カルコゲン化インジウムの英語

二酸化ケイ素：１０〜３０モル％、酸化インジウム：０．５〜３０モル％を含有し、残部がカルコゲン化亜鉛からなる組成を有することを特徴とする。例文帳に追加

This sputtering target comprises 10-30 mol% silicon dioxide, 0.5-30 mol% indium oxide and the balance zinc chalcogenide. - 特許庁

直流スパッタリング可能なカルコゲン化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化インジウム系焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target for formation of an optical logging protection film which is made of zinc chalcogenide/silicon dioxide/indium oxide- based sintered compact and is capable of DC sputtering. - 特許庁

二酸化ケイ素：１０〜３０モル％、インジウム・錫複合酸化物およびアンチモン・錫複合酸化物の内のいずれか１種または２種を合計で５〜３５モル％を含有し、残部がカルコゲン化亜鉛からなる組成を有することを特徴とする。例文帳に追加

This target has a composition containing silicon dioxide of 10 to 30 mol%, one or two kinds of indium-tin multiple oxide and antimony-tin multiple oxide by 5 to 35 mol% in total, and the balance zinc chalcogenide. - 特許庁