装置およびその製造方法 - 特許庁 - The wavefront aberration A1 is corrected, by using the wavefront aberration B to calculate the wavefront aberration A of the laser light from the laser light irradiating device 10.
波面収差Ｂを用いて波面収差Ａ１を補正して、レーザ光照射装置１０からのレーザ光の波面収差Ａを計算する。 - 特許庁 - WAVEFRONT SENSOR AND OPTICAL PHASE DISTRIBUTION CONTROL DEVICE
波面センサ、および光位相分布制御装置 - 特許庁 - To provide a wavefront conversion device in which better wavefront conversion light can be obtained and to provide an optical device equipped with the wavefront conversion device.
より良好な波面変換光を得ることができる波面変換装置、およびそれを備える光学装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The wavefront aberration of an reference optical system BL whose wavefront aberration is confirmed in advance is measured with an inspecting wavefront aberration measuring device 110, and a wavefront aberration measuring unit attached to the exposure to find a first difference between both the wavefront aberrations.
予め波面収差が確認されている基準光学系ＢＬの波面収差を、検査用波面収差測定装置１１０と、露光装置に装着される波面収差測定ユニットとで計測し、両波面収差の第１の差分を求める。 - 特許庁 - WAVEFRONT CURVATURE MODULATOR AND IMAGE DISPLAY DEVICE
波面曲率変調器および画像表示装置 - 特許庁 - OPTICAL SYSTEM WITH WAVEFRONT CORRECTION OPTICAL SURFACE
波面補正光学表面を有する光学システム - 特許庁 - WAVEFRONT INFORMATION DETECTION APPARATUS AND METHOD FOR DETECTION
波面情報検出装置および検出方法 - 特許庁 - OPTICAL SYSTEM FOR LASER BEAM SHAPING AND WAVEFRONT CONTROL
レーザ光整形及び波面制御用光学系 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION CORRECTION MIRROR AND ITS MANUFACTURING METHOD
波面収差補正ミラーおよびその製造方法 - 特許庁 - A wavefront measurement system has a source of electromagnetic radiation.
波面測定システムが、電磁放射源を有する。 - 特許庁 - To provide a method of measuring wavefront aberration and a wavefront aberration measuring instrument with wavefront aberration measuring accuracy enhanced even where an optical system is used in a wide wavelength band.
広い波長域で使用する光学系であっても、波面測定精度を向上させた波面収差測定方法、及び、波面収差測定機を提供する。 - 特許庁 - The one-dimensional illumination apparatus is equipped with: a light source 1 comprising an array laser or the like; a wavefront dividing part 21 for dividing a wavefront and superimposing the wavefronts; and a wavefront superimposing part 22 superimposing the wavefronts.
アレイレーザ等より成る光源１と、波面を分割し重ね合わせる波面分割部２１と、波面を重ね合わせる波面合成部２２とを備える。 - 特許庁 - A measuring member for wavefront aberration measures wavefront aberration including higher order aberration of the eyes to be examined from the photodetective signal of the photodetective part of the wavefront aberration measuring system.
波面収差測定部は、波面収差測定光学系の該受光部の受光信号に基づき、被測定眼の高次収差を含む波面収差を測定する。 - 特許庁 - TRANSMITTED WAVEFRONT MEASURING INSTRUMENT USING REFLECTING MIRROR
折り返しミラーを用いた透過波面の測定装置 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD AND DEVICE OF OPTICAL SYSTEM
光学系の波面収差測定方法及び装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION
波面収差軌定機及び波面収差測定方法 - 特許庁 - Optical wavefront detection systems 10 and 30 have a microlens array arranged in order to carry out light reception of a wavefront.
光学波面検知システム１０、３０は、波面を受光するために配置される微小レンズアレイを有する。 - 特許庁 - The SLM shapes a wavefront of the first beam of radiation resulting in a shaped wavefront corresponding to an optical surface.
ＳＬＭは第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面にする。 - 特許庁 - WAVEFRONT CODING IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGING APPARATUS
波面コーディング画像形成装置及び撮像装置 - 特許庁 - In this step, the wavefront curvature can be finely adjusted by adding a bias to the evaluation of the wavefront curvature.
その際、波面曲率の評価にバイアス値を与えることで、波面曲率の微調整が可能となる。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE
波面収差計測装置、波面収差計測方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING WAVEFRONT ABERRATION, AND COMPUTER PROGRAM
波面収差を低減する方法及びコンピュータプログラム - 特許庁 - TRANSMISSION WAVEFRONT MEASURING METHOD OF BIREFRINGENCE OPTICAL ELEMENT
複屈折性光学素子の透過波面測定方法 - 特許庁 - MEASURING DEVICE AND METHOD OF WAVEFRONT ABERRATION
波面収差測定装置及び波面収差測定方法 - 特許庁 - TRANSMITTED WAVEFRONT MEASURING METHOD, REFRACTIVE-INDEX DISTRIBUTION MEASURING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, AND TRANSMITTED WAVEFRONT MEASURING APPARATUS
透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR EVALUATING WAVEFRONT ABERRATION
波面収差評価方法および波面収差評価装置 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE AND EXPOSING DEVICE THEREWITH
波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION
波面収差測定装置及び波面収差測定方法 - 特許庁 - The reproduction light reflected by the mirror 28 is projected to a wavefront control device 29, and distortion of wavefront of the reproduction light is corrected based on distortion information of the reproduction light wavefront.
ミラー２８から反射された再生光は波面制御デバイス２９に照射され、再生光波面の歪情報に基づいて、再生光の波面の歪が補正される。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION INSTRUMENTATION METHOD AND EQUIPMENT, AND ALIGNER
波面収差計測方法及び装置、並びに露光装置 - 特許庁 - To provide a technique for converting the wavefront curvature of light at high speed for a wavefront curvature modulator modulating the wavefront curvature of light by using electrooptical effect.
電気光学効果を利用して光の波面曲率を変調する波面曲率変調器において、光の波面曲率を高速で変調する技術を提供する。 - 特許庁 - OPTIMIZED IMAGE PROCESSING FOR WAVEFRONT CODED IMAGING SYSTEMS
波面符号化イメージングシステムの最適化された画像処理 - 特許庁 - The reference wavefront 10 and the inspected wavefront 11 form an interference pattern on an interference pattern imaging unit (CCD) 9.
参照波面１０と被検波面１１は、干渉縞撮像装置（ＣＣＤ）９上に干渉縞を形成する。 - 特許庁 - The wavefront variation detection section 11 detects wavefront variations ηO in waves at the front position of the wave-making board 9.
波面変動検出部１１は、造波体９の前面位置での波の波面変動η０を検出する。 - 特許庁 - The wavefront distribution controller controls a wavefront distribution of the reference light in the transmittance control element.
前記波面分布制御部は、前記透過率制御素子における前記参照光の波面分布を制御する。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM
波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法 - 特許庁 - A wavefront aberration of a projection optical system PL is measured with the inspecting wavefront aberration measuring device 110, and further, after mounting on the exposure device, measured with the wavefront aberration measuring unit to find a second difference of both the wavefront aberration.
投影光学系ＰＬの波面収差を、検査用波面収差測定装置１１０で計測するとともに、露光装置に搭載した後に波面収差測定ユニットで計測し、両波面収差の第２の差分を求める。 - 特許庁 - To provide a wavefront measuring method that can accurately calculate a transmitted wavefront of an indistinct area even if there is an indistinct area in interference fringes obtained through an optical element, and a wavefront measuring apparatus using the wavefront measuring method.
光学素子を介して得られる干渉縞に不明瞭な部分がある場合でも、不明瞭の部分の透過波面を精度よく算出することができる波面計測方法及びそれを用いた波面計測装置を得ること。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING TRANSMISSION WAVEFRONT ABERRATION OF LENS TO BE INSPECTED
被検レンズの透過波面収差測定方法及び装置 - 特許庁 - MEDICAL DIAGNOSTIC APPARATUS OF THREE-DIMENSIONAL DISPLAY BY WAVEFRONT CODING METHOD
波面符号法による３次元表示医療診断装置 - 特許庁 - METHOD FOR SELECTING SET OF INITIAL CLUSTER CENTERS, WAVEFRONT CLUSTERING METHOD
初期クラスタセンタセット選択方法、ウエーブフロントクラスタリング方法 - 特許庁 - MEASUREMENT OF COMPLEX SURFACE SHAPE USING SPHERICAL WAVEFRONT
球状波面を使用した複雑な表面形状の測定 - 特許庁 - INTRAOCULAR DISTANCE MEASURING APPARATUS BY MULTIPLE WAVEFRONT OPTICAL COHERENCE
多重波面光コヒーレンスによる眼球内距離測定装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MEASUREMENT OF WAVEFRONT SHAPE
波面形状測定装置及び波面形状測定方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT SHAPE
波面形状の測定方法及び波面形状測定装置 - 特許庁 - WAVEFRONT CONTROL ELEMENT, LIQUID CRYSTAL LENS, AND ABERRATION COMPENSATION ELEMENT
波面制御素子及び液晶レンズ並びに収差補正素子 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION COMPENSATION ELEMENT, OPTICAL PICKUP, AND OPTICAL DISK APPARATUS
波面収差補正素子、光ピックアップ及び光ディスク装置 - 特許庁
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