光電子角分布の英語

電子線入射角度測定装置、電子線入射角度分布測定装置、電子線露光装置、電子線入射角度測定方法及び電子線入射角度分布測定方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE MEASURING APPARATUS, ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE DISTRIBUTION MEASURING APPARATUS, ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS, ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE MEASURING METHOD AND ELECTRON BEAM INCIDENT ANGLE DISTRIBUTION MEASURING METHOD - 特許庁

（表面元素分析）：フォトレジスト膜の膜面に光電子分光装置を使用してＸ線を照射し、発生する二次電子の量を、前記膜面に対して９０°の角度で測定し、前記フォトレジスト膜のフッ素原子と炭素原子のそれぞれの分布量を測定する。例文帳に追加

The surface element analysis is carried out by irradiating a film surface of the photoresist film with X-rays using a photoelectron spectrometer, measuring the amount of generated secondary electrons at an angle of 90° with respect to the film surface, and measuring the respective distribution amounts of fluorine atoms and carbon atoms of the photoresist film. - 特許庁

Ｘ線源２により２つのＸ線Ｘ１，Ｘ２を試料に同時照射し、この試料から放出された２つの光電子Ｅ１，Ｅ２の光電子スペクトルを、エネルギー分析器３によりこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を１回実行して光電子強度分布パターンを取得する。例文帳に追加

A sample is irradiated simultaneously with two X-rays X1, X2 by an X-ray source 2, and one-time scanning is executed for detecting simultaneously photo-electron spectrums of two photo-electrons E1, E2 emitted from the sample by an energy analyzer 3 over a prescribed solid angle spread from the irradiation spot, to thereby acquire a photo-electron intensity distribution pattern. - 特許庁