Adhesion Promoter Unitとは 意味・読み方・使い方

The deposition apparatus for depositing a polyimide film on a substrate comprises: a heating mechanism 62 for heating a substrate which has been carried in a deposition container 60; an adhesion promoter supply mechanism 80 for supplying an adhesion promoter gas produced by gasifying an adhesion promoter into the deposition container 60; and a control unit 100 which controls the heating mechanism 62 and the adhesion promoter supply mechanism 80.例文帳に追加

基板にポリイミド膜を成膜する成膜装置において、成膜容器６０内に搬入されている基板を加熱する加熱機構６２と、成膜容器６０内に密着促進剤を気化させた密着促進剤ガスを供給する密着促進剤供給機構８０と、加熱機構６２と密着促進剤供給機構８０とを制御する制御部１００とを有する。 - 特許庁

After the substrate is carried in the deposition container 60 before the temperature of the substrate rises to a predetermined temperature when a polyimide film is deposited on the substrate, the control unit 100 controls the adhesion promoter supply mechanism 80 so as to supply the adhesion promoter gas into the deposition container 60 and to process the surface of the substrate by the adhesion promoter gas.例文帳に追加

制御部１００は、基板を成膜容器６０内に搬入した後、加熱機構６２により、基板の温度を、基板にポリイミド膜を成膜するときの所定温度まで上昇させる間に、密着促進剤供給機構８０により密着促進剤ガスを成膜容器６０内に供給し、基板の表面を密着促進剤ガスにより処理するように、制御する。 - 特許庁