反回性促通の英語

プラズマ発生領域３に反応性ガスを供給し、該領域で発生したプラズマをプラズマ遮蔽板７により形成された迂回路を通して基板１９が置かれた成膜室５に導入せしめ、成膜室５において、光照射によりＣＶＤ反応を促進させながら基板１９上に成膜することを特徴とする。例文帳に追加

The method comprises feeding a reactive gas into a plasma generating region 3, introducing the plasma generated in the region into a deposition chamber 5 containing a substrate 19 through a bypass formed by a plasma shield 7, and forming a film on the substrate 19 while promoting a CVD reaction by photoirradiation in the deposition chamber 5. - 特許庁