高周波スパッタ蒸着の英語

ＳｉＧｅ半導体薄膜を、スパッタ蒸着方法により作製する方法であって、ターゲット上に発生するプラズマの周辺に、高周波コイルを設置し、電流を流すことで、良質のプラズマを発生させて、スパッタ蒸着後の半導体特性が優れている薄膜を作製することからなるＳｉＧｅ半導体薄膜の作製方法、及びＳｉＧｅ薄膜。例文帳に追加

With regard to a method of producing an SiGe semiconductor thin film by sputter deposition, a high frequency coil is installed around plasma generated on a target, and a current is made to flow to generate high-quality plasma, thereby producing a thin film having excellent semiconductor characteristics after sputter deposition. - 特許庁