Backside Rinseとは 意味・読み方・使い方

To provide an SOG application device where back rinse for cleaning a wafer backside is performed without using organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を用いずにウェハ裏面を洗浄するバックリンスが行えるＳＯＧ塗布装置を提供する。 - 特許庁

An O3 water supply nozzle for back rinse 15 is arranged at the base of the drain cup 13 below the backside of the wafer WF.例文帳に追加

ウェハＷＦ裏面側下方のドレーンカップ１３底部にバックリンス用Ｏ_3 水供給ノズル１５が配設されている。 - 特許庁

The axis 6 of rotation of the motor 5 is constituted by a hollow object, and a back rinse nozzle 9 for backside cleaning is inserted in the interior of the hollow object, penetrates the wafer chuck 2 and protrudes onto a back side of the wafer W.例文帳に追加

モータ５の回転軸６は中空体により構成され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル９が挿入され、ウェーハチャック２を貫通してウェーハＷの裏面側に突出している。 - 特許庁

Using the edge rinse apparatus including a substrate chuck 102 for sucking a substrate 101, a motor 103 for rotating the substrate chuck, a nozzle for discharging a developing solution onto the surface of the substrate, a nozzle 107 for discharging a developing solution onto the backside of the substrate, and an exposure means 108 for masking the substrate chuck, the resist coated on unnecessary parts is exposed to light and developed.例文帳に追加

基板を吸着する基板チャックと、前記基板チャックを回転させるモーターと、基板の表面に現像液を吐出するノズルと、基板の裏面に現像液を吐出するノズルと、前記基板チャックをマスクとする露光手段とを有するエッジリンス装置を用いて、不要部分に塗布されているレジストを露光し現像する。 - 特許庁