「wavefront」を含む例文一覧(590)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- To provide a apparatus for measuring a system error provided capable of measuring a system error in an interferometer for wavefront measurements easily with high precision, and also to provide an interferometer system for wavefront measurement equipped with a system error measuring apparatus like this.
波面測定用干渉計におけるシステム誤差を、容易かつ高精度に計測することが可能なシステム誤差計測装置、およびこのようなシステム誤差計測装置を備えた波面測定用干渉計装置を得る。 - 特許庁 - A surface of curvature of an input surface of the entrance optical element (25) is parallel to a wavefront curvature of an input light beam and an output surface of the exit optical element 35 is parallel to a wavefront curvature of an exit light beam.
入口光学素子(25)の入力表面の湾曲の表面は、入力光ビームの波面の湾曲に平行であり、出口光学素子３５の出力表面は、出射光ビームの波面の湾曲に平行である。 - 特許庁 - This method of measuring wavefront aberration for measuring wavefront aberration by inputting light emitted from a light source into an inspected lens to detect light having passed through the inspected lens, includes a process for measuring wavefront aberration with the aperture of the inspected lens opened, a process for measuring the pupil center position of the inspected lens with the aperture of the inspected lens reduced, and a process for polynomially expanding the wavefront aberration with the pupil center position used as an origin.
光源から放射された光を被検レンズに入射させ、当該被検レンズを透過した光を検出して波面収差を測定する波面収差測定方法であって、被検レンズの絞りを開放した状態で波面収差を測定する工程と、被検レンズの絞りを絞った状態で、当該被検レンズの瞳中心位置を測定する工程と、瞳中心位置を原点として波面収差を多項式展開する工程と、を有する。 - 特許庁 - A wavefront regulator 32 is provided on the output side of an optical resonator, that is, on the output coupler 31 side.
光共振器内の出力側、すなわち出力カプラ３１側に波面調整器３２が設けられる。 - 特許庁 - This modulated light, that is, the reproduced light is subjected to wavefront conversion by the lens 12, whereby a reconstructed image is formed.
この変調された光すなわち再生光はレンズ１２により波面変換されて、再生像が形成される。 - 特許庁 - To measure image forming performance (for example, wavefront aberrations) of the projection optical system of a projection aligner.
投影露光装置において投影光学系の結像性能（例えば、波面収差）を計測することを可能にする。 - 特許庁 - To enhance accuracy in adjusting a wavefront phase of a liquid crystal element without increasing the number of spring members in an optical pickup.
光ピックアップにおいて、バネ部材の数を増やすことなく液晶素子の波面位相の調整精度を高める。 - 特許庁 - The Fizeau type interferometer 12 can measure the wavefront from the entire surface of the diffracted light at the same time and in a short time.
フィゾー型干渉計１２により、回折光全面からの波面を一括に、且つ短時間に計測できる。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT AND EXPOSURE METHODS OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF ALIGNER
波面収差計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 - 特許庁 - The whole of the wavefront aberration correction mirror body is covered with a frame for hermetically seal (27) and completely sealed from outside.
波面収差補正ミラー本体の全体が、密封用フレーム（２７）で覆われ、外部から完全密封されている。 - 特許庁 - The wavefront distortion imparted to components of the read light other than the zero-order light is corrected with the sub-phase pattern.
読出し光の０次光以外の成分に与えられる波面歪みは、副位相パターンによって補正される。 - 特許庁 - A wavefront correction system 1 lights an eye to be measured and measures an aberration of a reflected light flux from the eye to be measured.
波面補正系１は、被測定眼を照明し、被測定眼からの反射光束の収差を測定する。 - 特許庁 - To provide an optical circuit whose detailed structure generated by design, using a wavefront-matching method, is suppressed.
波面整合法を用いた設計によって発生する微細な構造を抑制した光回路を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical wavefront control module capable of reducing a phenomenon caused by a change in ambient temperature of an SLM (Spatial Light Modulator).
ＳＬＭの周囲温度の変化に起因する現象を軽減できる光波面制御モジュールを提供する。 - 特許庁 - To provide a device of measuring a transmission wavefront by a Fizeau interferometer capable of maintaining a liquid surface fixedly to an immersion lens.
液浸レンズに対して液面を一定に保つことができるフィゾー干渉計による透過波面測定装置。 - 特許庁 - OPTICAL WAVEFRONT DETECTION SYSTEM AND ITS DETECTION METHOD AND ALSO REFRACTION ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM FOR EYE AND ITS MEASURING METHOD
光学波面検知システム及びその検知方法、並びに眼の屈折収差測定システム及びその測定方法 - 特許庁 - Furthermore, the extent of eccentricity adjustment of each optical element which minimizes the wavefront aberration is obtained by simulation.
その後、さらに、シミュレーションにより波面収差を最低にする各光学素子の偏芯調整量を求める。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for objectively measuring aberration of an optical system by wavefront analysis.
波面分析により光学系の収差を客観的に測定するための方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an interferometer capable of measuring wavefronts at one sitting of the whole domain of an object whose wavefront is to be measured.
被波面測定物の全領域の波面を一度に測定することができる干渉計を提供する。 - 特許庁 - The widely used terms wavefront or wave surface can be defined as surfaces of constant phase φ.
幅広く使われている用語「波面」あるいは「波の表面」は、一定の位相φの表面として定義される。 - 科学技術論文動詞集 - The transfer optical system 24 transfers a geometrical optical focal position of a beam having a wavefront curvature that is a mean value of a beam wavefront curvature just behind the fetching mirror of the oscillator before the fetching mirror 2 of the oscillator is influenced by heat and a beam wavefront curvature after the fetching mirror 2 of the oscillator is influenced by heat on the aspherical lens 4.
転写光学系２４は、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受ける前の発振器取り出しミラー直後のビーム波面曲率と、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受けた後のビーム波面曲率との平均値の波面曲率をもったビームの幾何光学的な焦点位置を非球面レンズ４の上に転写する。 - 特許庁 - In the processing step, the shape of at least one surface of the at least one optical element is processed to reduce the wavefront aberration of the projection optical system based on the variation of the wavefront aberration of the projection optical system measured by the measurement step, and the wavefront aberration of the projection optical system estimated by the estimation step.
前記加工工程において、前記計測工程で計測された投影光学系の波面収差と前記推定工程で推定された投影光学系の波面収差の変化量とに基づいて、投影光学系の波面収差を低減するように前記少なくとも一つの光学素子の少なくとも一つの表面の形状を加工する。 - 特許庁 - A wavefront control part 20d of a control device 20 controls a phase modulation module 100 of a wavefront forming light source 10 based on data of an aberration cancel pattern for canceling desired aberration, generates detection light having the wavefront required for determining the contribution degree to the desired aberration of the lens L, and allows the lens L to be irradiated therewith.
制御装置２０の波面制御部２０ｄは、所望の収差をキャンセルするための収差キャンセルパターンのデータに基づいて波面成形光源１０の位相変調モジュール１００を制御し、レンズＬの当該所望の収差に対する寄与度を判定するために必要な波面を有する検出光を生成させ、レンズＬに照射させる。 - 特許庁 - To provide a wavefront aberration measuring apparatus which can check whether a reference plane for attaching a lens to be inspected and a cover glass are perpendicular to the propagation direction of a light incident thereon or not, even in a period of time when the wavefront aberration is measured.
波面収差測定中においても、被検レンズの当て付け基準面及びカバーガラスと、これらに入射する光の進行方向が垂直となっているか否かを確認することができる波面収差測定装置を提供する。 - 特許庁 - This X-ray wavefront sensor includes a wavefront-splitting element for splitting incident X-rays into a plurality of light beams, and a measuring instrument which applies the beams to different areas of a sample and causes the reflected beams to interact with one another, to detect them.
Ｘ線波面センサは、入射されるＸ線を複数の光束に分割する波面分割素子と、各光束を試料の異なる領域に照射し、それぞれの反射光を干渉させて検出する計測器とを備える。 - 特許庁 - In a retinal scan type image display device 10, a wavefront modulation element 78 modulates the wavefront curvature of light flux for displaying an image to be displayed, in each of the areas (e.g., each pixel) into which the image to be displayed is divided.
網膜走査型の画像表示装置１０において、波面変調素子７８により、表示すべき画像が分割された各領域ごとに（例えば、各画素ごとに）、その画像を表示するための光束の波面曲率を変調する。 - 特許庁 - Thereby, e.g. an optical pickup wavefront measuring device for highly accurately measuring wavefront aberration of the light emitted from the optical pickup can be constituted with a simple system and alignment in a horizontal direction during aberration measurement can be performed in a short period of time.
これにより、例えば、光ピックアップ出射光の波面収差測定を高精度に行う、光ピックアップ波面測定装置を簡素な系にて構成でき、収差測定時の水平方向の位置あわせを短時間で実現できる。 - 特許庁 - When a vertical synchronizing signal turns 'ON' in timing T0, laser light with wavefront curvature (a) is made incident on a vertical scanning system through a wavefront curvature modulating means and a horizontal scanning system until timing T2 to draw one image.
Ｔ０タイミングで垂直同期信号が「ＯＮ」となると、Ｔ２タイミングまでの間、波面曲率変調手段及び水平走査系を介して垂直走査系に波面曲率ａのレーザ光が入射され、１画像が描画される。 - 特許庁 - CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF SAME, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SAME, MICRODEVICE, MANUFACTURING METHOD OF SAME
波面収差測定装置の校正方法、波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁 - The convex lens 102 deflects the laser beam, the laser beam with a wavefront curvature identical to a beam emitted from an apparent light emitting point 125 transmits the beam splitter 101 to be emitted from the wavefront curvature modulating means 100.
凸レンズ１０２はレーザ光を屈折し、見かけ上の発光点１２５から発せられた光と同等の波面曲率となったレーザ光はビームスプリッタ１０１を透過し、波面曲率変調手段１００より出射される。 - 特許庁 - To provide a correction mirror for wavefront aberration having the mirror substrate with a structure which realizes low power consumption and causes no overflow of an adhesive when the substrate is adhered to a piezoelectric element, and to provide an optical disk device equipped with the above correction mirror for wavefront aberration.
低電力化が実現でき、圧電素子との接着時において接着剤のはみ出しのない構造のミラー基板を有する波面収差補正ミラー、及びその波面収差補正ミラーを備えた光ディスク装置を提供する。 - 特許庁 - To solve a problem concerning cost and evaluation time of the conventional technology by measuring the diffraction light wavefront from the entire surface of diffraction grating and applying arithmetic processing to the obtained wavefront information.
回折格子回折格子全面からの回折光波面を短時間に計測し、得られた波面情報に演算処理を施すことで、従来技術が持つコストと評価時間に関する課題を解決することを目的としている。 - 特許庁 - The wavefront aberration is obtained by simulation on the basis of the Zernike polynomials of surface shapes of first faces of the lenses, the parallel plane plate, and the glass plate, and a rotation angle of each optical element which minimizes the wavefront aberration is obtained.
このようにして求まった、各レンズや平行平板、ガラスの第１面の面形状のZernike多項式を基に、波面収差をシミュレーションによって求め、この波面収差を最小にする各光学素子の回転角を求める。 - 特許庁 - In the main unit 2, the first reader/writer side antenna is arranged so that it vertically extends (has a vertical polarized wavefront) in a longitudinal direction, and the second reader/writer antenna is arranged so the it horizontally extents (has a horizontal polarized wavefront) in a lateral direction.
本体２内において、第１のリーダライタ側アンテナは、縦方向に垂直に延びる（垂直な偏波面を持つ）ように配設され、第２のリーダライタ側アンテナは、横方向に水平に延びる（水平な偏波面を持つ）ように配設されている。 - 特許庁 - To provide a stable and compact high-output laser device capable of compensating for wavefront fluctuations on the order of a kilohertz or higher.
ｋＨｚオーダー以上の波面揺らぎに対しても補償可能な、安定で小型な高出力レーザ装置を得る。 - 特許庁 - To provide a hologram reproduced wavefront control method and apparatus for rapidly maximizing SNR (Signal to Noise Ratio) of a reproduced image.
再生画像のＳＮＲを速やかに最大化することが可能なホログラム再生波面制御方法および装置を得る。 - 特許庁 - Various birefringent elements, wave plates, and combinations thereof provide additional correction for residual retardance and wavefront aberrations.
様々な複屈折要素、波長板、及びそれらの組合せは、さらに残留リターダンス及び波面収差の補正を可能にする。 - 特許庁 - The wavefront aberration of the projection optical system PL under the condition where mounted on the exposure device is compensated based on the two difference.
露光装置に搭載された状態での投影光学系ＰＬの波面収差を２つの差分に基づいて補正する。 - 特許庁 - To measure the wavefront aberration of an optical system to be examined based on an interference fringe obtained using a diffraction grating.
回折格子を用いて得られる干渉縞に基づいて、被検光学系の波面収差を高精度に計測する。 - 特許庁 - To provide a measuring instrument highly accurately measuring wavefront aberration of an optical system to be measured by a simple configuration.
簡易な構成で高精度に被検光学系の波面収差を測定することができる測定装置を提供する。 - 特許庁 - The reflector gives substantially uniform amplitude to the refection wavefront 107, when entering the active array amplifier 108.
反射器は、反射波面１０７に、アクティブアレイアンプ１０８に入射するときに実質的に均一な振幅を与える。 - 特許庁 - To provide a measurement apparatus capable of highly precisely measuring the wavefront aberration of a target optical system (projection optical system).
被検光学系（投影光学系）の波面収差を高精度に測定することができる測定装置を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, by controlling the optical wavefront modulation function with respect to optical wavefront modulation states corresponding to various distances from subjects, the subjects in the wider range of distance are supported, and the imaging method is applicable to autofocusing of a subject at an uncertain distance.
更に、様々な被写体距離に応じた光波面変調状態に光波面変調機能のコントロールを行なうことによって、より広い距離範囲の被写体に対応すると共に、未知の距離の被写体に対するオートフォーカスにも応用する。 - 特許庁 - To obtain an optical head device including a phase correction element in which variation of a wavefront shape is performed continuously by decreasing the number of control circuits for supplying voltage to the phase correction element which changes a wavefront shape for out-going light from a light source.
光源からの出射光に対し、波面形状を変化させる位相補正素子に電圧を供給ための制御回路の数を少なくして、波面形状の変化を連続的に行える位相補正素子を備えた光ヘッド装置を得る。 - 特許庁 - To provide a method of measuring a wavefront error capable of faithfully projecting a pattern formed in a reticle with high resolution to improve a yield of a semiconductor device, and to provide a method of adjusting a wavefront error and a method of manufacturing a semiconductor device.
レチクルに形成されたパターンを高解像度かつ忠実に投影可能とし、半導体装置の歩留まりを向上させるための波面誤差計測方法、波面誤差調整方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The apparatus for measuring a wavefront aberration to measure the aberration of an optical system 12 to be measured comprises a reflecting optical system for reflecting a first luminous flux L12 passed through the system 12 to return the flux L12 to the system 12 and interferes the wavefront of the flux L12 passed through the system 12 after reflecting by the reflecting optical system with a reference wavefront.
被測定光学系１２を通過した第１光束Ｌ１２を反射して被測定光学系１２に戻す反射光学系を備え、該反射光学系での反射後に被測定光学系１２を通過した第２光束Ｌ１４の波面と参照波面とを干渉させることにより、被測定光学系１２の波面収差を測定する波面収差測定装置である。 - 特許庁 - To obtain a good beam spot which is small wavefront aberrations on a surface to be scanned with respect to plural beams at a low cost with simple constitution.
簡単な構成で且つ安価に、複数ビームについて被走査面上で波面収差が小さい良好なビームスポットを得る。 - 特許庁 - Light generated by a laser chamber 10 passes through the wavefront regulator 32 from the laser chamber 10 side, and reaches the output coupler 31.
レーザチャンバ１０で発生した光は、レーザチャンバ１０側から波面調整器３２を通過し、出力カプラ３１に達する。 - 特許庁 - As for a sensor part 2, the transmission and reception wavefront 22a and a peripheral edge surface 21b make roughly the same and the mic 22 is extrapolated with the rubber part 21.
センサ部２は送受波面２２ａと周縁面２１ｂが略面一をなしてマイク２２にゴム部２１が外挿されてなる。 - 特許庁 - To measure wavefront aberrations of a projection optical system, without reducing the performance of a stage for exposure having a wafer.
ウエハを搭載した露光用のステージの性能を低下させること無く、投影光学系の波面収差などの計測を実現する。 - 特許庁
- 特許庁
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