斥力ポテンシャルの英語

斥力ポテンシャルと引力ポテンシャルを合成したポテンシャルを用いて、閾値を順次決定していく。例文帳に追加

A threshold value is sequentially determined by using a potential resulting from composing a repulsive force potential and an attracting force potential. - 特許庁

斥力ポテンシャルの合計が計算される各閾値ドットの中で、例えば、閾値ドットＤｏが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、その移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求め、移動前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる画素に閾値ドットＤｏを移動させる。例文帳に追加

When, for example, a threshold dot Do gives the largest total of repulsion potentials among respective threshold dots for calculating a total of repulsion potentials, a change in repulsion potential before and after its moving is determined and the threshold dot Do is moved to a pixel at which a total of repulsion potentials is smallest before and after the moving. - 特許庁

斥力ポテンシャルの合計が計算される各閾値ドットの中で、例えば、閾値ドットＤｏが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、その移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求め、移動前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる画素に閾値ドットＤｏを移動させる。例文帳に追加

When, for example, a threshold dot Do gives the largest total of repulsive potentials among respective threshold dots for calculating a total of repulsive potentials, a change in repulsive potential before and after its moving is determined, and the threshold dot Do is moved to a pixel at which a total of repulsive potentials is smallest before and after the moving. - 特許庁

マスクを製造する際、斥力ポテンシャルをブロックパターンのプレーンとの間で計算する。例文帳に追加

Repulsive potential is calculated in-between a plane of the block pattern when manufacturing the mask. - 特許庁

斥力ポテンシャルの合計が計算される各記録許容画素の中で、例えば、記録許容画素Ｄｏが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、その移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求め、移動前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる画素に記録許容画素Ｄｏを移動させる。例文帳に追加

In respective allowable recording pixels where the total of repulsion potentials are calculated, for example, when the total of the repulsion potentials is the greatest in an allowable recording pixel Do, a variation in repulsion potential before and after the movement is obtained and to the pixel with the lowest total of the repulsion potentials before and after the movement, the recording allowable pixel Do is moved. - 特許庁

そして、前述した斥力ポテンシャル計算の結果に基づきプレーンＰ１〜Ｐ４のドット配置パターンの配置を定める。例文帳に追加

Besides, the arrangements of the dot arrangement patterns of the planes P1 to P4 are determined on the basis of the results of the repulsive potential computations. - 特許庁

これら４つのプレーンのドット配置パターンの配置を定める処理では、それぞれのプレーンにおけるドット配置パターン同士の斥力ポテンシャルや、１つのプレーンにおけるドット配置パターンと他のプレーンにおけるドット配置パターンとの間の斥力ポテンシャルを計算する。例文帳に追加

In the processing for determining the arrangements of the dot arrangement patterns of the four planes, the repulsive potential between the dot arrangement patterns in each plane and the repulsive potentials among the dot arrangement pattern in one plane and the dot arrangement patterns in the other planes are computed. - 特許庁