高周波スパッタリング法の英語

高周波スパッタリング装置の自己バイアスを制御する手法により高品質の磁気抵抗薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a high-quality magnetoresistive thin film by using a method for controlling self bias of a high-frequency sputtering device. - 特許庁

高周波放電法によってプラズマを発生する場合に、電極がスパッタリングされてプラズマ中に不純物が混入するという従来技術の問題点を解決して、高純度のプラズマを発生できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method to generate a high purity plasma by solving the problems of the prior-art wherein an electrode is sputtered and impurities are mixed into the plasma when the plasma is generated by a high frequency discharge method. - 特許庁

液晶表示用のカラーフィルタ上に、高周波スパッタリング法で８０ｎｍの厚みの酸化ジルコニウムの凹凸形成層を成膜し、その上にアーク放電プラズマ法で３００ｎｍのＩＴＯ膜を成膜し２層構成の膜とした。例文帳に追加

This ITO transparent conductive film 21 is a laminated body of a ruggedness forming layer 23 and an ITO layer 22. - 特許庁

高周波マグネトロンスパッタリング法においては、ターゲット２上にチップ３を置き、ターゲット２と基板１の間に電圧を印加することにより、基板１上に薄膜を形成する。例文帳に追加

The thin film is formed on the substrate 1 by putting a chip 3 on a target 2, and applying a voltage between the target 2 and the substrate 1. - 特許庁

また、固体電解質２６は、リン酸リチウム及び酸化リチウムの混合粉体をターゲットとして高周波スパッタリング法により作製されていることが好ましい。例文帳に追加

Furthermore, it is preferable that the solid electrolyte 26 be manufactured by a high-frequency sputtering method, by using a mixed powder of lithium phosphate and lithium oxide as a target. - 特許庁

また、固体電解質２６は、β相のリン酸リチウムの粉体をターゲットとして高周波スパッタリング法により作製されていることが好ましい。例文帳に追加

Furthermore, it is preferable that the solid electrolyte 26 be manufactured by a high-frequency sputtering method, by using a powder of lithium phosphate of β phase as a target. - 特許庁

この複合構造薄膜材料は、高周波スパッタリング法により上記一般式で表されるアモルファス薄膜を成膜し、これを不活性雰囲気中において５００〜８００℃で熱処理して結晶化することにより製造される。例文帳に追加

The composite structure thin film material is prepared by forming an amorphous thin film represented by the general formula by a high frequency sputtering method and crystallizing the thin film by heat treatment at 500 to 800°C in an inert atmosphere. - 特許庁

高周波スパッタリング法等により一括して製造することができ、半導体ナノスケール粒子がＮｂ_２Ｏ_５単相マトリクスに均一に分散した構造の半導体ナノ複合構造薄膜材料およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor nano composite structure thin film material which can be manufactured collectively by a high frequency sputtering method, etc. and which has a structure in which semiconductor nano scale particles are dispersed uniformly in an Nb_2O_5 single phase matrix; and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁