酸化重水素の英語

半導体基板に半導体素子を形成し、前記半導体素子上に、窒素を含むシリコン酸化膜を形成し、前記窒素を含むシリコン酸化膜中に、重水素を導入し、前記半導体基板を加熱して、重水素を拡散する。例文帳に追加

The method comprises the steps of: forming a semiconductor device on a semiconductor substrate; forming silicon oxide film including nitrogen on the semiconductor device; introducing the heavy hydrogen to the silicon oxide film including the nitrogen; and diffusing the heavy hydrogen by heating the semiconductor substrate. - 特許庁

熱エネルギー発生方法は、重水素超吸収性を有するＰｄ含有合金の粉末の表面の酸化物が除去されるように粉末を処理するステップと、高純度の重水素ガスを処理された粉末に供給するステップとを包含する。例文帳に追加

This thermal energy generation method includes a step of treating the powder so that the oxide on the surface of powder of the Pd containing alloy having deuterium super-absorptivity is removed, and a step of supplying high-purity deuterium gas to the treated powder. - 特許庁

また、半導体基板に、窒素を含むシリコン酸化膜による素子分離膜を形成し、前記素子分離膜に、重水素を導入し、前記素子分離膜により区画された、前記半導体基板における素子領域に、半導体素子を形成し、前記半導体基板を加熱して、重水素を拡散する。例文帳に追加

In addition, the method comprises the steps of: forming element isolation film consisting of the silicon oxide film including the nitrogen; introducing the heavy hydrogen to the element isolation film; forming the semiconductor device to element region in the semiconductor substrate divided in zone by the element isolation film; and diffusing the heavy hydrogen by heating the semiconductor substrate. - 特許庁

酸化物膜を半導体層１１として有する電界効果型トランジスタであって、酸化物膜の中に、水素又は重水素が添加されたソース部位及びドレイン部位を有している。例文帳に追加

A field effect transistor having an oxide film as a semiconductor layer 11 has a source and a drain to which hydrogen or heavy hydrogen is added into the oxide film. - 特許庁

真空雰囲気中に置いた酸化物基板を加熱することなしに、その表面に原子状水素および原子状重水素のうち少なくとも一方を接触させて該酸化物基板の表面を清浄化処理することを特徴とする酸化物基板の清浄化方法。例文帳に追加

In the cleaning method of an oxide substrate, at least one of atomic hydrogen and atomic deuterium is brought into contact with the surface of the oxide substrate to clean the surface of the oxide substrate without heating the oxide substrate placed in a vacuum atmosphere. - 特許庁

（四）　二酸化炭素レーザー発振器（ふっ化重水素からの励起移動によって励起するように設計したものを除く。）であって、次のいずれかに該当するもの例文帳に追加

4. Carbon dioxide laser oscillators (excluding those designed to excite by excitation transfer from deuterium fluoride) which fall under any of the following発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

また、アモルファス酸化物膜に含有される水素原子又は重水素原子の濃度が１０^１７／ｃｍ^３以上１０^１９／ｃｍ^３以下であることを特徴とする。例文帳に追加

Further, the concentration of the hydrogen or deuteron atoms contained in the amorphous oxide film is at least 10^17 /cm^3 to at most 10^19 /cm^3. - 特許庁

得られるシステムは、シース液として、酸化デューテリウムなどの重水素化溶剤を用いるので、Ｈ／Ｄ交換実験をオンラインで実施することができる。例文帳に追加

The resulting system employs deuterated solvent, such as deuterium oxide, as the sheath liquid, which allows H/D exchange experiments to be performed on-line. - 特許庁