ほんまち１７ちょうめの英語

本発明に係るプラズマ処理装置１０は、プラズマ処理室１１と、プラズマ処理室１１と連通するプラズマ生成室１２と、プラズマを生成するための高周波アンテナ１６と、プラズマ中の電子エネルギーを制御するためのプラズマ制御板１７と、プラズマ制御板１７の位置を調整するための操作棒１７１及び移動機構１７２と、を備える。例文帳に追加

A plasma processing apparatus 10 comprises: a plasma processing chamber 11; a plasma generating chamber 12 connected to the plasma processing chamber 11; a high-frequency antenna 16 for generating plasma; a plasma controlling plate 17 for controlling the electronic energy in the plasma; and an operation bar 171 and a moving mechanism 172 for adjusting the position of the plasma controlling plate 17. - 特許庁

本隙間調整機構１を備えた多板クラッチ４では、リレーズアーム１４ａを回転させると、これに伴なってリレーズＡＹ１４の側板１４ｂが図中の矢印方向に移動するため、プッシャー１５を介してリフタープレート１７がスプリング１９に抗して同方向に移動する。例文帳に追加

In the multiple disk clutch 4 with the gap adjustment mechanism 1, a side plate 14b of the release AY14 moves to an arrow direction shown in Figure when rotating a release arm 14a, so that a lifter plate 17 moves to the same direction against a spring 19 through the pusher 15. - 特許庁