Radical 38とは 意味・読み方・使い方

In a radical-generating chamber 41 disposed outside the reaction chamber 10, hydrogen radicals 38 are generated by decomposing a radical source gas 36 containing hydrogen using an RF wave and the like.例文帳に追加

一方、反応室１０の外部に設けられたラジカル発生室４１において、少なくとも水素を含むラジカル源ガス３６をＲＦ波等により分解して水素ラジカル３８を生成する。 - 特許庁

The hydrogen radical 38 is injected inside the plasma atmosphere 34, and carbon nanowalls are formed on the surface of a substrate 5 arranged on the second electrode 24.例文帳に追加

その水素ラジカル３８をプラズマ雰囲気３４中に注入して、第二電極２４上に配置した基板５の表面にカーボンナノウォールを形成する。 - 特許庁

Since dissociation of the processing gas jetted from the central shower heads and the peripheral shower heads takes place in an area directly below the inner upper electrode 38, the spatial distribution of the radical density is not influenced significantly when the balance of the field strength is varied between the inner upper electrode 38 and the outer upper electrode 36.例文帳に追加

つまり、上記中心シャワーヘッドと上記周辺シャワーヘッドより噴出される処理ガスの解離が内側上部電極３８直下のエリア内で行なわれるため、内側上部電極３８と外側上部電極３６との間で電界強度のバランスを変えても、ラジカル密度の空間分布にはさほど影響しない。 - 特許庁

A liquid crystal monomer with an acrylate group attached thereto, which includes a polymerization initiator and has one out of a triplet quencher or a radical quencher, or both of them, added thereto, is used as a material for forming a retardation layer 38 to be formed on a principal surface of a first substrate 31.例文帳に追加

第１の基板３１の主面に形成する位相差層３８の形成材料として、重合開始剤を含み、かつ三重項消光剤もしくはラジカル消光剤の何れか、又は双方を添加したアクリレート付き液晶モノマーを用いる。 - 特許庁

The radical forming part 37 comprises a first electrode 39 constituting a discharge port 38, a second electrode 40 provided as a counter electrode of the first electrode 39, and a sheet-like solid electrolyte 41 contacting the first and second electrodes 39, 40, disposed in a space 36 in the nozzle 22 to come into contact with the treated liquid discharged from the discharge port 38.例文帳に追加

ラジカル生成部３７は、吐出口３８を構成する第１電極３９と、第１電極３９の対極として設けられる第２電極４０と、第１および第２電極３９，４０に接し、かつノズル２２内の空間３６にあって吐出口３８から吐出されるべき処理液に接するように設けられるシート状の固体電解質４１とを含んで構成される。 - 特許庁

A pretreatment unit 16 where a substrate 3 on which a Cu layer with an anticorrosive adsorbed is formed is exposed to either a radical atmosphere or an ionic atmosphere; and a plating part 38 where the Cu layer formed on the substrate 3 exposed by the pretreatment unit 16 is plated with a prescribed metal are provided.例文帳に追加

防食剤が吸着したＣｕ層が形成された基板３をラジカル雰囲気とイオン雰囲気とのいずれかに暴露する前処理ユニット１６と、上記前処理ユニット１６により暴露された基板３に形成されたＣｕ層に所定の金属をめっきするめっき部３８とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In the plasma etching system, control of plasma density spatial distribution performed by varying the ratio of field strength between an outer upper electrode 36 and an inner upper electrode 38 has substantially no effect on the control of radical density spatial distribution performed by varying the ratio of flow rate of processing gas between central shower heads (62, 56a) and peripheral shower heads (64, 56a).例文帳に追加

このプラズマエッチング装置では、外側上部電極３６と内側上部電極３８との間で電界強度の比率を可変することによって行なわれるプラズマ密度空間分布の制御が、中心シャワーヘッド（６２，５６ａ）と周辺シャワーヘッド（６４，５６ａ）との間で処理ガスの流量の比率を可変することによって行なわれるラジカル密度空間分布の制御に実質的な影響を及ぼさない。 - 特許庁