Radical 43とは 意味・読み方・使い方

This radical-supplying device 40 has a plasma generation region 43 where the plasma is generated by a plasma source 50 and a radical generation region 44 where the radical is generated by the plasma.例文帳に追加

このラジカル供給装置４０は、プラズマ源５０によりプラズマが生成されるプラズマ生成領域４３と、プラズマによりラジカルが生成されるラジカル生成領域４４とを有する。 - 特許庁

The hydrogen radical feeding mechanism 40 includes a vessel 51 for generating hydrogen radicals, a hydrogen gas feeding mechanism 42 for feeding hydrogen gas in the vessel 51, a catalyst wire 53 provided in the vessel 51, a variable DC power source 56 for heating the catalyst wire 53, and a hydrogen radical introducing pipe 43 for introducing the hydrogen radicals generated by the contact of the hydrogen gas with the catalyst wire 53 heated in the vessel 51 into the chamber 1.例文帳に追加

水素ラジカル供給機構４０は、水素ラジカルを生成する容器５１と、容器５１内に水素ガスを供給する水素ガス供給機構４２と、容器５１内に設けられた触媒ワイヤ５３と、触媒ワイヤ５３を加熱する可変直流電源５６と、容器５１内で加熱された触媒ワイヤ５３に水素ガスが接触して生成した水素ラジカルをチャンバ１に導入する水素ラジカル導入配管４３とを有する。 - 特許庁