trifluoromethaneとは 意味・読み方・使い方

The protective gas composition for preventing combustion of molten magnesium/magnesium alloy comprises trifluoromethane iodide (CF_3I), which is a fluorine-containing organic compound, and a carrier gas.例文帳に追加

ヨウ化トリフルオロメタン（ＣＦ_３Ｉ）とキャリアガスとの組成物。 - 特許庁

This method for producing the trifluoromethane sulfonyl fluoride (CF_3SO_2F) is characterized by reacting trifluoromethane sulfonic acid anhydride ((CF_3SO_2)_2O) with a metal fluoride (MF).例文帳に追加

トリフルオロメタンスルホン酸無水物（（ＣＦ_3ＳＯ_2）_2Ｏ）に、金属フッ化物（ＭＦ）を反応させることを特徴とする、トリフルオロメタンスルホニルフロリド（ＣＦ_3ＳＯ_2Ｆ）の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing trifluoromethane sulfonyl fluoride, by which the trifluoromethane sulfonyl fluoride can efficiently profitably be produced in high selectivity and in high purity in shorter processes than those of conventional production methods.例文帳に追加

従来の製造法に比べて短工程で、高収率かつ高純度でトリフルオロメタンスルホニルフロリドを効率良く製造できる工業的に有利な製造方法を提供する。 - 特許庁

The fouorinated methane is selected from tetrafluoromethane, trifluoromethane, difluoromethane, and fluoromethane.例文帳に追加

更にフッ素化メタンがテトラフルオロメタン、トリフルオロメタン、ジフルオロメタン、フルオロメタンの中から選ばれる半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The polarizer protective film contains a bis(trifluoromethane sulfonyl)imide anion on a surface thereof; and the polarizing plate uses this protective film.例文帳に追加

ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオンを表面に含有する偏光子保護フィルムおよびこれを用いた偏光板である。 - 特許庁

Then, by reacting phosphorus trichloride and chlorine with the trifluoromethane sulfonic acid, trifluoromethanesulfonyl chloride (CF_3SO_2Cl) is obtained.例文帳に追加

次いでトリフルオロメタンスルホン酸に三塩化リン及び塩素を反応させ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド(ＣＦ_3ＳＯ_2Ｃｌ）を得る。 - 特許庁

Trifluoromethane sulfonic acid is obtained by reacting a metal hydroxide with trifluoromethanesulfonyl fluoride and then treating with an acid.例文帳に追加

トリフルオロメタンスルホニルフルオリドに、金属水酸化物を反応させた後、続いて酸で処理してトリフルオロメタンスルホン酸を得る。 - 特許庁

This azeotropic composition or azeotropic like composition consists of the monofluoromethane and trifluoromethane, wherein 15 to 85 mol% monofluoromethane is contained.例文帳に追加

モノフルオロメタンとトリフルオロメタンからなる共沸組成物または共沸様組成物であって、モノフルオロメタンを１５〜８５mol％含む。 - 特許庁