アントリル基の英語

［式中、Ｘ、Ｚの少なくとも一方はナフチル基、アントリル基、ピレニル基から選ばれる基であり、Ｙはジイソシアネ−ト化合物から導かれる２価の有機残基であり、ＯＲ、ＯＲ’、ＯＲ”は炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ａ、ｂ、ｄは１〜５００の整数であり、ｃは１以上の整数である。例文帳に追加

An example of the compound is a compound obtained by reacting a polyethylene glycol and a polyether monool being a p-naphthol/ethylene oxide adduct with tolylene diisocyanate. - 特許庁

（式中、Ａｒは置換または未置換のアントリル基を表し、Ｚ_1、Ｚ_2およびＺ_3は水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアミノ基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアラルキル基を表す。）例文帳に追加

(In the formula, Ar expresses substituted or non-substituted anthryl group, Z_1, Z_2, and Z_3 express hydrogen atom, halogen atom, straight-chain, branched, or ring alkyl group, substituted or non-substituted amino group, substituted or non-substituted allyl group, or substituted or non-substituted aralkyl group.). - 特許庁

（式中、Ａｒは置換または未置換のアントリル基を表し、Ｚ_1、Ｚ_2およびＺ_3は水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアラルキル基を表す。）例文帳に追加

(In formula (1), Ar is a (substituted) anthryl group, Z_1, Z_2 and Z_3 are each H, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a (substituted) aryl group or a (substituted) aralkyl group). - 特許庁

この際、Ｒ^１またはＲ^２のいずれか一方は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換フェニル基、置換もしくは非置換ナフチル基、または置換もしくは非置換アントリル基であり、残りの一方は、炭素原子数１〜４個のアルキル基である。例文帳に追加

Wherein, any one of R^1 and R^2 is each independently a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, or a substituted or unsubstituted anthryl group, and the remaining one is a 1-4C alkyl group. - 特許庁

［式中、Ａｒ_1 〜Ａｒ_4 はそれぞれ独立に、置換または未置換のアリール基を表し、さらにＡｒ_1 とＡｒ_2 およびＡｒ_3 とＡｒ_4 は結合している窒素原子と共に、置換または未置換の含窒素複素環を形成してもよいを表す（ただし、Ａｒ_1 〜Ａｒ_4 の少なくとも１個は置換または未置換のアントリル基を表す）］例文帳に追加

The organic electroluminescent element is obtained by sandwiching at least one layer containing at least one kind of the compound represented by general formula (1) between a pair of electrodes. - 特許庁

基板とホトレジスト層との間に下層膜を形成するための下地材であって、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は脂環式基を表し、Ｒ^２はナフチル基またはアントリル基を表し、ｎは０または１の整数を表す］で表される構成単位を有するフェノール樹脂を含有することを特徴とする下地材。例文帳に追加

The base material for forming the underlayer film between a substrate and a photoresist layer contains a phenolic resin having a constitutional unit represented by formula (I), wherein R^1 represents an alicyclic group; R^2 represents naphthyl or anthryl; and n represents an integer of 0 or 1. - 特許庁