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高温顕微鏡装置の英語
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基板5上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー2を用いて無機材料を含む溶液6によるパターン描画を行った直後に、同一装置1内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン8を加熱処理する。例文帳に追加
A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5. - 特許庁
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