「wavefront」を含む例文一覧(590)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- To provide an optical head device equipped with a phase correction element capable of continuously varying the wavefront of light emitted from a light source in a plane.
光源からの出射光の波面変化を面内で連続的に行える位相補正素子を備えた光ヘッド装置を得る。 - 特許庁 - To measure a wavefront aberration with high precision on the basis of sharp interference fringes for the entire pupil plane of an optical system to be inspected.
被検光学系の瞳面の全体について鮮明な干渉縞に基づいて波面収差を高精度に計測する。 - 特許庁 - To provide a wavefront aberration compensating mirror capable of lessening influence by temperature to the flatness of a mirror, and an optical pick.
温度によるミラーの平面度への影響を少なくすることの可能な波面収差補正ミラーおよび光ピックアップを提供する。 - 特許庁 - The compensation optical system converts the wavefront in a direction which compensates the telecentricity of the object side of the image-forming optical system.
前記補償光学系は、前記結像光学系の物体側のテレセントリック性を補償する方向に前記波面を変換する。 - 特許庁 - To minimize the wavefront aberration generated under the influence of gravity, with respect to a variable optical element, an optical unit and an imaging device.
可変光学素子、光学ユニット及び撮像装置において重力の影響による波面収差を最小限に抑える。 - 特許庁 - To provide a measuring apparatus which measures the transmission wavefront of an optical system of which the exit pupil position is finite with high precision.
本発明は、射出瞳位置が有限な光学系の透過波面を高精度で測定する測定装置を提供する。 - 特許庁 - In order to maintain the focus within a lamella 50, air bubbles generated by the photodestruction are measured using a wavefront detector 16.
焦点を薄膜５０の内部に維持するために、光破壊により発生する気泡を波面検出器１６を用いて測定する。 - 特許庁 - Imaging and decoding of the wavefronts reverse effects of the wavefront coding and produce sounds substantially free of the aberrations.
波面の結像および復号化により波面符号化の影響が逆になり、実質的に収差のない音声が生成される。 - 特許庁 - A controller calculates fluctuation information of wavefront aberration of an optical system accompanying irradiation with an energy beam (step 222), and calculates adjustment data of the optical system based on the calculated fluctuation information of the wavefront aberration and information about a pattern (steps 208 to 216).
制御装置が、エネルギビームの照射に伴う光学系の波面収差の変動情報を算出（ステップ２２２）、その算出された波面収差の変動情報と、パターンに関する情報とに基づいて、光学系の調整データを算出する（ステップ２０８〜２１６）。 - 特許庁 - This method is used in the measurement of interference of the non-rotationally symmetric wavefront error on a sample and, in particular, in the interference absolute measurement.
本方法は、試料上の非回転対称波面誤差の干渉測定のため、特に干渉絶対測定のために使用される。 - 特許庁 - The mixed wavefront 129 passes through these polarizing elements 510a, 510b to generate two or more interference sections equipped with interference light.
混ぜ合わされた波面１２９は、偏光素子５１０ａ，５１０ｂを通過し、干渉光を備える２つ以上の干渉部分を発生する。 - 特許庁 - To provide an optical element which has excellent solvent resistance and excellent transmission wavefront aberration and to provide a method of manufacturing the optical element.
優れた耐溶剤性を有すると共に、優れた透過波面収差を備えた光学素子および光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide superior scanning performance by further simplifying an oblique incident type optical scanner and suppressing increase in wavefront aberrations, in an effective way.
斜入射方式の光走査装置をより簡素化し、波面収差の増大を有効に抑制して、良好な光走査を可能とする。 - 特許庁 - To efficiently and precisely measure wavefront information of an optical system to be inspected, based on interference fringes obtained by a diffraction grating.
回折格子を用いて得られる干渉縞に基づいて、被検光学系の波面情報を効率的に、かつ高精度に計測する。 - 特許庁 - And, the converted image located in the last image formation aspect is detected and is preferably analyzed in order to measure strain of the wavefront.
そして、最終結像面に位置するその変換イメージは検知され、好ましくは波面の歪みを測定するために解析される。 - 特許庁 - To suppress wavefront aberration of far-field patterns for a surface emitting laser comprising a step structure giving reflectance distribution for transverse mode control.
横モード制御のため反射率分布を与える段差構造を設けた面発光レーザにおいて、遠視野像の波面収差を抑制する。 - 特許庁 - A phase pattern is formed by adding a sub-phase pattern correcting specified wavefront distortion to a main phase pattern corresponding to the optical pattern.
光パターンに対応する主位相パターンに、所定の波面歪みを補正する副位相パターンを足し合わせて位相パターンを作成する。 - 特許庁 - An electrode pattern based on a mixed function between a third-order spherical aberration function and a spherical wavefront function is arranged on the electrode layer 143.
電極層１４３には、３次の球面収差関数と球面波関数の混合関数に基づく電極パターンが配される。 - 特許庁 - This wavefront splitting optical integrator (8) includes a first optical member (8a) and a second optical integrator (8b) arranged sequentially from the light incident side.
光の入射側から順に第１光学部材（８ａ）と第２光学部材（８ｂ）とを備えた波面分割型のオプティカルインテグレータ（８）。 - 特許庁 - To increase the illuminance of a peripheral part of a pupil area of a target optical system in measurement of wavefront aberrations of the target optical system.
被検光学系の波面収差の測定において該被検光学系の瞳領域における周辺部分の照度を増加させる。 - 特許庁 - To provide an optical article of no dispersion of wavefront aberration, capable of joining optical members having different linear expansion coefficients.
線膨張係数の異なる光学部材同士を接合することができるとともに波面収差のバラツキのない光学物品を提供する。 - 特許庁 - To provide a high-performance imaging optical system which is suitable for use in an exposure device using, for example, EUV light, where the wavefront aberration is satisfactorily corrected.
例えばＥＵＶ光を用いる露光装置に適用可能で、波面収差が良好に補正された高性能な結像光学系。 - 特許庁 - A deformable mirror 42 for correcting the wavefront shape of incident second parallel light fluxes (correcting the wavefront information of the reference aspherical lens 27) is provided between a beam splitter 13 and a high-NA spherical reference lens 25, and the corrected value is controlled by a control operation part 51.
また、ビームスプリッタ１３と高ＮＡ球面基準レンズ２５との間に、入射した第２の平行光束の波面形状を補正（参照非球面レンズ２７の波面情報を補正）するデフォーマブルミラー４２を備えており、この補正値は制御演算部５１によって制御される。 - 特許庁 - To obtain a wavefront coding image forming apparatus achieving further simplification of image processing software for obtaining a final image from a primary image used in a wavefront coding imaging system, thereby reducing the required capacity of a storage medium, and also shortening processing time.
波面コーディング画像化システムに用いる一次画像から最終画像を得るための画像処理ソフトウェアをより簡便にでき、これにより必要とされる記憶媒体の容量を低減すると共に、処理時間を短縮することが可能な波面コーディング画像形成装置を得る。 - 特許庁 - The display member displays wavefront aberrations measured by the wavefront aberration measuring member for each higher-order aberration including arrow aberration, coma aberration, spherical aberration, astigmatism and tetra-foil respectively, and the affection of the higher-order aberration element calculated by the simulation member.
表示部は、波面収差測定部で測定された波面収差を、矢状収差、コマ収差、球面収差、非点収差、テトラフォイル等のいずれか複数を含む高次収差ごとに個別に表示し、シミュレーション部で求められた、高次収差成分による影響度合いを表示する。 - 特許庁 - To provide a laser condensing optical system which scans a condensing position in an optical axis direction by using a wavefront conversion element capable of varying the power without using a mechanical mechanism and lessens the degradation in condensing performance accompanying the scanning in the optical axis direction by offsetting the aberrations generated at this time with the wavefront conversion element.
集光位置を光軸方向に走査するのに機械的機構を用いず、パワーを可変にできる波面変換素子を用いて行い、その際発生する収差を波面変換素子で相殺し、光軸方向走査に伴う集光性能の低下を低減させるレーザ集光光学系。 - 特許庁 - An illumination optical system which lights up a surface (M; W) to be irradiated with light from a light source (1) includes: an optical integrator (7) having a plurality of wavefront division elements arranged in two dimensions and in parallel; and a condensing optical system (8) which condenses luminous flux passed through the wavefront division elements.
光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、二次元的に並列配置された複数の波面分割要素を有するオプティカルインテグレータ（７）と、波面分割要素を経た光束を集光する集光光学系（８）とを備えている。 - 特許庁 - These high density phase shift array elements 410, 420 contain two or more patterns of different phase shift section respectively applied to primary section of the light polarized to each mixed wavefront 129, and transmit the mixed wavefront 129 to the polarizing elements 510a, 510b.
高密度移相アレイ素子４１０，４２０は、混ぜ合わされた波面１２９のそれぞれに偏光された光の第１の部分にそれぞれ適用される２つ以上の異なる移相部分のパターンを含み、混ぜ合わされた波面１２９を偏光素子５１０ａ，５１０ｂに伝送する。 - 特許庁 - A scanner 4 comprises: a scanning mechanism 9 scanning the illumination light from a light source 2 in the direction orthogonal to its optical axis; and a wavefront modulation section 8 fixed to the scanning mechanism 9 and emitting the illumination light entering from the light source 2 after modulating the wavefront of the illumination light.
光源２からの照明光を、その光軸に交差する方向に走査する走査機構９と、該走査機構９に固定され、光源２から入射された照明光の波面を変調して射出する波面変調部８とを備えるスキャナ４を提供する。 - 特許庁 - This optical integrator system is provided with a first optical integrator (110) having a plurality of first wavefront division elements (111) two-dimensionally disposed side by side, and a second optical integrator system (120) having a plurality of second wavefront division elements (121) two-dimensionally disposed side by side.
本発明のオプティカルインテグレータ系は、二次元的に並列配置された複数の第１波面分割要素（１１１）を有する第１オプティカルインテグレータ（１１０）と、二次元的に並列配置された複数の第２波面分割要素（１２１）を有する第２オプティカルインテグレータ（１２０）とを備えている。 - 特許庁 - To provide an optical integrator which can keep small superposition errors of illumination fields formed on an illumination target surface by a plurality of light beams obtained by wavefront division.
波面分割された複数の光束が被照射面に形成する照野の重なり誤差を小さく抑えることのできるオプティカルインテグレータ。 - 特許庁 - The image formation degree of the zero-order light is lowered with the wavefront distortion imparted to the read out light, and luminance of the zero-order light is lowered on the output surface.
読出し光に与えられる波面歪みによって０次光の結像度が低下し、０次光の輝度が出力面上で低減される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a wavefront aberration correction mirror for fixing an adhesive layer thickness and forming an adhesive layer thin.
接着層厚みを一定にすると共に、接着層を薄く形成することの可能な波面収差補正ミラーの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an objective lens and an optical pickup optical system in which a good wavefront aberration property is obtained even during lens shift due to deviation of an optical axis.
光軸ずれによるレンズシフト時においても、良好な波面収差特性が得られる対物レンズ、光ピックアップ光学系を提供する。 - 特許庁 - To provide an observation apparatus capable of observing or measuring an object in a wide range by employing a wavefront aberration adapting technique.
波面収差補償技術を採用して広範囲の対象物について観察または計測をすることができる観察装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, the DBF receiver 30 aligns unique phases of the transmission/reception modules 21-1 to 21-N to perform the wavefront adjustment.
これにより、ＤＢＦ受信器３０は、送受信モジュール２１−１〜２１−Ｎの固有位相を揃え、波面調整を行うことが可能となる。 - 特許庁 - The rubber part 21 is made of an elastic material and is formed into a cylindrical shape of which the front end surface is opened, and the mic 22 possesses a transmission and reception wavefront 22a in the front end surface.
ゴム部２１は弾性材で前端部が開口する円筒形に形成され、マイク２２は前端面に送受波面２２ａを有する。 - 特許庁 - To compensate aberrations of an optical device including an observation device for ocular fundus by using a deformable mirror offsetting wavefront distortion of a luminous flux of a reflection face.
反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーを用いて眼底観察装置を含む光学装置収差を補償する。 - 特許庁 - The laser light irradiating device 10 is supported on the support device 20 to measure wavefront aberration A1 of laser light from the laser light irradiating device 10.
支持装置２０にレーザ光照射装置１０を支持させて、レーザ光照射装置１０からのレーザ光の波面収差Ａ１を測定する。 - 特許庁 - To provide an optical system assembling/adjusting method for accurately, simply, and inexpensively performing wavefront aberration adjustment on an optical system.
光学系の波面収差の調整を正確、簡易かつ安価に行うことを可能とする光学系の組立て、調整方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image display device capable of natural stereoscopic representation even when a modulation frequency of wavefront curvature is slower than a video rate.
波面曲率の変調周波数がビデオレートより遅い状態でも、自然な立体視の表現が可能な画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - The optical wavefront control pattern generating apparatus 1 is provided with a reproduced image detecting part 40 for detecting a reproduced image displayed on a reproduce image display part 30, and an optimizing part 50 which evaluates the reproduced image detected by the reproduced image detecting part 40 and generates an optimum optical wavefront control pattern by performing a changing process to an optical wavefront control pattern so as to have the evaluation results satisfy prescribed conditions.
本発明に係る光波面制御パターン生成装置１は、再生像表示部３０に表示された再生像を検知する再生像検知部４０と、再生像検知部４０によって検知された再生像についての評価を行い、評価結果が所定条件を満たすように光波面制御パターンに対して変更処理を施すことによって、最適な光波面制御パターンを生成する最適化部５０とを具備する。 - 特許庁 - To provide a wavefront aberration correction mirror in which a sufficient displacement is available even in a low voltage driving, the structure thereof is hardly broken, and the yield of mass production is high.
低電圧駆動においても十分な変位が得られ、破損等のしにくい構造とし量産歩留まりが高い波面収差補正ミラーを提供する。 - 特許庁 - In a luminous flux generating means 10 of the wavefront curvature modulating device 1, the luminous flux emitted by the light source 11 is made incident on a luminous flux A generation part 2.
波面曲率変調装置１の光束発生手段１０では、光源１１より発生された光束が光束Ａ発生部２に入射される。 - 特許庁 - To provide a light path synthesizing apparatus capable of contributing to downsizing the apparatus and enhancing the wavefront quality of a light beam, and provide an illumination apparatus and a projection type image display device.
小型化と光束の波面品質の向上に寄与できる光路合成装置、照明装置及び投影型画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - The measurement flow of this apparatus aligns an ophthalmological measurement device (S101), and an arithmetic part makes a wavefront measurement part carry out initial setting of a measurement interval, a measurement time, etc. of the device (S103).
眼科測定装置をアライメントし（Ｓ１０１）、演算部は、波面測定部により装置の測定間隔、測定時間等の初期設定を行う（Ｓ１０３）。 - 特許庁 - The absorption wave-making device is used, which comprises a wave-making board 9, drive sections 4-8, a detection section 15, a wavefront variation detection section 11, and a control section 14.
造波体９と駆動部４〜８と検出部１５と波面変動検出部１１と制御部１４とを備える吸収造波装置を用いる。 - 特許庁 - The second wavefront division elements are also configured so that a group of beams obliquely incident into an optical axis center of the incident face may be emitted in parallel to the optical axis.
第２波面分割要素も、入射面の光軸中心に斜め入射した光線群が光軸と平行に射出されるように構成されている。 - 特許庁 - To provide an optical subassembly in which an optical module equipped with a ball lens is used, while a wavefront aberration is suppressed and an excellent optical characteristic is obtained.
ボールレンズが取付けられた光モジュールを用いたものであって、波面収差を抑えて良好な光学特性が得られる光サブアセンブリを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical system capable of suitably maintaining a wavefront aberration of an optical element arranged in a lens barrel, an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.
鏡筒内に配置される光学素子の波面収差を好適に維持できる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
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