アゾメタンの英語

取扱い困難なトリフルオロメチルジアゾメタンを原料として使用することなく、取り扱い容易な原料を使用してトリフルオロメチルシクロプロパン化合物を製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for producing a trifluoromethylcyclopropane compound by using a readily handleable raw material without using trifluoromethyldiazomethane which is hard to handle as a raw material. - 特許庁

好ましい光分解性ｐＨ調整剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾメタン系化合物、トリアジン系化合物、第４級アンモニウム塩、Ｏ−アシルオキシムからなる群から選択された光酸発生剤又は光塩基発生剤が使用される。例文帳に追加

As the preferred photodegradable pH adjustor, a photoacid-generating agent or a photobase-generating agent selected from the group consisting of an iodonium salt, a sulfonium salt, a diazomethane compound, a triazine compound, a quaternary ammonium salt and an o-acyloxime is used. - 特許庁

酸発生剤と、ポリビニルフェノール誘導体でアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂とを含有し、上記酸発生剤がジアリールヨードニュウム塩型酸発生剤と、スルホニルオキシイミドおよびジスルホニルジアゾメタンより選ばれる少なくとも１つの酸発生剤とを含む混合酸発生剤である。例文帳に追加

The positive type radiation-sensitive resin composition comprises an acid generator and an acid-dissociable group-containing resin which is a polyvinyl phenol derivative and is insoluble or scarcely soluble in alkali but becomes alkali-soluble by the action of an acid, wherein the acid generator is a mixed acid generator containing a diaryl iodonium salt type acid generator and at least one acid generator selected form sulfonyloxyimide and disulfonyldiazomethane. - 特許庁

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。例文帳に追加

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts. - 特許庁

少なくとも（Ａ１）スルホニウムのスルホン酸塩化合物と（Ａ２）Ｎ−ヒドロキシイミドのスルホネート化合物又はジスルホニルジアゾメタン化合物を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains: a compound which contains at least (A1) a sulfonate compound of a sulfonium and (A2) a sulfonate compound or a disulfonyl diazomethane compound of N- hydroxyimide and generates an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin which contains repeating units each having a specified lactone structure and is decomposed by the action of the acid to have its alkali solubility increased. - 特許庁