セーフサーチ：オン
| 例文 (1件) |
ハマー H2の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
Photographed images of a wafer mark 4a and a mask mark 6 while a wafer and a mask are spaced apart at set intervals H2 are corrected based upon shift directions and shift amounts read out of a previously generated correction table.例文帳に追加
ウエハとマスクを設定間隔Ｈ２だけ離したときのウエハマーク４ａ、マスクマーク６ａの撮影画像を、予め作成した補正テーブルから読み出したずれ方向およびずれ量に基づいて補正する。 - 特許庁
| 例文 (1件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
こんにちは ゲスト さん
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
こんにちは ゲスト さん
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
