Radical 4とは 意味・読み方・使い方

A vacuum vessel 1 is separated into a radical generating chamber 3 and a film forming chamber 4 with a separation wall 2.例文帳に追加

真空容器１内は隔壁２によりラジカル生成室３と成膜室４とに分離されている。 - 特許庁

A radical oxygen water generating device comprises a solid electrolyte membrane 5, an anode part 6, and a cathode part 4.例文帳に追加

ラジカル酸素水生成装置は、固体電解質膜５と、陽極部６と、陰極部４とを具備する。 - 特許庁

The polytetrafluoroethylene 4 is not etched by fluorine gas ion and radical, and does not produce pinholes because it has low melting point caused by low molecular weight.例文帳に追加

四フッ化エチレン樹脂4 はフッソガスイオンやラジカルによってエッチングされず、かつ低分子量であるので融点が低くピンホールを生じない。 - 特許庁

A radical nitride film nitrided by a radical nitriding method is used as the constituting material of the insulation layer 4 for the ferromagnetic tunnel junction 6 formed of the film structure of a first magnetic layer 3/an insulation layer 4/a second magnetic layer 5.例文帳に追加

本発明は、第１の磁性層３／絶縁層４／第２の磁性層５の膜構造からなる強磁性トンネル接合６の絶縁層４を構成する材料として、ラジカル窒化法で窒化したラジカル窒化膜を用いる。 - 特許庁

To provide a method for preparing an organic radical compound (4-Phosphonooxy-TEMPO) to be used for an electrochromic device, and to provide an electrochromic device using the compound.例文帳に追加

エレクトロクロミック装置に使用される有機ラジカル化合物（4-Phosphonooxy-TEMPO）の製造方法及びこれを用いたエレクトロクロミック装置を提供すること。 - 特許庁

A deposit 21 deposited during etching of the insulating film 4 is removed by radical etching without ion impact.例文帳に追加

絶縁膜４のエッチング中に堆積した堆積物２１を、イオン衝撃を用いないラジカルエッチングにより除去する。 - 特許庁

Moreover, since the radical generating chamber 3 and film forming chamber 4 are integrated, the apparatus as a whole can be reduced in size.例文帳に追加

また、ラジカル生成室３と成膜室４とを一体化しているので、装置全体を小型化することができる。 - 特許庁

The sterilization apparatus sterilizes an object 3 to be sterilized by the reducing power of a hydrogen radical with the entire surface of the object 3 to be sterilized exposed to the hydrogen radical (H^*) gas by putting the object to be sterilized on a mounting base 2 in a chamber 1, and by supplying the hydrogen radical (H^*) generated in a hydrogen radical generation section 4 into the chamber 1.例文帳に追加

チャンバー１内の載置台２上に滅菌対象３を置き、水素ラジカル生成部４で発生させた水素ラジカル（Ｈ^＊）をチャンバー１内に供給することにより、滅菌対象３の全面を水素ラジカル（Ｈ^＊）ガスに曝すことにより、水素ラジカルの還元力で滅菌対象を滅菌する。 - 特許庁