微細化されたマスクパターンの転写においても、設計値との相似性を損なうことなく、設計当初の選択領域が得られる半導体製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor-manufacturing method for obtaining a selection region at the beginning of design without losing the similarity of a design value even in the transfer of a fined mask pattern. - 特許庁

外面と内面の両面を累進面とする両面累進レンズとすると共に、外面の面加入度をマイナスとし、外面と内面の平均面屈折力分布が相似になるように累進面形状を設計する。例文帳に追加

A double-sided progressive lens using both the outer and inner surfaces as progressive surfaces is prepared, the face addition of the outer surface is made minus and progressive surface profile is designed so that the average surface refraction distributions of the outer and inner surfaces are made similar. - 特許庁