ぐしちゃあの英語

粒子ビームを生成し、アパーチャアレイ手段（２０３）およびブランキング手段（２０２）を用いて粒子ビームを多数のビームを生成するパターン描画手段を通して方向づけ、残りの全部が全体としてパターン化された粒子ビーム（ｐｂ）を形成する。例文帳に追加

Particle beam is created, the particle beam is directed through pattern drawing means that creates a number of beams using aperture array means 203 and blanking means 202, and all of the remainings form a patternized particle beam pb as a whole. - 特許庁

アパーチャを透過するビームの形状および相対的配置を画定する同一の形状の複数のアパーチャを有するアパーチャアレイと、アパーチャを透過し、それらによって画定された選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキング手段とを備える。例文帳に追加

The exposure device has: an aperture array with multiple apertures of a same shape which define shapes and relative arrangement of beamls passing through the apertures; and a blanking means for switching off the travel of beamlets that have passed through the apertures to be defined and selected by them. - 特許庁