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ハマー H2の英語
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該当件数 : 1件
Photographed images of a wafer mark 4a and a mask mark 6 while a wafer and a mask are spaced apart at set intervals H2 are corrected based upon shift directions and shift amounts read out of a previously generated correction table.例文帳に追加
ウエハとマスクを設定間隔H2だけ離したときのウエハマーク4a、マスクマーク6aの撮影画像を、予め作成した補正テーブルから読み出したずれ方向およびずれ量に基づいて補正する。 - 特許庁
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