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みぞ絶縁の英語
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英訳・英語 groove insulation
「みぞ絶縁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1621件
溝は、第1絶縁膜および第2絶縁膜によって埋め込まれている。例文帳に追加
The groove is filled with the first insulating film and the second insulating film. - 特許庁
なお、絶縁膜が有する溝は、絶縁膜を貫通させて設けてもよいし、絶縁膜を貫通させずに絶縁膜に凹部を形成して設けてもよい。例文帳に追加
In addition, the grooves formed in the insulating film may be provided to penetrate the insulating film, or may be provided to form recesses on the insulating film without penetrating the insulating film. - 特許庁
層間絶縁膜が配線用溝の側面および底面を包む第1種の絶縁層15と、第1種の絶縁層よりも下に配置され、第1種の絶縁層とエッチング特性の異なる第2種の絶縁層56とを含む。例文帳に追加
The interlayer dielectric includes a first-class insulating layer 15 wrapping a side face and a bottom face of the wiring groove, and a second-class insulating layer 56 arranged under the first-class insulating layer and having etching characteristics different from that of the first-class insulating layer. - 特許庁
第1絶縁膜と異なる材料からなる第3絶縁膜(4)または空隙(31)は、第1絶縁膜と溝の側面との間に形成され、少なくとも第1絶縁膜と第2絶縁膜との界面に達する。例文帳に追加
A third insulating film (4) composed of a material different from those of the first insulating film or an air gap (31) is formed between the first insulating film and the side of the groove, and reaches at least the interface between the first insulating film and the second insulating film. - 特許庁
基板の上方に絶縁膜44を形成した後、絶縁膜44に溝44aを形成する。例文帳に追加
After an insulating film 44 is formed on a substrate, a groove 44a is formed in the insulating film 44. - 特許庁
溝3の中は冷却ユニット等との電気的な絶縁を図るため、絶縁材料5で充填する。例文帳に追加
The groove 3 is filled with an insulating material 5 for realizing electrical insulation with a cooling unit or the like. - 特許庁
第2絶縁膜4bは、溝の開口を塞ぐように第1絶縁膜上に形成される。例文帳に追加
A 2nd insulating film 4b is formed on the 1st insulating film to close the opening of the groove. - 特許庁
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「みぞ絶縁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1621件
第1層間絶縁膜13の上面に溝配線部絶縁膜15を形成する。例文帳に追加
A groove wiring portion insulation film 15 is formed on the top surface of the first interlayer insulation film 13. - 特許庁
支持基板上には更に、絶縁膜と、この絶縁膜を分断する分離溝が設けられている。例文帳に追加
An insulating film and a dividing groove that divides the insulating film are further provided on the support substrate. - 特許庁
SiおよびOを含む絶縁材料からなる第2絶縁層6に、第2溝11が形成される。例文帳に追加
A second groove 11 is formed on a second insulating layer 6 composed of an insulating material containing Si and O. - 特許庁
絶縁膜7は絶縁膜6上に設けられており、溝4を充填している。例文帳に追加
The insulating film 7 is formed on the insulating film 6 and the groove 4 is filled with the insulating film 7. - 特許庁
絶縁性基板4は、屈曲部を有する溝部を含む。例文帳に追加
An insulative substrate 4 includes a groove having a bend portion. - 特許庁
絶縁膜3に第1層配線用溝7を形成する。例文帳に追加
First interlayer wiring grooves 7 are formed in the insulation film 3. - 特許庁
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groove insulation
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