「wavefront」を含む例文一覧(590)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- MANUFACTURING METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION CORRECTION MIRROR, AND OPTICAL PICKUP
波面収差補正ミラーの製造方法および光ピックアップ - 特許庁 - To provide an optical wavefront display device and an optical wavefront display method which can reproduce a stereoscopic image by ideal optical wavefront reproduction even when using a display device having a coarse pixel pitch.
画素ピッチが粗いディスプレイを用いても、理想的な光の波面再生による立体映像再生が可能な光波面表示装置及び光波面表示方法を提供する。 - 特許庁 - A wavefront measuring part 10 projects the luminous flux for measuring the wavefront to the eyeground of the eye to be examined and receives the reflected luminous flux from the eyeground of the eye to be examined through the wavefront correction element 71.
波面測定部１０は、波面測定のための光束を被検眼眼底に投影し、被検眼眼底からの反射光束を波面補正素子７１を介して受光する。 - 特許庁 - Then, each of a plurality of intensity divided lights is disposed in accordance with each individual of the plurality of lights, wavefront divided by respective wavefront dividing optical systems 94_1, 94_2 having wavefront division numbers which differ from one to another (wavefront division pitch), and a plurality of optical images are formed for every wavefront dividing optical system 94_1, 94_2.
引き続き、強度分割された複数の光それぞれが、それらの複数の光それぞれに応じて配置され、互いに異なる波面分割数（波面分割ピッチ）を有する波面分割光学系９４_1，９４_2それぞれにより波面分割され、波面分割光学系９４_1，９４_2ごとに複数の光の像が形成される。 - 特許庁 - The transmission and reception wavefront 22a is applied while a state is kept in which the peripheral edge surface 21b is not roughly the same as the transmission and reception wavefront 22a.
周縁面２１ｂと送受波面２２ａが略面一でない状態に保ちつつ送受波面２２ａを塗装する。 - 特許庁 - The wavefront conversions are performed a plurality of times at a prescribed position of the light spot and the image of the preparation is obtained in accordance with the wavefront conversions.
光スポットの所定の位置において、波面変換を複数回行い波面変換に併せて試料の画像を得る。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
波面収差測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁 - By detecting a wavefront shape of the diffracted light, an optimum wavefront of the reference light for reproduction is detected in advance.
この回折光の波面形状を検出することで、再生するのに最適な参照光の波面を事前に検出する。 - 特許庁 - To compensate large wavefront aberration by facilitating manufacture.
製造容易にして、大きな波面収差を補正できるようにする。 - 特許庁 - TRANSPARENT WAVEFRONT MEASURING APPARATUS, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
透過波面計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁 - A phase correction element is used to adjust a wavefront of the laser beam.
位相補正素子を用いてレーザ光の波面を調整する。 - 特許庁 - The wavefront curvature modulating means is so driven from the T2 to T3 so that the modulated laser light has wavefront curvature (b).
Ｔ２〜Ｔ３タイミングの間、変調するレーザ光の波面曲率がｂとなるように波面曲率変調手段が駆動される。 - 特許庁 - WAVEFRONT MEASURING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME
波面測定装置及びそれを搭載した半導体露光装置 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁 - In the wavefront aberration inspection apparatus, a position in the horizontal direction of the optical pickup is adjusted to minimize the tilt component of a phase wavefront of light emitted from the optical pickup detected by the wavefront aberration detection means, to measure the wavefront aberration of the light emitted from the optical pickup.
波面収差検出手段により検出された、光ピックアップ出射光の位相波面のチルト成分を最小とするように、光ピックアップの水平方向の位置調整を行い、光ピックアップ出射光の波面収差を測定する、波面収差検査装置。 - 特許庁 - To enable a space radiation high-power amplifier to have a reflector with at least one shape for reflecting a first wavefront and an active array amplifier for amplifying a reflection wavefront for generating a high-power plane wavefront.
空間放射高出力アンプは、最初の波面を反射する１つ以上の形状を有する反射器、反射波面を増幅するアクティブアレイアンプを有し、高出力平面波面を発生する。 - 特許庁 - To provide an operation amount control method of a wavefront controller, achieving reduction in time required for optimizing the wavefront of reference light during reproduction and improvement in wavefront accuracy, and to provide a hologram reproducing device.
再生時参照光の波面を最適化するのに要する時間の短縮化と波面精度の向上を達成し得る波面制御器の動作量制御方法およびホログラム再生装置を得る。 - 特許庁 - The amount of distortion in the wavefront curvature caused by nonlinearlity of a liquid crystal is preliminarily calculated in real time by deriving secondary differential of the phase wavefront curvature so as to suppress distortion in the phase wavefront curvature.
位相波面曲率歪みを抑制するために、位相波面曲率の２次微分の導出により、液晶の非線形性によって生ずる波面曲率歪の量を事前にリアルタイムで算出する。 - 特許庁 - ADAPTIVE WAVEFRONT TYPE ADJUSTING SYSTEM AND METHOD FOR OPHTHALMOLOGIC OPERATION
眼科手術用の適応型波面式調節システムおよび方法 - 特許庁 - An optical wavefront modulation element 10a is inserted into the optical system 10.
光学系１０は、光波面変調素子１０ａが挿入される。 - 特許庁 - To provide a mask, a wavefront aberration measurement method and a device therefor, capable of accurately measuring wavefront aberration of an optical system to be inspected.
被検光学系の波面収差を高精度に測定することができるマスク、波面収差測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, AND EXPOSURE DEVICE
波面収差測定装置、露光装置及び波面収差測定方法 - 特許庁 - To accurately relay, irrespective of scanning of illumination light, a desired wavefront applied by a wavefront modulation element, and to miniaturize a device.
照明光の走査に拘わらず、波面変調素子によって付与した所望の波面を精度よくリレーでき、かつ、装置の小型化を図る。 - 特許庁 - WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, METHOD OF CALIBRATING THE SAME, AND ALIGNER
波面収差計測装置、該装置の校正方法、及び露光装置 - 特許庁 - To provide a wavefront sensor which conducts measurement always with high precision by evading large defocusing of a light spot irrelevantly to a wavefront shape.
波面形状にかかわらず光点の大きなボケを回避して、測定を常に高精度に行うことのできる波面センサを提供する。 - 特許庁 - The unit for uniformization includes a wavefront dividing device (1a) for wavefront-dividing a light flux incident from the laser source into a plurality of light fluxes, and relay optical system (1b) for superimposing the plurality of light fluxes, which are wavefront-divided by the wavefront dividing device, at the light intake of the exposure apparatus body.
均一化ユニットは、レーザ光源から入射した光束を複数の光束に波面分割する波面分割素子（１ａ）と、波面分割素子により波面分割された複数の光束を露光装置本体の光取入口において重畳させるリレー光学系（１ｂ）とを備えている。 - 特許庁 - In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled.
波面検出部６０による光の波面歪みの検出と、この検出結果に基づく制御部７０による位相パターンの調整と、波面変調部３０による位相パターンの呈示と、を含むループ処理において、波面収差補償を行う為の補償用位相パターンはフィードバック制御される。 - 特許庁 - To provide a wavefront aberration measuring apparatus and a wavefront aberration measuring method which can measure the wavefront aberration of an optical system under test with high precision by checking the state of the interference fringes of photographed image data before performing image processing for calculating the wavefront aberration of the optical system under test.
被検光学系の波面収差の算出のための画像処理を実施する前に、撮像した画像データの干渉縞の状態をチェックすることによって、高精度に被検光学系の波面収差を測定することができる波面収差測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - The first wavefront 103 is a substantially spherical wavefront, the reflector having a shape corrects each amplitude taper of the first wavefront 103, and a substantially uniform amplitude component is given to the reflection wavefront 107, when the wave enters the active array amplifier 108.
最初の波面１０３は、実質的に球面波面であり、形状を有する反射器は上記最初の波面１０３のあらゆる振幅テーパーを補正して、上記反射波面１０７に、上記アクティブアレイアンプ１０８に入射するときに実質的に均一な振幅成分を与える。 - 特許庁 - Then by using the first wavefront information, the position of the central axis of the intentionally generated rotationally symmetric wavefront deformation, i.e., the position of the central axis of the wavefront of the light from the optical system to be tested is accurately found (step 119).
そして、第１波面情報を使用して、意図的に発生させた回転対称な波面変形の中心軸位置、すなわち、被検光学系からの光の波面の中心軸位置を精度良く求める（ステップ１１９）。 - 特許庁 - To provide an apparatus for measuring refractive power of an eye using a wavefront aberration method.
波面収差法を用いた眼屈折力測定装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a wavefront-aberration-measuring device capable of measuring wavefront aberration of a to-be-tested optical system with high precision, and to provide an exposure apparatus equipped with the same.
被検光学系の波面収差を高精度に測定可能な波面収差測定装置及びこれを備えた露光装置を提供する。 - 特許庁 - The wavefront splitting element (3) wavefront-splits a light flux fed from the lighting optical system (2) into a plurality of light fluxes, and enables the light fluxes that are subjected to wavefront splitting to collect on the corresponding phase-shifting parts or their vicinities.
波面分割素子は、照明光学系から供給された光束を複数の光束に波面分割し且つ波面分割された各光束を対応する位相シフト部またはその近傍へ集光する。 - 特許庁 - To provide a light beam deflector in which a wavefront aberration is properly corrected corresponding to the direction of the generation of a random wavefront aberration and the quantity of the random wavefront aberration generated due to a factor arising in the manufacturing process of a deflection member.
偏向部材の製作時の要因で発生するランダムな波面収差の発生方向とランダムな波面収差の量とに対応して、波面収差を適正に補正できる光ビーム偏向器を提供する。 - 特許庁 - To measure a wavefront aberration of a tested optical system, without being influenced by aberrations caused by a wavefront splitting element, while using it.
波面分割素子を用いながらもその波面分割素子に起因した誤差の影響を受けずに被検光学系の波面収差を測定する。 - 特許庁 - Reading light (26) is generated by imparting the wavefront distortion to a plane wave.
平面波に波面歪みを与えて読出し光（２６）を生成する。 - 特許庁 - To reduce wavefront distortion caused in the reflection by cube corner reflectors.
キューブコーナーリフレクタの反射において発生する波面ひずみを低減する。 - 特許庁 - To efficiently manufacture a projection optical system having wavefront aberration corrected.
波面収差が補正された投影光学系を効率よく製造する。 - 特許庁 - Light from the optical system to be tested (projection optical system) in which rotationally symmetric wavefront deformation is intentionally generated is wavefront divided for forming several images and the images are picked up for finding first wavefront information (steps 113-115).
意図的に回転対称な波面変形を発生させた被検光学系（投影光学系）からの光を、波面分割して複数の像を形成して撮像し、第１波面情報を求める（ステップ１１３〜１１５）。 - 特許庁 - A display member has a selection mode to select higher-order aberration to be displayed from the wavefront aberration measured by the wavefront aberration measuring member.
表示部は、波面収差測定部で測定された波面収差に基づいて、表示させる高次収差を選択する選択モードを有する。 - 特許庁 - To capture a favorable fundus image with corrected wavefront aberration.
波面収差が補正された状態の良好な眼底画像を撮影する。 - 特許庁 - In this case, the wavefront aberration D2 on design relating to the CD is made larger than the wavefront aberration D1 on the design relating to the DVD.
ここで、ＤＶＤに関する設計上の波面収差Ｄ１よりもＣＤに関する設計上の波面収差Ｄ２の方を大きくした。 - 特許庁 - To improve measurement accuracy of a wavefront by reducing measurement errors, due to the positioning precision of the relative movement of a surface to be measured and the reference surface, in a wavefront measurement method and a wavefront measuring device.
波面測定方法および装置において、被測定面および参照面の相対移動の位置決め精度による測定誤差を低減して、波面測定の測定精度を向上することができるようにする。 - 特許庁 - SYSTEM, DEVICE, AND METHOD FOR OPTICAL WAVEFRONT CONTROL
光波面制御システム、光波面制御装置および光波面制御方法 - 特許庁 - Blurred spots and/or double spots represent diffraction zones of the wavefront.
ぼやけたスポット及び／又は２重スポットが波面の回折ゾーンを表わす。 - 特許庁 - To perform wavefront correction even when a position of a subject eye shifts corresponding thereto.
被検眼の位置がシフトしても、それに対応して波面補正を行う。 - 特許庁 - RETICLE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ALIGNER
レチクル、波面収差測定機、及び半導体露光装置の製造方法 - 特許庁 - SPATIAL LIGHT MODULATOR AS SOURCE MODULE TO DUV WAVEFRONT SENSOR
ＤＵＶ波面センサに対するソースモジュールとしての空間光変調器 - 特許庁 - To provide a method for reducing wavefront aberration in a lithography process.
リグラフィプロセスにおいて、波面収差を低減する方法を提供する。 - 特許庁 - A new wavefront is generated by the superposition of all of the secondary waves.
新しい波面は、すべての二次波の重ね合わせによって作られる。 - 科学技術論文動詞集
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