密着強化ユニットの英語

搬送ロボットが複数枚の基板を順次に密着強化ユニットＡＨ、冷却ユニットＣＰ１、塗布処理ユニットＳＣ１、加熱ユニットＨＰ１の順に搬送し、それら複数枚の基板に順次にレジストを塗布している。例文帳に追加

A carrying robot carries a plurality of substrates sequentially through an adhesion enhancing unit AH, a cooling unit CP1, a coating unit SC1, and a heating unit HP1 and the plurality of substrates are coated with resist sequentially. - 特許庁

また、現像処理部２２ａの下側には、４個の密着強化処理ユニットＡＨＬが配置された密着強化処理部２１が設けられる。例文帳に追加

Also, on the lower side of the development processing part 22a, an adhesion enhancement processing part 21 where four adhesion enhancement processing units AHLs are disposed is provided. - 特許庁

密着強化処理ユニット１においては、カバー２０の内部に仕切壁８１が設けられることによりカバー２０の内側にバッファ空間Ｂが形成される。例文帳に追加

In an adhesion enhancement processing unit 1, a partition 81 is provided in a cover 20 to form a buffer space B inside the cover 20. - 特許庁

密着強化処理を行う密着強化処理ユニット１において、密閉された処理空間Ｖを形成するチャンバ１０と、処理空間Ｖに所定の処理ガス（気化した密着強化剤）を供給する処理ガス供給部５０と、処理空間Ｖ内に配置され、基板Ｗを載置するプレート２０とを備える。例文帳に追加

A contact enhancement treatment unit 1 which performs a contact enhancement treatment includes a chamber 10 which forms a sealed treatment space V, a treatment gas supply portion 50 which supplies a predetermined treatment gas (vaporized contact enhancing agent) to the treatment space V, and a plate 20 which is disposed in the treatment space V and mounted with a substrate W. - 特許庁

突起部の投影面積削減と密着力の強化を両立し、なおかつ、突起部の熱ストレスによる伸縮起因のせん断力を最小化し、なおかつ、突起部の位置ズレが生じても密着を維持できる光学シート、バックライトユニット及び表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical sheet, a backlight unit and a display device, attaining compatibility between a projection area reduction of a projecting part and strengthening of contact force, minimizing shearing force due to elongation and contraction caused by thermal stress of the projecting part, and maintaining contact even if the projecting part shifts. - 特許庁

この構成によると、現像処理ブロック２０以外の他の処理ブロックに密着強化処理部を設ける必要がなくなるので、処理時間が比較的長い処理を行う処理部（例えば、反射防止膜を塗布後の熱処理を行う熱処理ユニット）の個数をその分だけ増加させることができる。例文帳に追加

By the configuration, since the need of providing the adhesion enhancement processing part in processing blocks other than the development processing block 20 is eliminated, the number of processing parts (a heat processing unit for performing heat processing after applying an antireflection film, for instance) to perform the processing of relatively long processing time is increased accordingly. - 特許庁