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二重拡散法の英語
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英訳・英語 double diffusion
「二重拡散法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 21件
二重拡散MOSFET及びその製造方法例文帳に追加
DOUBLY DIFFUSED MOSFET AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
縦型二重拡散MOSFETとその製造方法例文帳に追加
VERTICAL DOUBLE DIFFUSION MOS FET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
第一拡散網点の一部と第二拡散網点は少なくとも一部が重なり、且つ第一拡散網点の寸法は第二拡散網点の寸法より小さい。例文帳に追加
A part of the first diffusion dots and at least a part of the second diffusion dots are overlapped and a dimension of the first diffusion dot is smaller than the dimension of the second diffusion dot. - 特許庁
横型二重拡散型MOSトランジスタおよびその製造方法例文帳に追加
LATERAL DOUBLE-DIFFUSED MOS TRANSISTOR AND ITS FABRICATION PROCESS - 特許庁
横型二重拡散型MOSトランジスタおよびその製造方法、並びに集積回路例文帳に追加
LATERAL DOUBLE-DIFFUSED MOS TRANSISTOR, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁
高電圧用トランジスタの製造方法においてシリコン窒化膜を不純物注入時に防護膜とすることによってスペース酸化膜を形成しなくてもソース/ドレイン拡散領域を二重拡散ドレインジャンクション構造とし一度のパターン工程及びイオン注入工程により安定した二重拡散構造のソース/ドレイン拡散領域を形成する。例文帳に追加
To provide a high-voltage transistor whose source/drain diffusion region can become a double diffusion drain junction structure, without forming a space oxide film by using a silicon nitride film as a protection film at impurity implantation, and for which the source/drain diffusion region of a more stabilized double diffusion structure can be formed by a one-time pattern process and an ion implantation process. - 特許庁
また、本発明の拡散接合方法は、二つの被接合部材1の表面に気体のグロー放電によるイオンボンバード処理を施した後、この二つの被接合部材1を重ね合わせ押圧するとともに加熱して拡散接合する。例文帳に追加
In addition, in the diffusion welding method, after the ion bombardment treatment by the gaseous glow discharge is performed on the surface of the two members 1, the two members 1 are superposed on each other, pressurized, and heated for the diffusion welding. - 特許庁
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「二重拡散法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 21件
フィルタ部13には、第一拡散板14と第二拡散板15との間に介挿される正面視凹状の中間拡散板16が設けられていて、3枚が重合させられた状態で、寸法d2の一定間隔の間隙を有するフィルタ収容部17が形成されている。例文帳に追加
In a filter part 13, an intermediate diffusion plate 16, having a recessed shape in front view is provided which is interposed between a first diffusion plate 14 and a second diffusion plate 15. - 特許庁
製造工程を簡素化することができる、トレンチゲート構造の縦型二重拡散MOSトランジスタを有する半導体装置およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a semiconductor device having a vertical double diffusion MOS transistor in a trench gate structure, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device capable of simplifying a manufacturing process. - 特許庁
横型二重拡散MOSトランジスタのオン抵抗を上昇させることなく、オン状態でのソース-ドレイン領域間の耐圧を向上できる半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device and a manufacturing method of semiconductor device, increasing the voltage endurance between source and drain regions in an ON state without increasing the ON resistance of a lateral double-diffusion MOS transistor. - 特許庁
そして、目標関数の感度を導出し(ステップS23)、また二重井戸型ポテンシャルf(φ)を導出して、反応拡散方程式を有限体積法により解く(ステップS24)。例文帳に追加
A sensitivity of the target function is drawn out (step S23), a double well type potential f(ϕ) is drawn out, and reaction diffusion equation is solved by a finite volume method (step S24). - 特許庁
寄生バイポーラトランジスタの動作の抑制と二重拡散型MOSトランジスタのオン抵抗の低減とを好適に両立することのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor and the manufacturing method of the same capable of optimally compatible with both of the suppression of operation of a parasitic bipolar transistor, and of the reduction of on-resistance of a double diffused MOS (metal oxide semiconductor) transistor. - 特許庁
電気二重層キャパシタを構成する電極の静電容量を増加する方法として、大気圧下で簡便な装置を用いて行うことができ、キャパシタセルとした時にイオンの拡散抵抗に影響を及ぼさない方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of increasing a capacitance of an electrode constituting an electric double layer capacitor in which a simple device can be used under atmospheric pressure, and ion diffusion resistance is not affected when the electrode constituting the electric double layer capacitor is assembled as a capacitor cell. - 特許庁
電極の成形体を補強しクラック、われの発生を防止し、イオンの拡散披抗を下げ、高電流密度における静電容量を増加させ、大型の電極の作製が可能となる電気二重層コンデンサ電極の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide the manufacturing method of an electric double layer capacitor electrode capable of reinforcing the molding of an electrode, preventing the generation of cracks, lowering the diffusion resistance of ions, increasing capacitance at a high current density, and manufacturing a large-sized electrode. - 特許庁
水底に土砂を投入する際に、内管と外管との隙間と、内管の内部とを循環する循環流を生じ易くして円滑な土砂投入と汚濁の拡散抑制を可能にする二重管トレミー装置および土砂の投入方法を提供する。例文帳に追加
To provide a double pipe tremie device which enables the smooth throwing-in of sediment and the inhibition of diffusion of pollution by easily generating a circulating flow circulating through the gap between inner and outer pipes and the inside of the inner pipe, when the sediment is thrown to the bottom of the water; and to provide a method for throwing the sediment. - 特許庁
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